技术编号：9221223
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。Tuomo Suntola博士早在20世纪70年代就发明了原子层外延(ALE)方法。该方法的另一通用名称为原子层沉积(ALD)，现今已代替ALE使用。ALD是基于向至少一个基底顺序弓I入至少两种反应前体物种的特殊化学沉积方法。通过ALD生长的薄膜致密、没有小孔并具有均匀的厚度。例如，在一种实验中，通过热ALD由三甲基铝(CH3)3Al (也称为TMA)和水于250_300°C生长的氧化铝仅在基底圆片上具有大约I%的不均匀性。ALD技术的一个感兴趣的应用是小...
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