技术编号：8362830
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。加速器产生的束流横向截面的粒子分布一般是高斯分布的，即轰击到靶上的粒子分布是不均匀的。在某些工业电子辐照场合，对束流辐照均匀度要求是很高，例如对半导体材料的辐照。此外，在重离子加速器产生的高功率密度的束流轰击靶的时候，为了降低靶的尺寸和实现靶的冷却，需要在束斑扩大的同时，将束流尽量整型为均匀分布的。因此，加速器束流的均匀化是一个非常重要的问题。目前，国内外采用的束流均匀化器件分为非线性多极铁和非线性阶梯场二极磁铁两类。非线性多极铁有八极铁和十二极铁等，非线...
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