技术编号：8429819
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 为了改进用于制造半导体器件等的曝光装置的分辨率，需要校正曝光装置中的投 影光学系统中的光学像差。日本专利公开No. 2005-4146提出了通过使投影光学系统中所 包括的反射镜的反射表面变形来校正投影光学系统中的光学像差的光学装置。 在日本专利公开No. 2005-4146中所描述的光学装置中，反射镜在其外周部分由 支撑构件支撑，并且提供了向反射镜的背面（在反射表面的相反侧的面）施加力的多个有 源致动器和多个无源致动器。无源致动器用于校正其中形状波动相对...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。