技术编号：9337959
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。光致刻蚀法作为一种重要的精细加工技术，在光储存、微电子、微光机电和全息光栅等领域有着广泛的应用。实施光致刻蚀的第一个工艺步骤就是光致刻蚀剂(简称光刻胶)的涂覆，也称匀胶工艺，他关系到整个工艺流程的成败，因此备受相关领域技术人员的重视。匀胶工艺最关键是要控制好光刻胶膜的厚度及其均匀性。如果用在制作全息光栅掩模，光刻胶膜的厚度直接影响最终制得光栅的衍射效率；若是用作离子束刻蚀掩模，则直接影响最终制得光栅的闪耀角。目前，常用的匀胶方法是离心式涂覆法(简称旋涂法)...
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