用于化学机械研磨垫的调节的方法及设备的制造方法技术资料下载

技术编号:9355361

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在集成电路与基板上其他电子元件的制造中,于该基板的特征侧(亦即接受沉积 表面)上沉积、或从该特征侧上移除多层传导性、半导性与介电材料。随着材料层被依序沉 积与移除,该基板的该特征侧会变得不平坦而需要平坦化及/或研磨。平坦化与研磨是自 该基板的该特征侧移除先前所沉积的材料、以形成一概呈均匀、平坦或水平表面的程序。这 些程序可用于移除不想要的表面拓扑与表面缺陷,例如粗糙的表面、聚集的材料、晶体晶格 破坏、及刮伤。这些程序也可用于在基板上形成特征,通过移除用以...
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