一种制药设备低位排水装置的制作方法

文档序号:25860834发布日期:2021-07-13 16:16阅读:100来源:国知局
一种制药设备低位排水装置的制作方法

本发明涉及食品、医药包装机械,尤其涉及一种制药设备低位排水装置。



背景技术:

制药设备中的隔离器安装在机架的顶板上,隔离器需要清洗时,隔离器内的水通过顶板上设置的多个排水点(排水孔)排水,以免造成顶板积液,然而这种方案排水不干净且排水时间过长,排水效率低。

公开号为cn110177665a名称为“用于自动化生产药物或生物技术制品的密闭结构的结构组件”公开了槽状基地空间内设有倾斜的底面,用于将水排出,但是该倾斜的底面是安装在侧壁上,其为悬空的结构,存在安装不稳定的问题。



技术实现要素:

本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种积水能有效排空、排水效率高、节省排水所需时间的隔离器低位排水装置。

为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:

一种制药设备低位排水装置,包括机架、台板罩、台板和隔离器腔室,所述台板罩铺设于台板上,所述台板设于机架的顶板上,所述顶板上设有使台板从一端向另一端倾斜的垫块,所述垫块的顶部具有倾斜部,所述台板支撑在倾斜部上,所述隔离器腔室设于台板罩上,所述台板罩构成隔离器腔室的底壁,所述台板罩的低端设有排水口,所述顶板上设有多个安装垫块,各安装垫块依次穿过台板和台板罩并伸出台板罩,各安装垫块与台板罩之间密封连接。

作为上述技术方案的进一步改进,所述垫块包括第一垫块和第二垫块,所述第一垫块和第二垫块的顶部分别设有第一倾斜部和第二倾斜部,所述第一垫块和第二垫块分设于顶板的两端,所述第一垫块的高度大于第二垫块的高度,所述台板的两端分别支撑在第一倾斜部和第二倾斜部上。

作为上述技术方案的进一步改进,所述台板的一端支撑在第一倾斜部上,另一端通过搭接台阶与第二垫块连接,且台板的顶面与第一倾斜部、第二倾斜部位于同一斜面内。

作为上述技术方案的进一步改进,所述垫块还包括第三垫块,所述第三垫块的顶部具有第三倾斜部,所述台板支撑在第三倾斜部上。

作为上述技术方案的进一步改进,所述隔离器腔室的一端设有集水腔,所述集水腔设于台板罩的最低端并与隔离器腔室连通,所述集水腔的底壁不高于台板罩的最低端,所述排水口设在集水腔的底壁上。

作为上述技术方案的进一步改进,所述顶板上设有立柱安装垫块,所述立柱安装垫块底部设有第一定位凸部,所述顶板设有可与第一定位凸部配合的第一定位凹口。

作为上述技术方案的进一步改进,所述立柱安装垫块穿过并伸出台板罩,所述立柱安装垫块连接一立柱,所述立柱的底部设有第二定位凸部,所述立柱安装垫块设有可与第二定位凸部配合的第二定位凹口。

作为上述技术方案的进一步改进,所述立柱安装垫块与台板罩之间通过焊接密封;所述立柱与立柱安装垫块之间通过密封圈密封。

作为上述技术方案的进一步改进,所述台板罩和台板上对应设有可供多个安装垫块穿过的通孔,各安装垫块与台板罩之间通过焊接密封。

作为上述技术方案的进一步改进,所述台板与台板罩通过螺栓连接,所述台板与第一垫块、第二垫块和第三垫块通过螺栓连接。

与现有技术相比,本发明的优点在于:

本发明的制药设备低位排水装置,当隔离器腔室进行清洗,清洗水落在台板罩上,水从台板罩上依靠重力作用从高端流向低端,最后经低端的排水口流出,由于垫块使得台板罩可以倾斜设置,从而可将台板罩上的水排尽,从而台板罩上不会积液,不仅水排的干净而且提高了排水效率,节省排水所需时间。其中,垫块的顶部的倾斜部与台板可以以面接触配合,提高台板和台板罩安装的稳定性;且通过垫块将台板罩安装在机架,台板罩不会构成悬空的结构,稳定牢靠,此外,通过在台板上铺设台板罩,台板罩优选为一整张面板,避免台板安装所带来的缝隙导致的漏水问题。该低位排水装置,通过垫块的倾斜部来调节台板罩的倾斜度;而且安装垫块为水平安装,顶部底部均水平设置,不影响其他设备的水平安装,而且也不需要再上机床加工,能大大减少加工时间与加工成本。

附图说明

图1是本发明的制药设备低位排水装置的结构示意图。

图2是本发明中台板罩、台板与顶板的分解示意图。

图3是图1的a处放大图。

图4是图1的b处放大图。

图5是本发明的制药设备低位排水装置的立体结构示意图。

图中各标号表示:

1、机架;101、第一定位凹口;11、顶板;2、台板罩;201、通孔;21、台板;3、隔离器腔室;4、集水腔;41、排水口;51、第一垫块;52、第二垫块;53、第三垫块;6、安装垫块;7、立柱安装垫块;71、第一定位凸部;72、第二定位凹口;8、立柱;81、第二定位凸部;82、密封圈。

具体实施方式

以下结合说明书附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。

如图1至图5所示,本实施例的制药设备低位排水装置,包括机架1、台板罩2、台板21和隔离器腔室3,台板罩2铺设于台板21上,台板21设于机架1的顶板11上,顶板11上设有使台板21从一端向另一端倾斜的垫块5,台板罩2与台板21具有相同的倾角。垫块5的顶部具有倾斜部,台板21支撑在倾斜部上,隔离器腔室3设于台板罩2上,台板罩2构成隔离器腔室3的底壁,台板罩2的低端设有排水口41,顶板11上设有多个安装垫块6,各安装垫块6依次穿过台板21和台板罩2并伸出台板罩2,各安装垫块6与台板罩2之间密封连接。

当隔离器腔室3进行清洗,清洗水落在台板罩2上,水从台板罩2上依靠重力作用从高端流向低端,图1的箭头e所示,最后经低端的排水口41流出,由于垫块使得台板罩2可以倾斜设置,从而可将台板罩2上的水排尽,从而台板罩2上不会积液,不仅水排的干净而且提高了排水效率,节省排水所需时间。其中,垫块5的顶部的倾斜部与台板21可以以面接触配合,提高台板21和台板罩2安装的稳定性;且通过垫块5将台板罩2安装在机架1,台板罩2不会构成悬空的结构,稳定牢靠,此外,通过在台板21上铺设台板罩2,台板罩2优选为一整张面板,避免台板21安装所带来的缝隙导致的漏水问题。该低位排水装置,通过垫块5的倾斜部来调节台板罩2的倾斜度。而安装垫块6为水平安装,顶部底部均水平设置,不影响其他设备的水平安装,而且也不需要再上机床加工,能大大减少加工时间与加工成本。

本实施例中,为了方便安装台板罩2,垫块包括第一垫块51和第二垫块52,第一垫块51和第二垫块52的顶部分别设有第一倾斜部和第二倾斜部,第一垫块51和第二垫块52分设于顶板11的两端,第一垫块51的高度大于第二垫块52的高度,高度差的设置使得台板罩2一端向另一端倾斜,台板罩2的两端分别支撑在第一倾斜部和第二倾斜部上,第一倾斜部和第二倾斜部的设置使得台板罩2与第一垫块和第二垫块之间支撑部分为面接触。其中,高低点通过高低垫块采用定高度差控制,高度可控,使其通用性很强。

本实施例中,台板21的厚度比台板罩2要厚,其支撑作用。台板罩2通过台板21与第一垫块51和第二垫块52连接,实现台板罩2、台板21固定在机架1的顶板11上。具体为,台板21的一端支撑在第一垫块51的第一倾斜部上,另一端通过搭接台阶(参见附图3的正阶梯m和倒阶梯n的搭接方式)与第二垫块52连接,这种结构可以保证台板21能与第二垫块52连接,同时保证台板21的顶面与第二倾斜部的斜面平齐,从而台板21的顶面与第一倾斜部的斜面、第二倾斜部的斜面位于同一斜平面内,台板罩2铺设在该斜平面上,台板罩2为一个整的面板,隔离器腔室3内的水落在台板罩2不会发生渗漏,只会从高端流向底端的排水口41。

本实施例中,垫块还包括第三垫块53,第三垫块53的顶部具有第三倾斜部,台板21支撑在第三倾斜部上。第三垫块53为条形斜面块,加强对台板21的支撑,提高整个台板21和台板罩2的安装强度。第三垫块53优选设置3个,第一垫块51优选设置两个,第二垫块52优选为一个,其长度与顶板11的宽度相同。

本实施例中,台板21与台板罩2通过螺栓连接之后进行满焊,防止漏水,台板21与第一垫块51、第二垫块52和第三垫块53通过螺栓连接。

本实施例中,隔离器腔室3的一端设有集水腔4,集水腔4设于台板罩2的最低端并与隔离器腔室3连通,集水腔4的底壁不高于台板罩2的最低端,本实施例中,集水腔4的底壁与台板罩2的最低端平滑衔接,二者的倾斜度相同,排水口41设在集水腔4的底壁上。集水腔4可以快速用于收集清洗水,并通过排水口41排出。

本实施例中,台板罩2上对应设有可供多个安装垫块6穿过的通孔201,各安装垫块6与台板罩2之间通过焊接密封。安装垫块6用来安装其他机构。

具体以顶板11上设有立柱安装垫块7为例,立柱安装垫块7也是属于安装垫块6的一种。立柱安装垫块7穿过并伸出台板罩2,用于安装立柱8。立柱安装垫块7底部设有第一定位凸部71,顶板11设有可与第一定位凸部71配合的第一定位凹口101。第一定位凸部71与第一定位凹口101采用小间隙配合,提高立柱安装垫块7与顶板11的定位精度和安装精度。

进一步的,立柱8的底部设有第二定位凸部81,立柱安装垫块7设有可与第二定位凸部81配合的第二定位凹口72。第二定位凸部81与第二定位凹口72采用小间隙配合,提高立柱8与立柱安装垫块7的定位精度和安装精度。立柱安装垫块7与台板罩2之间通过焊接密封;立柱8与立柱安装垫块7之间通过密封圈82密封,双向密封保证不渗水。立柱8为可拆卸式安装,便于后续维修与安装。这种提前预装安装垫块6的方式,可以保证所有的零件都是线下加工,组装好后通过焊接完成,不需要再上机床加工,能大大减少加工时间与加工成本。

需要说明的是,除本实施例外,也可以仅设置第一垫块51,不需要设置第二垫块52和第三垫块53,或者仅设置第一垫块51和第三垫块53。

虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明。任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围的情况下,都可利用上述揭示的技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰,均应落在本发明技术方案保护的范围内。

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