技术编号：9908309
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，属于矿物透射样品制备。背景技术目前，透射电镜(透射电子显微镜，Transmiss1n Electron Microscope，简称透射或透射电镜)样品的制备方法主要有电解抛光法、超薄切片法、离子减薄法和FIB(Focused 1n Beam，聚焦离子束)法等，其中，电解抛光法主要是针对导电的材料样品，如由Cu、Al、Fe组成的金属合金材料，且该方法要求样品为尺寸(直径)不能小于3_的小圆片；但是由于锆石矿物晶粒不导电，所以该方法不适用于锆石矿物...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。