本实用新型涉及果园除草技术领域,具体涉及一种果园用抑制杂草生长的地布。
背景技术:
随着我国城镇化进程的加快,农村劳动力成本不断攀升。经对果树生产现状调查表明:在果园除草中农业企业、果农等农业生产种植者每年使用除草剂3-5次,造成滥用化学除草剂,这不仅对果品安全带来威胁,而且造成无法逆转的土壤重金属污染,严重威胁着生物多样性和农业生态环境。目前,大部分地区为了防止杂草生长、阻止植物根系钻出地面,采用吹塑的PE膜作为防草布。但是在实际运用中,由于PE膜是透明的,阳光能够透过PE膜照射到PE膜下面的杂草,使杂草还能够进行光合作用,起不到防止杂草生长的作用。而且,这种PE膜的密封性较好,透气性较差,渗水能力不足,使得植物根部的吸收水分能力不足,影响植物的生长,由于PE膜透气性较差,有可能导致植物的根部腐烂,甚至导致植物坏死,从而容易造成环境的二次污染。另外,一般都是通过用石头或者泥土压在PE膜上方来固定PE膜,实际使用时很不方便。显然,现有技术果园内防止杂草生长的方式存在滥用化学除草剂、PE膜起不到防止杂草生长的作用、容易造成环境的二次污染以及PE膜固定方式造成使用不方便的问题。
技术实现要素:
为解决现有技术果园内防止杂草生长的方式存在滥用化学除草剂、PE膜起不到防止杂草生长的作用、容易造成环境的二次污染以及PE膜固定方式造成使用不方便的问题,本实用新型提供一种果园用抑制杂草生长的地布。
本实用新型果园用抑制杂草生长的地布,包括长方形的地布本体,所述地布本体从上至下包括编织布层和无纺布层,所述编织布层为若干条编织线纵横交错编织在一起形成的网状物;并且,沿所述地布本体的长边两侧设置有长条形的压条。
进一步的,在所述地布本体的宽边两侧分别对应设置有开孔扣眼和扣件。
进一步的,所述扣件为挂钩,所述挂钩与所述开孔扣眼卡扣配合。
进一步的,所述扣件包括钉帽和钉杆,所述钉帽固定在所述地布本体上;所述钉杆的一端与所述钉帽固定连接,所述钉杆的另一端为尖锥结构;在所述钉杆上设置有若干倒刺,所述倒刺从所述钉杆上向所述钉帽所在的方向倾斜延伸。
进一步的,在所述地布本体上沿长边方向设置有单向标志线。
本实用新型果园用抑制杂草生长的地布采用分层的编织布层和无纺布层,因此透气性好,提高了对杂草的抑制,防止果树树根的溃烂;通过在地布本体上设置压条等结构方便了地布的固定,降低了使用的工作量使用时间长,实用性强,操作简单,能有效控制果园杂草的生长且便于拼接和使用。
附图说明
图1为本实用新型果园用抑制杂草生长的地布结构示意图。
图2为图1中果园用抑制杂草生长的地布分层结构示意图。
图3为图1中果园用抑制杂草生长的地布的扣件结构示意图。
附图中,1为地布本体,10为编织布层,11为无纺布层,12为单向标志线,2为压条,3为开孔扣眼,4为扣件,41为钉帽,42为钉杆,43为倒刺。
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明。
具体实施方式
果园用抑制杂草生长的地布包括长方形的地布本体1,地布本体1从上至下包括编织布层10和无纺布层11,编织布层10为若干条编织线纵横交错编织在一起形成的网状物。并且,沿地布本体1的长边两侧设置有长条形的压条2,压条2可以为塑料或者金属或者木质材料制成。使用时,将地布本体1铺设在果园内需要抑制杂草生长的地方,例如两列果树之间。由于设置了编织布层10和无纺布层11,阻止了阳光照射在土壤上,使杂草得不到阳光从而抑制了杂草的生长,而无需使用农药。布体可以透气且不易损坏,因此不会对土壤产生危害。另外,地布本体1展开后,通过设置的压条2的重力压制做地布本体1,防止地布被风吹走。
作为进一步优化,在地布本体1的宽边两侧分别对应设置有开孔扣眼3和扣件4,当把两张地布本体1沿纵向展开后,其中一张的地布本体1的扣件4与另外一张地布本体1的开孔扣眼3配合连接,以连接多张地布本体1。在本实施方式中,扣件4为挂钩,挂钩与开孔扣眼3卡扣配合。在其他实施方式中,扣件4包括钉帽41和钉杆42,钉帽41固定在地布本体1上,钉帽41的直径大于开孔扣眼3的直径;钉杆42的一端与钉帽41固定连接,钉杆的另一端为尖锥结构。在钉杆42上设置有若干倒刺43,倒刺43从钉杆上向钉帽41所在的方向倾斜延伸。通过钉杆42和开孔扣眼3的配合,不仅能连接两块地布,同时将钉杆42下压进土壤中,从而对地布本体1也能起固定作用。
为了方便对地布本体1纵向进行有效识别,在地布本体1上沿长边方向设置有单向标志线12。
本实用新型果园用抑制杂草生长的地布采用分层的编织布层和无纺布层,因此透气性好,提高了对杂草的抑制,防止果树树根的溃烂;通过在地布本体上设置压条等结构方便了地布的固定,降低了使用的工作量使用时间长,实用性强,操作简单,能有效控制果园杂草的生长且便于拼接和使用。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。