技术编号：8708936
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前太阳能电池锻膜设备中平板PECVD (Plasma Enhanced Chemical VaporD印osit1n等离子体增强化学气相沉积法)镀膜时，如图1所示，在电池背面镀膜过程中，由于等离子体3在硅片I下方，因此需要采用挂钩4将硅片I吊挂在等离子体源上方，而此种悬挂方式，硅片I与载板边框2之间存在缝隙，导致等离子通过缝隙绕镀到电池片上表面，引起硅片上表面边缘镀上一层薄薄的膜，从而导致生产过程中的一些不良问题。发明内容针对现有技术中存在的不足，本实用...
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