技术编号：8457280
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明主要涉及半导体制造领域。特别的，涉及一种在半导体制造工艺的光学关 键尺寸（Optical Critical-Dimension, 0〇))测量设备中"半导体娃片微观结构测量光谱" 与"理论数据库光谱"进行匹配的方法及其设备。背景技术 在45nm以下节点制造技术的发展中，芯片代工厂（foundry)和集成器件制造商 (IDM)面对大量的测量挑战。只有通过严格的尺寸分布控制才能获得完整的电路功能和保 持器件高速工作，因此，成功地在线测量对推进良率和保持...
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