技术编号：9305565
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一般而言，为了藉由使用最小化手动加工的过程来形成基板，此过程可涉及类似显影(Photolithography)、电锻(electroplating)、蚀刻(etching)等技术。显影已经是用以在基板(substrate)上形成结构图案的可靠方法，且在沉积(cbposit)于基板上的物质的图案部分的制造过程中使用显影的过程基本上涉及一种或多种具有特定图案的光掩膜(photo mask)，其中此特定图案自光掩膜传送至光敏(light-sensitive)光致...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。