技术编号:9565160
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。带电粒子束柱(charged particle beam column)将一束带电粒子指引到被支撑在台上的样品,以用于对样品进行加工或成像。常常一前一后地(in tandem)使用两个带电粒子束柱(“双束系统”),其中将电子束用于成像并将聚焦离子束用于加工。通常,在双束系统中,在任一柱的下端与样品之间存在至少13_的间隙。此间隙允许将光源放置到柱的侧面以把光倾斜地照射到样品上。并且,可以向间隙中引入一个或多个气体喷嘴,以直接地朝着样品引入期望气体。最近,已...
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