一种医疗设备模体的支撑定位装置的制作方法

本申请属于医疗设备技术领域，涉及一种医疗设备模体的支撑定位装置。

背景技术：

计算机X射线断层成像(computed tomography，CT)机或X光机或MRI(Magnetic Resonance Imaging，磁共振成像)等作为医疗设备广泛应用于医疗卫生领域以协助医生诊断疾病。

为了保证CT机或X光机或MRI等的成像稳定性及图像的数据准确性，需要在出厂前及日常使用中利用各种模体对医疗设备进行校正，也称为模体校正。需要进行模体校正的场合主要有出厂前的统调及日常的诊断工具测试和质量检测等。通常用到的模体主要有水模、层厚模、高分辨率模体和剂量模体等。

以水模校正MRI系统为例，MRI水模常用于MRI系统中与成像质量相关的一些指标测试，如信噪比、均匀度、涡流等，水模测试数据不仅可用来评价系统的成像质量，也是作为对相关指标进行校正及提高成像质量的依据。

MRI水膜通过放置在床板上的支撑定位装置，对其进行支撑及定位，由于需要将水模调节到MRI系统的磁体中心，在调节过程中支撑定位装置的尺寸高度由水膜与床板之间的相对位置确定。现场安装环境的不同及使用条件的限制，致使每台MRI系统的磁体中心与床板之间的距离都存在一定的差异，即每台MRI系统的支撑定位装置在支撑水膜高度方向的尺寸是不同的。

现有的支撑定位装置调节方位小，需要在支撑定位装置的下方通过铺垫若干垫块进行粗调，再经过支撑定位装置细调使水模与MRI系统的磁体中心重合，调节效率低，同时，垫块之间容易移动或不平整等，调节困难。

又由于需在不同的MRI系统之间使用，其调节的操作空间有较大差异，而水模的中心不能超过MRI系统的磁体中心，支撑定位装置的整体高度受到限制，当支撑定位装置完全采用螺纹调节结构，螺纹的调节部分和自身与螺纹底座的连接部分之和，无法完全满足水模的中心不能超过MRI系统的磁体中心的条件，因此，完全采用螺纹调节结构仅能适用于部分特定的MRI系统，在调节范围大的不同MRI系统之间使用时，需要通过在支撑定位装置下方铺垫垫块调节，不能实现一个支撑定位装置在不同MRI系统之间使用的要求。因此现有的支撑定位装置在较小高度范围内实现达到较大的调节范围。

技术实现要素：

有鉴于此，本申请提供一种医疗设备模体的支撑定位装置。它具有调节精度高，高度调节范围广的特点。

具体地，本申请是通过如下技术方案实现的：一种医疗设备模体的支撑定位装置，包括：

底座，设有至少两组分布在底座上的定位齿；

粗调节座，设有至少两个凹陷部，所述凹陷部与定位齿的位置相匹配，每一凹陷部内均设有呈阶梯状分布的若干台肩面；

细调节座，插设在粗调节座上；

所述粗调节座安装至底座，使其中一级台肩面贴合连接在定位齿上，所述细调节座沿粗调节座的轴线方向移动并固定。

可选的，所述底座上设有定位孔，所述定位齿设置在定位孔的内侧面上且朝向定位孔的中心方向凸出，所述粗调节座插入定位孔并抵靠在定位齿上。

可选的，所述定位齿的厚度小于底座的厚度。

可选的，所述粗调节座的外侧表面上设有定位面，所述粗调节座插入底座，所述定位面与定位孔共线。

可选的，每一凹陷部内相邻台肩面距离粗调节座底面的高度逐级递增，在相邻或间隔的凹陷部上，同一级台肩面处于同一平面上。

可选的，每一凹陷部内相邻台肩面的高度差相同。

可选的，所述台肩面呈扇环形，每一台肩面的圆心角的角度相同。

可选的，所述细调节座与粗调节座通过螺纹连接。

可选的，所述细调节座上安装有锁紧螺母。

可选的，所述细调节座包括支撑部和设置在支撑部一侧的螺纹部，所述螺纹部连接在粗调节座上，在支撑部的另一侧设置有支撑面。

可选的，所述支撑面为自表面凹陷形成球形曲面或沉孔。

可选的，所述支撑面为平面。

可选的，所述底座、粗调节座和细调节座均由非金属材料制成。

可选的，所述底座上设置有指针，所述粗调节座上刻制有若干刻度，所述指针指向其中一刻度。

本申请提供的实施例公开的技术方案可以具有以下有益效果：

采用粗调节座上不同高度的台肩面与底座上的定位齿之间的配合，实现支撑定位装置在高度方向上大尺寸粗调，再通过细调节座在粗调节座上的微调，实现模体与医疗设备的中心重合，调节效率高，在有限的高度内调整范围大，调节精度高，稳定性好；在细调节座上设置与模体相配合的支撑面，通过更换细调节座，即可实现不同模体的定位和支撑，操作方便。

附图说明

图1是本申请一示例性实施例示出的支撑定位装置处于低位的使用状态图。

图2是本申请一示例性实施例示出的支撑定位装置处于高位的使用状态图。

图3是本申请一示例性实施例示出的支撑定位装置的剖面结构示意图。

图4是本申请一示例性实施例示出的支撑定位装置的爆炸结构示意图。

图5是本申请一示例性实施例示出的一种细调节座的剖面结构示意图。

图6是本申请一示例性实施例示出的另一种细调节座的剖面结构示意图。

图7是本申请一示例性实施例示出的支撑定位装置的使用状态图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。在本申请和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

如图1、图2和图4所示，根据一示例性实施例示出的一种医疗设备模体的支撑定位装置，包括：底座10、粗调节座20和细调节座30，在底座10上设有至少两组分布在底座10上的定位齿11，粗调节座20设有至少两个凹陷部21，凹陷部21与定位齿11的位置相匹配，每一凹陷部21内设有若干阶梯状的台肩面22，台肩面22为自粗调节座20的底面23向下凹陷形成，即底座10上的定位齿11处于底座10的两等分位、三等分位、四等分位等均分的等分位上，当定位齿11处于三个及以上时，也可以使定位齿11不处于等分位上，定位齿11与凹陷部21相互配合，其中凹陷部21所处圆周的圆心与定位齿11所处圆周的圆心共线，细调节座30插设在粗调节座20上，粗调节座20安装至底座10，使其中一台肩面22贴合连接在定位齿11上，细调节座30沿粗调节座20的轴线方向移动并固定。

根据一示例性实施例示出的医疗设备模体的支撑定位装置，其中医疗设备以MRI系统为例，模体采用MRI水模对MRI系统进行校正。

如图7所示，将底座10放置在MRI系统4的床板3上，并使底座10处于MRI水模2调试位置的纵向方向上，将粗调节座20放置到底座10上，其中，将粗调节座20的底面23或一台肩面22贴合在定位齿11上，在细调节座30上安放有MRI水模2，根据MRI水模2的中心和MRI系统4中磁体的中心之间的高度差调节粗调节座20上与定位齿11贴合的台肩面22，使MRI水模2的中心与MRI系统4中磁体的中心之间的高度差小于设定值，该设定值为细调节座30的微调范围，对细调节座30进行微调使MRI水模2的中心和MRI系统4中磁体的中心重合，该支撑定位装置1通过粗调节座20与底座10之间的粗调，在经过细调节座30的微调，使MRI水模2的中心和MRI系统4中磁体的中心快速重合，调节效率高。在粗调节座20设置有阶梯状的台肩面22，可以进行大范围的调节MRI水模2的中心高度，调节范围大，效率高，与细调节座30的微调配合，可以实现粗调结合微调的形式，实现MRI水模2的快速调节，应用范围广。通过台肩面22逐级调节MRI水模2可以实现在较小转动范围内实现MRI水模2的高度调节，减小支撑定位装置1的整体尺寸，使MRI水模2能通过一种支撑定位装置1在多个MRI系统4中实现数据测试，实现MRI水模2在有限空间内的多层次调节，调节效果好。

如图3和图4所示，在底座10上设有定位孔12，定位齿11设置在定位孔12的内侧面上且朝向定位孔12的中心方向凸出，粗调节座20插入定位孔12并抵靠在定位齿11上。定位齿11设置在底座10的定位孔12上，在同一个圆心的情况下，粗调节座20绕底座10转动过程中，间隔设置的定位齿11之间转动的角度相同，使粗调节座20的底面23或每一级的台肩面22能贴合在定位齿11上，使MRI水模2的高度在轴线方向变化，而水平方向没有变化，结合细调节座30在轴线方向的调节，可以实现MRI水模2始终处于纵向的高度调节，实现上升和下降，确保MRI水模2调节至MRI系统4中磁体的中心。

定位齿11的厚度小于底座10的厚度。定位齿11与底座10之间设置间距，在粗调节座20插入到底座10时，可以使粗调节座20的部分陷入到底座10中，使粗调节座20不易跑动，限定粗调节座20在轴向的移动范围，调高稳定性。

如图3所示，在粗调节座20的外侧表面上设有定位面27，粗调节座20插入底座10，定位面27与定位孔12共线。将粗调节座20的定位面27与底座10的定位孔12设置成共线，可以使粗调节座20在底座10上转动时确保粗调节座20的轴线不会偏转，提高MRI水模2调节的精度，不会使MRI水模2因支撑定位装置1在调节过程发生偏转而影响测试结果。将定位面27与定位孔12设置成间隙配合，方便粗调节座20从底座10上取出、插入或转动等动作调节与底座10的相对位置，同时，将定位面27与定位孔12设置成间隙配合，定位齿11与台肩面22在径向的移动范围小，提高定位齿11与台肩面22之间的配合准确度，如粗调节座20转动的角度一致，能使粗调节座20上同一级的台肩面22同时配合至相应的定位齿11。

台肩面22距离粗调节座20的底面23的高度逐级顺序递增，每一凹陷部21内台肩面22的高度递增方向相同，在相邻或间隔的凹陷部21上，同一级台肩面22处于同一平面上。即凹陷部21内的若干个台肩面22呈阶梯状分布，每一凹陷部21内台肩面22的深度递增方向相同，可以是台肩面22沿顺时针或逆时针方向逐级加深，以提高调节的深度和广度，多个凹陷部21内同一级的台肩面22处于同一平面，以保证粗调节座20在转动过程中平稳，调节的高度一致，而不同级之间的台肩面22的高度差可以相同，也可以设置成不同。

每一凹陷部21内相邻台肩面22的高度差相同。将每一级台肩面22的高度设置为相同，方便计算和识别调节MRI水模2调节的整体高度，调节均匀，结构美观度高。

台肩面22呈扇环形，沿粗调节座20的中心分布在粗调节座20上，每一台肩面22的圆心角的角度相同。台肩面22沿粗调节座20的中心分布，在粗调节座20绕底座10的轴线转动时，其相当于绕圆心转动一相同角度，运动平稳。

细调节座30与粗调节座20通过螺纹连接。在粗调节座20上设置有凸台24，在粗调节座20上开设有螺纹孔26，螺纹孔26贯穿凸台24和粗调节座20，螺纹孔26的轴线与粗调节座20的轴线重合，MRI水模2放置在细调节座30上，当旋转细调节座30时，可以实现MRI水模2在轴线方向的微调，MRI水模2在粗调和精调双重作用下，实现位置的精确定位，凸台24的设置可加大细调节座30的调节范围，也可以增加螺纹的有效连接长度。

如图1、图2和图4所示，细调节座30上安装有锁紧螺母40。经过粗调节座20和细调节座30的粗调和精调过程，使MRI水模2与MRI系统4中磁体的中心重合，将细调节座30通过锁紧螺母40锁紧至粗调节座20，保持细调节座30的位置固定，保持MRI水模2的中心保持不变，锁定方便。

如图4、图5和图6所示，细调节座30包括支撑部31和设置在支撑部31一侧的螺纹部32，螺纹部32连接在粗调节座20上，在支撑部31的另一侧设置有支撑面33。锁紧螺母40安装在螺纹部32上，螺纹部32与粗调节座20连接，在支撑部31的外周面上设置有滚花，在支撑部31上设置支撑面33，支撑面33支撑起MRI水模2，使MRI水模2不易跑动和移位。可以通过更换细调节座30完成不同MRI水模2的定位和支撑。例如：

当MRI水模2呈球形时，支撑面33为自表面凹陷形成球形曲面或或沉孔，沉孔即垂直于支撑面33开设限位孔。将支撑面33设置成凹陷的球形曲面，当MRI水模2安装至支撑面33时，MRI水模2与支撑面33形成受到限定的接触面，确保MRI水模2不会从支撑面33滚出。

当MRI水模2呈矩性或柱形时，支撑面33为平面或垂直于支撑面33开设限位孔。可以通过多个支撑定位装置1进行多点支撑的形式将矩性或柱形的MRI水模2进行支撑和定位，定位方便，调节简单；开设限位孔可以限定球形或具有凸出部位的MRI水模2。

同时支撑面33也可以根据需要支撑的MRI水模2的支撑位置的形状设置向对应的形状进行限定，如圆柱形，可以设置圆弧面限定其转动。

底座10、粗调节座20和细调节座30均由非金属材料制成。锁紧螺母40也由非金属材料制成，如：有机玻璃。由于MRI系统4工作环境决定金属材料不适用与MRI系统4，因此，在制作时尽量不采用金属材料。

在底座10上沿设置有指针13，在粗调节座20上刻制有若干刻度25，指针13指向刻度25。通过指针13和刻度25的配合，可以直观的看出粗调节座20与底座10之间的配合高度，读取粗调节的高度，直观的观察哪一级台肩面22与定位齿11配合，数据读取方便。在使用时，可以观察指针13与刻度25的配合情况，确定粗调节座20与底座10的贴合面是否匹配到位，操作方便。

以上仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请保护的范围之内。