技术编号：9818494
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及能够用于对基板执行等离子体沉积的等离子体反应器容器，等离子体 反应器容器包括三个电极以及基板载体，基板载体配置为保持基板，以使得基板上和下表 面的大部分保持未被基板载体或者等离子体反应器容器的任何其他部分触摸。还提供了等 离子体反应器组件和执行等离子体处理的方法。背景技术 图1图示常规的等离子体电容器处理反应器100。第一平面电极包括面对基板11的 金属板2。第一电极2经由入口 3被馈送有RF电压，并且被接地衬里4包围。现代的PECVD反应 器...
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