具有用于产生附加构件的多晶硅层的氮化镓晶体管的制作方法技术资料下载

技术编号:9916718

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氮化镓(GaN)半导体装置由于其能以高频切换、承载大电流、且支持高电压的能力而与日倶增地合乎吾人所欲。这些装置的发展普遍针对高功率/高频率应用。针对这些类型应用制作的装置系基于显现高电子迀移率的一般装置结构,且不同地被称作异质接面场效晶体管(HFET)、高电子迀移率晶体管(HEMT)、或调变掺杂场效晶体管(MODFET)。这些类型的装置典型地可忍受例如30V至2000V的高电压,同时在例如10kHz-1OOGHz的高频下运作。GaN HEMT装置包括具有至...
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