技术编号：9308470
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。特别地，在微光刻领域，除了使用以最高可能精度构造的部件，此外还有必要在操作期间根据预定期望值尽可能精确地设定成像装置的光学模块(即，例如具有诸如透镜元件、反射镜或光栅的光学元件的模块)的位置和几何形状，还有使用的掩模和基板的位置和几何形状，或者将这种部件稳定在预定位置或几何形状，以实现对应高成像质量。在微光刻领域中，精度要求处于几纳米或更小数量级的微小范围中。它们尤其是增加用于生产微电子电路的光学系统的分辨率的恒定需求的结果，以促进要生产的微电子电路的小型...
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