技术编号:8362983
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及基板支撑单元及包含该基板支撑单元的基板处理装置,尤其涉及通过基板支撑单元支撑基板并利用等离子处理基板的装置。背景技术为了制造半导体元件,需对基板进行光刻、蚀刻、灰化、离子注入、薄膜沉积及清洗等多种工艺以在基板上形成所需图案。其中,蚀刻工艺是在基板上形成的膜中去除所选择的加热区域的工艺,包括湿法蚀刻和干法蚀刻。其中,为干法蚀刻使用利用等离子的蚀刻装置。一般而言,为了形成等离子,在处理室的内部空间形成电磁场,电磁场将供应至处理室内的工艺气体激发为等离...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。