技术编号：8417653
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 过去五十年来，半导体产业已根据摩耳定律（Moore' s Law)成长。摩耳定律粗略 认为集成电路上的晶体管数量约每两年会增加一倍。此公式的固有限制为，晶体管密度是 二维拓展，且在某些时候，物理上将限制装置可多小。 近来，制造业者已开发工艺使装置结构扩展成第三维，以提升处理能力。此类装置 的特色通常是有大量材料层相继沉积于基板上。在一些情况下，会形成超过100层。相继 形成这么多层时，各层的不均匀性将相乘，以致产生无法使用的结构。目前的层形成工艺和 设备...
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