技术编号：9054086
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种精密测试技术及仪器领域，特别涉及一种新型行程换精度的微位移平台。背景技术近年来，随着微电子/光电子信息器件制造、微纳制造、光机电一体化、超精密加工技术的飞速发展，制造装备对精度的要求越来越高。例如，约束刻蚀剂层技术电化学加工过程中基材和模板之间的距离需要始终控制在约束刻蚀剂层厚度(纳米或者亚微米)以内、扫描探针显微镜需要实现单分子或原子的纳米操作或装配、纳米压印装备要实行复杂图形的1nm尺度的成形复制、超精密金刚石车床加工光学零件的形状精度和...
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