含有离子液体的口腔护理组合物的制作方法
【专利说明】含有离子液体的口腔护理组合物
[0001] 发明背景 离子液体为一类包含阳离子和阴离子的盐，这种盐在100°c或更低的温度下以液体存 在，并且通常具有低于室温的熔点。尽管不希望受到理论的束缚，但是离子液体通常具有比 常规的盐低得多的匀称性，并且阳离子和阴离子的电荷通过在离子液体中的共振分布在较 大体积的分子上，据认为这种共振在比常规的盐（例如NaCl，mp 801°C )低得多的温度下有 助于其液体状态。离子液体通常由包含杂环的阳离子和本质上通常为无机的平衡阴离子组 成。阳离子和阴离子的性质将决定离子液体的疏水性、粘度、密度及其它物理参数和性质。
[0002] 离子液体已被评价为用于广泛范围的有机合成应用的常规有机溶剂的环境友好 或"绿色"的备选方案。离子液体具有使其区别于常规有机溶剂的独特特征。例如，离子液 体为非挥发性的（即它们不容易蒸发到大气中），它们具有高的极性和电荷密度，它们可为 疏水性或亲水性的，并且它们具有独特的溶剂化性质。这样，离子液体已知用于清洁组合物 (例如，如在US 2006/0090777 Al和US 7939485 B2中公开的那样）。一系列的离子液体 为市售可得到的，或者它们可易于通过简单的离子交换反应进行合成。
[0003] 生物膜为包封在自主形成的聚合体细胞外基质内的一群结构化微生物。生物膜通 常附着于活的或惰性的表面。在人或动物体内，生物膜可形成于任何内部或外部表面上。生 物膜已被发现参与广泛种类的体内微生物感染并引起许多病症，包括尿路感染、中耳感染， 和特别是口腔疾病。
[0004] 牙菌斑自生物膜前体形成，并在某种程度上存在于无论是口腔内还是牙医使用的 牙科仪器上的几乎所有牙齿表面。其包含由嵌入在多糖基质中的大量微生物组成的密集的 微生物层。菌斑可在牙齿表面的任何部分形成，并且发现特别是在牙龈边缘以及在牙釉质 的缝隙中形成。与在牙齿上形成菌斑有关的危险在于菌斑建立，并最终产生牙龈炎、牙周炎 和其它类型牙周病以及龋齿和牙结石的趋势。牙菌斑形成也与不洁净口腔中的模糊的舌感 有关，并且因此，解决牙菌斑形成可解决清洁舌头的问题。
[0005] 菌斑本身非常牢固地附着于牙齿表面，并在去除之后在牙齿表面快速重新形成。 目前的菌斑去除方法主要依靠机械去除菌斑。包括刷牙、用磨料牙膏刷牙、用牙线、使用齿 间清洁器、刮擦、使用声波能量（例如Sonicare牙刷）和超声波（例如Ultreo牙刷）在内 的这些方法，部分地依靠许多消费者根本不具备的良好的刷牙或用牙线技术。此外，这些方 法在去除顽固菌斑或深藏在牙齿的空洞和裂缝中、或牙龈囊内的菌斑方面特别低效。
[0006] 本领域还已知在口腔组合物中加入破坏或阻碍细菌生长的抗菌剂。然而，存在于 生物膜或菌斑沉积物中的细菌呈现对抗菌剂的抗性增加，因为密集的细胞外基质和细胞外 层保护存在于沉积物内部的细菌不受抗菌剂的影响。
[0007] 因此需要提供用于去除菌斑的改善的方法和组合物，所述方法和组合物减轻由刷 牙/用牙线技术不佳造成的一些效率低下，并有效去除藏在齿间、牙齿的空洞和裂缝中以 及牙龈囊内的菌斑。
[0008] 发明概述 本发明的第一方面提供一种包含化合物的口腔护理组合物，其中所述化合物包含： (a) 阳离子；和 (b) 阴离子 其中所述化合物具有以下中的两种或更多种 (i) 20-60的原子极化率， (ii) 2-20的Kier柔性指数和 (iii) 3-10的摩尔折射率。
[0009] (对于本发明的目的，apol=原子极化率，KierFle=化合物柔性和SMR=摩尔折射 率） 本发明的第二方面提供一种包含化合物的口腔护理组合物，其中所述化合物包含： (a) 包含荷正电氮原子的阳离子和 (b) 阴离子 其中所述化合物具有以下中的两种或更多种 (i) 20-60的原子极化率， (ii) 2-20的Kier柔性指数和 (iii) 3-10的摩尔折射率。
[0010] 任选地，化合物具有20-45的原子极化率。进一步任选地，口腔护理组合物具有 22-40的原子极化率。任选地，化合物具有3-10的Kier柔性指数。任选地，化合物具有3-7 的摩尔折射率。
[0011] 任选地，所述化合物具有以下中的两种或更多种 (i) 28-40的原子极化率， (ii) 4-15的Kier柔性指数和 (iii) 4-7的摩尔折射率。
[0012] 任选地，所述化合物具有 (i) 30-38的原子极化率和 (ii) 5-14的Kier柔性指数和 (iii) 5-6的摩尔折射率。
[0013] 任选地，化合物选自以下中的一种或多种：EMM Ac (1-乙基-3-甲基咪唑·乙酸 盐）、1-0!^4厘]8卩4(1-羟乙基-3-甲基咪唑》四氟硼酸盐）、1-0!^4厘](：1(1-羟 乙基-3-甲基咪唑*氯化物）、I-OHEt-EMM Br (1-羟乙基-3-甲基咪唑_溴化物）、 I-OHEt-EMIM Ac (1-羟乙基-3-甲基咪唑β!乙酸盐）U-OHEt-EMIM S04 (1-羟乙基-3-甲 基咪唑微硫酸盐）U-OHPr-EMM Cl (1-羟丙基-3-甲基咪唑It氯化物）U-OHPr-EMM Br (1-羟丙基-3-甲基咪唑ft溴化物）、l-〇HPr-EMMAc (1-羟丙基-3-甲基咪唑S 乙酸盐）U-OHPr-EMIM S04 (1-羟丙基-3-甲基咪唑 ft 硫酸盐）、3(4-OH-Bu)-EMIM Cl (3-(4-羟丁基）-1-甲基咪唑}t 氯化物）、3(4-OH-Bu)-EMM Br (3-(4-羟丁基）-1-甲 基咪唑篇溴化物）、3 (4-OH-Bu) -EMM Ac (3- (4-羟丁基）-1-甲基咪唑S乙酸盐）、 3 (4-OH-Bu) -EMIM S04 ((3- (4-羟丁基）-1-甲基咪唑 J? 硫酸盐）、l-Me-3 (2-PrOEt) -EMIM ClU-Me-3(2-Pr0Et)-EMIMAcU-Me-3(2-Pr0Et)-EMIMS04、l，2-:Me-4Pr-PZS04、 1，2, 4-三Me-PZCl (1，2, 4-三甲基吡唑鐵氯化物）、1，2, 4-三Me-PZBr (1，2, 4-三甲基吡唑 S 溴化物）、1，2, 4-三 Me-PZAc (1，2, 4-三甲基吡唑S 乙酸盐）、1，2-二 Me-4-Et-PZMeS04 (1，2-二甲基-4-乙基-吡唑Il甲基硫酸盐）、1，2-二Me-4-Et-PZCl (1，2-二甲基-4-乙 基-吡唑纖氯化物）、1，2-二Me-4-Et-PZ (1，2-二甲基-4-乙基-吡唑ft溴化物）、1，2-二 Me-4-Et-PZAc (1,2-二甲基-4-乙基-吡唑織乙酸盐）、1，2_ 二 Me-4-Et-PZS04) (1,2-二 甲基-4-乙基-吡唑_甲基硫酸盐）、1，2-二Me-4-Pr-PZCl (1，2-二甲基-4-丙基-吡 唑鐵氯化物）、1，2-二Me-4-Pr-PZBr (1，2-二甲基-4-丙基-吡唑爾溴化物）、1，2-二 Me-4-Pr-PZAc (1，2-二甲基-4-丙基-吡唑_ 乙酸盐）、1，2-二Me-4-Bu-PZS04 (1，2-二甲 基-4- 丁基吡唑擔甲基硫酸盐）、1，2-二Me-4-Bu-PZCl (1，2-二甲基-4- 丁基吡唑S氯化 物）、1，2-二 Me-4-Bu-PZBr ((1，2-二甲基-4- 丁基吡唑·溴化物）、1，2-二 Me-4-Bu-PZAc (1，2-二甲基-4- 丁基吡唑β乙酸盐）、硫酸胆碱、溴化胆碱、2-氯-3-羟丙基三甲基氯化 铵、2-氯-3-羟丙基三甲基溴化铵、2-氯-3-羟丙基三甲基乙酸铵、2-氯-3-羟丙基三甲 基硫酸铵、1，1-二甲基-4-羟乙基哌嗪爾氯化物、1，1-二甲基-4-羟乙基哌嗪鐵溴化物、 1，1-二甲基-4-羟乙基哌嗪鐵乙酸盐、1，1-二甲基-4-羟乙基哌嗪鐵甲基硫酸盐、二甲基 (1，2-二羟基丙基）甲基氯化铵、二甲基（1，2-二羟基丙基）甲基溴化铵、二甲基（1，2-二 羟基丙基）甲基乙酸铵、二甲基（1，2_二羟基丙基）甲基铵甲基硫酸盐