技术编号:8460172
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明设及能够同时制造作为干式蚀刻气体有用的氣代甲烧和3, 3,3-S 氣-2-(=氣甲基)丙酷氣的方法。背景技术 氨氣姪作为半导体、液晶等的微细加工用的蚀刻气体是有用的,特别是氣代甲烧 (C&巧作为用于形成最尖端的微细结构的蚀刻气体备受瞩目。 作为氣代甲烧的制造方法,例如已知有W下的方法。 (1)使用催化剂使甲醇与氣化氨反应的方法(专利文献1)。 (2)使用催化剂使氯代甲烧与氣化氨反应的方法(专利文献2)。 (3)使1-甲氧基-1,1,2, 2...
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