技术编号：9264377
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及一种能够通过等离子体而沉积的粉末、一种制造这种粉末的方法以及 通过等离子喷涂所述粉末获得的衬里。背景技术 用于处理（例如通过等离子刻蚀）半导体（例如硅晶片）的腔室的内表面，通常 利用由等离子喷涂施加的陶瓷衬里进行保护。该衬里必须高度耐含卤等离子体或者高腐蚀 性环境。作为进料粉末，等离子喷涂需要呈现出良好的流动性和颗粒形态的粉末，其能够在 喷涂期间适当加热。尤其，颗粒的大小对于颗粒来讲必须足以透过等离子体且限制由蒸发 造成的损失。 例如，为了形成...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。