技术编号：9560837
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 化合物薄膜以各种方式用作半导体器件、半导体集成电路、化合物半导体、太阳能 电池、液晶显示器（LCD)、有机发光二极管（0LED)等的栅极电介质膜或金属间阻隔膜，用作 保护膜，以及用作防止与周围材料化学反应的掩膜等。因此，随着半导体集成电路器件日益 缩小然而具有更复杂的形状，涂覆具有高度阶梯结构的均匀薄膜已经作为重要技术引起关 注。因此，目前，用于改善薄膜特性的原子层沉积（ALD)已经广泛用于各种领域中。 ALD是使用化学气相沉积反应的加工技术，其中气相反...
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