技术编号：9454564
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。阵列基板包括显示区域和非显示区域。图1为现有阵列基板的非显示区域结构示意图。如图1所示，阵列基板的非显示区域包括形成在衬底基板10上的栅极材料区11、绝缘层12和钝化层13等图形。上述栅极材料区11、绝缘层12和钝化层13 —般与显示区域内的栅极、绝缘层和钝化层同层设置，且同步形成。在衬底基板10上形成这些图形一般都需要使用掩模板进行曝光工艺。为在曝光工艺中，使各次掩模板工艺中所使用的掩模板能够与衬底基板之间保持准确且相同的对位关系，一般在第一次掩模板工艺...
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