技术特征：
技术总结
本发明涉及一种用于对对象进行X射线成像的装置。它被描述为提供(20)与对X射线的探测相关的数据，其中，X射线探测器被配置为相对于X射线源被定位，使得所述X射线源与所述X射线探测器之间的区域的至少部分是用于容纳对象的检查区域。X射线干涉仪布置被配置为相对于所述检查区域被定位。确定透射通过所述对象的至少部分的X射线辐射的至少一个X射线暗场因数和至少一个透射因数。根据所确定的至少一个暗场因数和所确定的至少一个透射因数的函数来控制要朝向所述对象的所述至少部分发射的X射线辐射的强度。
技术研发人员：T·克勒;H-I·马克;T·普拉洛
受保护的技术使用者：皇家飞利浦有限公司
技术研发日：2016.11.21
技术公布日：2018.07.17