技术编号：8426261
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。磁控派射技术是目前最重要的几种真空镀膜物理气相沉积PVD (Physical VaporDeposit1n,真空离子电镀)技术之一。磁控派射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。磁控溅射阴极作为磁控溅射装置的核心器件，主要有圆筒结构和平面结构两种结...
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