技术编号：8906705
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使用高频电力对被处理基板实施等离子体处理的。背景技术在半导体基板和液晶显示装置(LCD)等的平板显示器(FPD)的制造工序中，存在对基板进行等离子体蚀刻、成膜处理等的等离子体处理的工序，为了进行这样的等离子体处理而使用等离子体蚀刻装置、等离子体CVD装置等各种的等离子体处理装置。作为等离子体处理装置，通常使用高频电力生成等离子体。作为使用高频电力的等离子体处理装置，最近，具有能够以高真空度得到高密度的等离子体这样的较大的优点的感应親合等离子体(I...
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