技术编号：9364193
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在半导体和光电子器件制造过程中，厚度薄至数纳米薄膜的沉积已成为关键工艺。现有技术中，纳米级薄膜的生长主要依靠一些更加精密的沉积技术，如分子束外延、金属有机化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积等系统设备，然而，从经济和环保的角度来讲，上述设备和工艺复杂昂贵且污染较严重。真空蒸镀作为一种成本低廉、工艺简单的物理镀膜方式，适应于规模化的生产流程线，在科研、工业等领域都有广泛应用。常规的真空蒸镀工艺简单，蒸发和沉积的速度快，比较适于微米级较厚薄膜的沉积。当沉积更...
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