用具有不同的沟道材料的nfet和pfet形成cmos的结构和方法技术资料下载

技术编号:9422948

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半导体集成电路(IC)工业已经经历了快速的成长。在IC演变的进程中,功能密度(即,每个芯片面积上互相连接的器件的数量)已经普遍增加,同时几何尺寸(即,可以使用制造处理做出的最小的组件或线)已经减小。此按比例缩小处理一般通过增加生产效率和降低相关联的成本来提供效益。这样的按比例缩小还已经增加了处理和制造IC的复杂性,而为了实现这样的先进性,需要半导体制造中的类似发展。例如,随着半导体工业已经进展到追求更高的器件密度、更高的性能和更低的成本的纳米技术处理节点,...
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