技术编号：96688
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种湿法化学腐蚀装置。用于腐蚀介质薄膜，特别适用于半导体器件生产工艺中Si3N4介质膜的湿法腐蚀。现有的半导体器件工艺中的湿法腐蚀装置，一般都是一个带盖的容器。腐蚀时容器中的腐蚀液被加热后很容易从盖的缝隙中挥发掉，使腐蚀液的组分发生变化，腐蚀速率减慢，影响产品质量。为了解决这一问题，也在在盖子上做一个夹层，通冷却水，使蒸发出来的腐蚀液凝聚滴回原溶液中，但这种做法冷凝效果差，伋有很多腐蚀液蒸汽跑掉。本实用新型的目的是要解决以最佳的冷凝效果来解决腐蚀液因受热而引起的组分变化。本实用新型是这样实现的，它由带...
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