技术编号：8957938
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。高纯度三甲基铝属于高纯金属有机化合物，是利用先进的金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺或原子层沉积薄膜技术(ALD)制备化合物半导体薄膜材料的关键支撑原材料，其广泛运用于LED设备、新一代太阳能电池、相变存储器、半导体激光器、红外探测器和超级计算机等领域。目前三甲基铝的制备已有一定的研究，常见的方法为镁铝合金还原法、烷基铝与卤代烷合成法等。镁铝合金还原法一般采用镁铝合金与氯甲烷进行反应制备三甲基铝，但是该制备方法收率极低。而烷基铝与卤代烷合成法是采用烷基...
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