一种喷枪前端的风帽的制作方法

本实用新型涉及一种喷枪前端的风帽。

背景技术：

房子在装修时，会在墙面上喷涂装饰图案，在喷涂装饰图案时，需要用到喷枪，喷枪前端装有风帽，风帽连接气路和涂料孔路，涂料通过气体冲出风帽，喷于墙面上，形成各种图案。

如图1，图1是现有技术中的一种风帽结构，其上部桥式喷嘴中间设置的喷口为一直形的缝隙31，通过缝隙喷出来的图案，一是涂料喷出来较少，二是喷涂效果很呆板，没有立体感，三是喷涂效率低。

如图5，图5是现有技术中的另一种风帽结构，该风帽结构包括底座4、锥形喷嘴5，其中部为一能够转动的喷嘴，在喷嘴中部，设置有一圆形孔6，圆形孔边缘是平面，圆形孔6的两侧，各设置有二个小孔，四个小孔以圆形孔中心对称放置，通过圆形孔6与四个小孔喷出来的图案，一是涂料喷出来较少，二是喷涂效果很呆板，没有立体感，三是喷涂效率低。

技术实现要素：

针对现有技术中的不足，本实用新型要解决的技术问题在于提供了一种喷枪前端的风帽。

为解决上述技术问题，本实用新型通过以下方案来实现：一种喷枪前端的风帽，该风帽一体成型，其本体底部设置有第一圆环体，沿第一圆环体内径的垂直方向向上，设置有第二圆环体，沿第二圆环体内径的垂直方向向上，设置有圆柱体，所述圆柱体上端设置有两个斜面，两个斜面以圆柱体的直径对称，沿两个斜面的顶端相连处，设置有桥式喷嘴，在该桥式喷嘴的中部，开有一个V型槽。

进一步的，所述V型槽的V型角度在30~120度之间。

进一步的，所述第一圆环体、第二圆环体、圆柱体内部形成一个整体的空腔，该空腔连通V型槽。

进一步的，所述V型槽内底面、左右两边的弧形边缘铺平后，形成圆形。

相对于现有技术，本实用新型的有益效果是：本实用新型将传统的风帽进行改良，有三种方案改良，一是将喷嘴的喷料口设计成V形开口，二是将喷嘴的喷料口用铣刀铣成圆弧面，三是将原喷嘴出料口为圆的、会转动的风帽喷嘴出料口圆孔铣大，使涂料沿柱形孔口射出，本实用新型的三种结构都能够使风帽喷出来的图案具有立体感，且扩大的口部能够提高喷枪的工作效率。

附图说明

图1为现有技术中的第一种风帽结构示意图。

图2为本实用新型V形槽开口的风帽结构示意图。

图3为本实用新型V形槽开口的风帽侧面示意图。

图4为本实用新型弧形槽开口的风帽示意图。

图5为现有技术中的第二种风帽结构示意图。

图6为本实用新型圆柱孔式风帽结构示意图。

附图中标记：本体底部1、圆柱体2、V型槽3、底座4、锥形喷嘴5、圆形孔6、缝隙31、圆弧面32、圆柱孔61。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

实施例1：V形槽开口的风帽结构。

如图2~3所示，一种喷枪前端的风帽，该风帽一体成型，其本体底部1设置有第一圆环体，沿第一圆环体内径的垂直方向向上，设置有第二圆环体，沿第二圆环体内径的垂直方向向上，设置有圆柱体2，所述圆柱体2上端设置有两个斜面，两个斜面以圆柱体2的直径对称，沿两个斜面的顶端相连处，设置有桥式喷嘴，在该桥式喷嘴的中部，开有一个V型槽3。所述V型槽3的V型角度在30~120度之间，所述第一圆环体、第二圆环体、圆柱体2内部形成一个整体的空腔，该空腔连通V型槽3，所述V型槽3内底面、左右两边的弧形边缘铺平后，形成圆形。使用该V形槽开口的风帽可以将喷出来的涂料发散更大的角度，而且出料的速度较快。如果在相同的时间内，传统的喷涂效率是在一个平方内，喷涂0.1mm，那么V形槽开口的风帽能够在一个平方内，喷涂0.2~0.5mm。喷涂量大，调制好的颜色喷在墙面上，图案更显得有立体感。

实施例2：弧形面喷嘴的风帽结构。

如图4所示，该弧形面喷嘴的风帽下部的结构与实施例1中的V形槽开口的风帽结构相同，在桥式喷嘴中部，利用铣刀铣成圆弧面32，圆弧面32的中心是喷料口。使用该弧形面喷嘴的风帽可以将喷出来的涂料发散更大的角度，而且出料的速度较快。如果在相同的时间内，传统的喷涂效率是在一个平方内，喷涂0.1mm，那么弧形面喷嘴的风帽能够在一个平方内，喷涂0.2~0.5mm。喷涂量大，调制好的颜色喷在墙面上，图案更显得有立体感。

实施例3：圆柱孔式喷嘴的风帽结构。

如图6所示，图6为本实用新型圆柱孔式风帽结构示意图，该风帽将传统的圆形孔铣大，直至铣至喷嘴斜面边缘，在喷嘴处形成圆柱孔61。使用该圆柱孔式喷嘴的风帽可以将喷出来的涂料发散更大的角度，而且出料的速度较快。如果在相同的时间内，传统的喷涂效率是在一个平方内，喷涂0.1mm，那么圆柱孔式喷嘴的风帽能够在一个平方内，喷涂0.2~0.5mm。喷涂量大，调制好的颜色喷在墙面上，图案更显得有立体感。

以上所述仅为本实用新型的优选实施方式，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。