技术编号：9042633
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备，70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业，是在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光，它常用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制领域。现有的曝光机曝光的尺寸较小，不适用于大尺寸的基板曝光，若将现有的曝光机对大尺寸的基板进行曝光，其曝光的效果极差，基板的曝光面曝光不均匀，特别是基...
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