技术编号：9769748
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。扩散炉广泛应用于电力电子器件、半导体器件和晶体硅太阳能电池制造，通过在硅片表面掺杂磷或硼制备PN结。PN结制备是器件和太阳能制造的核心工艺，其优劣直接决定着产品质量的好坏。随着器件制造业的发展，尤其是晶体硅太阳能电池高转换效率方向发展，传统的常压扩散工艺已经很难满足浅结高方阻的工艺需求，掺杂均匀性无法满足先进电池工艺路线的技术需求。减压扩散通过真空系统在石英管内形成负压条件，增加分子的自由行程，提高硅片表面掺杂均匀性;掺杂原子可快速排空，利于减少表面复合、...
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