技术编号：9326156
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。掩膜版制作方法是在以苏打玻璃或石英玻璃为基材的上表面依次镀铬(Cr遮光层)、氧化铬(CrO层)，感光胶(Resist光阻层)形成的掩膜版原材，使用软件控制曝光装置对掩膜版原材进行电子束曝光或激光曝光，再通过化学制程，即通过化学药液对感光胶及部分铬层去除从而形成设计者所需的图形图案，将图形图案铬印在玻璃基版上即成为光电行业用掩膜版。随着光电产业的高速发展，掩膜版应用也随之扩大，目前掩膜版在TP、LED、IC等制造行业中应用广泛，也是各行业必不可少的重要模具之...
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