随机波掩模生成的制作方法

背景技术：

打印设备(诸如打印机、多功能打印机等等)可以包括用于将内容打印到打印介质上的数个打印头。在一些打印设备中，这些打印头可以是错列的，使得一个打印头中的小滴喷射元件(例如，喷嘴)的第一集合可以与另一打印头中的小滴喷射元件的第二集合重叠。为了确定这些重叠的小滴喷射元件如何以及何时点火，可以使用掩模。掩模可以定义将在打印期间点火的小滴喷射元件的特定图案。

附图说明

以下详细描述参照了附图，其中：

图1是与所公开的实现方式一致的示例打印设备的框图；

图2是与所公开的实现方式一致的打印图像的打印头组件的示例的顶视图；

图3是与所公开的实现方式一致的示例打印设备的框图；

图4是与所公开的实现方式一致的用于随机波掩模生成的示例过程的流程图；

图5是与所公开的实现方式一致的用于在掩模区域中分布数据点的示例过程的流程图；

图6是与所公开的实现方式一致的用于生成随机波掩模的示例过程的流程图；

图7图示了与所公开的实现方式一致的被执行以生成随机波掩模的示例过程；

图8图示了与所公开的实现方式一致的随机波掩模的部分的示例；以及

图9是与所公开的实现方式一致的用于生成随机波掩模的示例过程的流程图。

具体实施方式

以下详细描述参照了附图。在任何可能的地方，在附图和以下描述中使用相同附图标记以指代相同或类似的部分。尽管在本文档中描述了若干示例，但修改、适配和其他实现是可能的。相应地，以下详细描述不限制所公开的示例。取而代之，所公开的示例的适当范围可以由所附权利要求限定。

如上所详述，一些打印设备可以包括数个错列的打印头，这些打印头包括重叠的小滴喷射元件。这样的打印设备的一个示例是页宽阵列(“pwa”)打印机。不同于一些传统打印机，pwa打印机可以不包括移动的滑动托架。取而代之，可以存在覆盖打印介质宽度且与打印介质路径正交地取向的打印头管芯的杆。该杆中的打印头组件可以包括重叠的管芯，并且该杆自身可以包括数千个小滴喷射元件，随着打印介质在基本上垂直的方向上在该杆之下移动，这些小滴喷射元件喷射打印流体的液滴。由于pwa打印机可以包括分散在多个重叠的pwa打印头管芯上的数千个喷嘴，因此打印流体从那些打印头管芯的喷射可以由掩模控制。在一个示例中，掩模可以使用鲜明的线形图案以在重叠的小滴喷射元件之间加以区分。然而，这些鲜明的线性掩模可能在存在穿过卷材的(例如，与打印介质移动垂直的)对准误差的情况下造成图像质量缺陷。例如，线性掩模可能造成人眼可容易检测到的对应于打印头之间的过渡的垂直线。其他缝合掩模可以使用规则的正弦图案，但由于图案的规则性，图像质量缺陷可能仍然可见。相应地，存在降低图像质量缺陷的可见性的需要。

本文公开的示例可以降低图像质量缺陷的可见性。为此，本文公开的示例实现方式可以通过基于概率密度函数在掩模区域中分布数据点来提供随机波掩模生成。例如，可以基于具有位于掩模区域的边缘(例如，第一边缘和第二边缘)处的最大概率密度的概率密度函数(例如，逆正态分布)来分布数据点。一些实现方式还可以识别拟合数据点的波形曲线(例如，包括变化振幅的振荡波形的曲线)，并基于波形曲线来生成随机波掩模。

现在参照附图，图1是与所公开的实现方式一致的示例打印设备100的框图。打印设备100可以以各种方式实现。例如，打印设备100可以是pwa打印机、喷墨打印机、计算系统和/或可在打印介质上产生内容(例如图像、文本等)的任何其他类型的系统。在图1中所示的示例中，打印设备100可以包括打印头组件110、流体供给组件120、介质组件130、处理器140、接口150和机器可读储存介质160。

打印头组件110可以是能够向打印介质喷射打印流体的液滴的任何设备。例如，打印头组件110可以包括：至少一个打印头管芯，其通过小滴喷射元件(例如孔、喷嘴等等)将打印流体的液滴喷射到打印介质上，以产生打印内容(例如，所打印的图像)。与所公开的示例一致的打印介质可以是用于打印的任何合适材料，诸如纸张、卡片材料、透明正片、织物、网状物等等。典型地，喷嘴可以被布置在至少一个列或阵列中，使得打印流体从喷嘴的适当定序的喷射可能使字符、符号和/或其他图形或图像随着相对于打印头组件110移动打印介质而被打印在该打印介质上。下面关于例如图2来更详细地讨论与所公开的实现方式一致的打印头组件110的示例。

流体供给组件120可以是能够将打印流体供给到打印设备100的部件的任何设备。例如，打印流体供给组件120可以是将打印流体(诸如油墨)供给到打印头组件110的部件或部件集合。在一些实现方式中，流体供给组件120可以包括用于存储打印流体的可移除、可替换和/或可填充的储存库。打印流体可以从储存库流动到打印头组件110。在一些实现方式中，打印头组件110和打印流体供给组件120可以被一起容纳以形成墨盒或笔。在一些实现方式中，打印流体供给组件120可以与打印头组件110分离，且可以通过接口连接(诸如供给管)将打印流体供给到打印头组件110。

介质组件130可以是相对于打印头组件110传输打印介质的任何部件或部件集合。例如，介质组件130可以起下述作用：相对于打印头组件110使打印介质前进或定位打印介质，诸如通过在与打印头组件110正交(例如，完美正交和/或基本上正交)的方向上使打印介质前进或定位打印介质。

处理器140可以是至少一个处理单元(cpu)、微处理器和/或用于执行对操作加以执行的指令的另一硬件设备。例如，处理器140可以取得、解码和执行存储在机器可读储存介质160中的随机波掩模识别指令170(例如，指令172、174和/或176)，以执行与所公开的示例相关的操作。

接口设备150可以是促进打印设备100与外部部件(诸如另一打印设备、扫描仪、台式计算机、膝上型计算机、平板计算设备、移动电话、服务器和/或任何其他合适类型的系统)之间的信息传送的任何设备。在一些示例中，接口设备150可以包括：网络接口设备，其允许打印设备100从网络接收数据和向网络发送数据。例如，接口设备150可以检索和处理来自远程计算系统的与要由打印设备100打印的图像相关的数据。

机器可读储存介质160可以是存储可执行指令的任何电子储存设备、磁储存设备、光学储存设备或其他物理储存设备。因此，机器可读储存介质160可以是例如存储器、储存驱动器、光盘等等。在一些实现方式中，机器可读储存介质160可以是非瞬变机器可读储存介质，其中术语“非瞬变”不涵盖瞬变传播信号。可以利用指令对机器可读储存介质160进行编码，该指令在由处理器140执行时执行与所公开的实现方式一致的操作。例如，机器可读储存介质160可以包括随机波掩模创建指令170，随机波掩模创建指令170在由处理器140执行时执行可生成随机波掩模的操作。在图1中所示的示例中，机器可读储存介质160可以包括数据点分布指令172、波形曲线识别指令174和随机波掩模生成指令176。

数据点分布指令172可以起下述作用：基于概率密度函数来在掩模区域中分布数据点。例如，当数据点分布指令172由处理器(诸如打印设备100的处理器140)执行时，数据点分布指令172可以使处理器140和/或另一处理器基于概率密度函数来在掩模区域中分布数据点。在一些实现方式中，概率密度函数可以具有位于掩模区域的第一边缘和第二边缘处的最大概率密度。下面关于例如图3、4、5和7来进一步详细地描述被执行以在掩模区域中分布数据点的过程的示例。

波形曲线识别指令174可以起下述作用：识别拟合数据点的波形曲线。例如，当波形曲线识别指令174由处理器(诸如打印设备100的处理器140)执行时，波形曲线识别指令174可以使处理器识别拟合数据点的波形曲线，诸如包括变化振幅的振荡波形的波形曲线。例如，波形曲线识别指令174在被执行时可以通过拟合对数据点进行近似的平滑曲线以生成振荡波形，来识别拟合数据点的波形曲线。下面关于例如图3、4和7来进一步详细地描述被执行以识别拟合数据点的波形曲线的过程的示例。

随机波掩模生成指令176可以起下述作用：基于波形曲线来生成随机波掩模。例如，当随机波掩模生成指令176由处理器(诸如打印设备100的处理器140)执行时，随机波掩模生成指令176可以使处理器140和/或另一处理器：通过将掩模区域划分成第一掩模区域和第二掩模区域来生成掩模，掩模区域是基于波形曲线来划分的；基于单元是处于第一掩模区域中还是处于第二掩模区域中，将指示符指派给掩模区域中的单元；识别锥形单元；确定是否修改锥形单元中的至少一个的指示符的指派；以及基于该确定来修改(或者在一些实例中，不修改)指示符的指派。下面关于例如图3、4、6、7和8来进一步详细地描述被执行以基于波形曲线来生成随机波掩模的过程的示例。

图1中图示的布置仅仅是示例，并且打印设备100可以被实现在数个不同配置中。例如，尽管图1示出了一个打印头组件110、流体供给组件120、介质组件130、处理器140、接口150和机器可读储存介质160，但打印设备100可以包括任何数目的部件110、120、130、140、150和160以及图1中未描绘的其他部件。例如，打印设备100可以省略部件110、120、130、140、150和160中的任一个和/或将部件110、120、130、140、150和160中的至少一个进行组合(例如，打印头组件110和流体供给组件120可以被一起容纳)。作为另一示例，尽管图1示出了部件110、120、130、140、150和160中的每一个是通信连接的，但部件110、120、130、140、150和160中的至少一个可以不通信连接到打印设备100的其他部件或外部部件。作为又一示例，尽管图1示出了部件110、120、130、140、150和160中的每一个处于打印设备100内部，但部件110、120、130、140、150和160中的至少一个可以处于打印设备100外部。例如，包括处理指令170的机器可读储存介质160可以位于处于打印设备100外部的计算系统中。

图2是与所公开的实现方式一致的打印图像240的打印头组件210的示例的顶视图。在某些方面中，打印头组件210可以对应于图1的打印头组件110。例如，打印头组件210可以执行与上面关于图1的打印头组件110描述的那些功能类似的功能和/或可以作为图1的打印设备100的一部分而被并入。尽管下面可以参照图1的打印设备100和/或打印设备100的具体部件来描述打印头组件210，但可以将其他合适系统和设备与打印头组件210一起使用。

如图2中所示，打印头组件210可以是包括多个模块220(220a和220b)的宽阵列或多头打印头组件。模块220中的至少一个可以包括至少一个打印头管芯230(230a、230b、230c、230d、230e、230f、230g、230h)。例如，每一个模块220可以包括多个打印头管芯230，并可以起下述作用：承载管芯230，并在打印头管芯230、打印流体供给组件(诸如，上面关于图1讨论的流体供给组件120)和/或电子控制器(诸如，上面关于图1讨论的处理器140和机器可读储存介质160)之间提供电气和流体通信。

管芯230可以安装在模块220(220a、220b)的面222(222a、222b)上且在至少一个行中对准。在一些实现方式中，打印头管芯230可以包括小滴喷射元件(诸如喷嘴)的至少一个阵列。在一些实现方式中，特定打印头管芯的至少一个小滴喷射元件可能与另一打印头管芯的另一小滴喷射元件重叠(例如，对其来说冗余)。也就是说，在一些示例中，特定管芯的小滴喷射元件可以与另一打印头管芯的另一喷嘴共享打印轴(即，在与打印介质在打印期间的前进方向基本上平行的方向上延伸的轴)，使得与打印轴相对应的目标像素能够由两个打印头管芯中的任一个打印。例如，打印头管芯230a可以包括与打印头管芯230b的小滴喷射元件的第二集合重叠的小滴喷射元件的第一集合，使得小滴喷射元件的第一集合和第二集合能够在打印介质的相同区域上(例如，在重叠区域224a上)喷射液滴。

在一些实现方式中，打印头管芯230可以被布置在至少一个重叠的行中。例如，打印头管芯230可以被布置在第一行和与第一行分隔开且基本上平行地取向的第二行中。附加地，第一行中的打印头管芯230可以与第二行中的打印头管芯230偏移，使得模块220的第一行中的每一个打印头管芯230关于与打印轴基本上垂直的方向而与第二行中的至少一个打印头管芯230重叠。由此，每一个打印头管芯230的打印条带可以与相同模块220中或不同模块220a和220b中的至少一个邻近打印头管芯重叠。

与两个打印头管芯230的重叠部相对应的打印介质的部分可以被视为重叠区域224a、224b、224c、224d、224e、224f、224g。打印设备100可以指示打印头管芯230中的特定喷嘴使用随机波掩模来在重叠区域224中进行打印。例如，打印设备100可以应用至少一个随机波掩模，使得打印头管芯230a可以打印重叠区域224a中的目标像素的一部分，并且打印头管芯230b可以打印重叠区域224a中的目标像素的另一部分。随机波掩模可以补偿由重叠的小滴喷射元件导致的图像质量误差。相应地，在一些示例中，随机波掩模可以包括基于随机化因子的使用而生成的图案。相应地，当打印设备100的处理器140执行随机波掩模识别指令170时，由重叠的小滴喷射元件导致的图像质量误差可能对查看所打印的图像的用户来说较不可见。例如，最终在与重叠区域224a至224g相对应的打印介质240的区域上打印的一个或多个图案可以包括变化振幅的振荡波形，如下面进一步详细描述。

应当理解，图2是打印头组件210的简化示意图示，并且与所公开的实现方式一致的打印头组件可以包括任何数目的模块、管芯等等。此外，与所公开的示例一致的模块和管芯可以是任何合适大小、形状和布置的。

图3是与所公开的实现方式一致的示例打印设备300的框图。在某些方面中，打印设备300可以对应于图1的打印设备100。打印设备300可以以各种方式实现。例如，打印设备300可以是执行接收和处理信息且提供响应的指令的打印机、专用计算机、服务器、大型计算机、计算设备、和/或任何其他类型的计算系统。在图3中所示的示例中，打印设备300可以包括数据点分布引擎310、波形曲线识别引擎320和随机波掩模生成引擎330。

引擎310、320和330可以是用于实现与所公开的示例一致的功能的电子电路。例如，引擎310、320和330可以表示用于实现与所公开的实现方式一致的功能的硬件设备和编程的组合。例如，针对引擎的编程可以是存储在非瞬变机器可读储存介质上的处理器可执行指令，并且针对引擎的硬件可以包括用于执行那些指令的处理器(即，至少一个处理器)。在一些示例中，引擎310、320和330的功能可以对应于由图1的打印设备100执行的操作，诸如，当随机波掩模识别指令170由处理器140执行时执行的操作。在图3中，数据点分布引擎310可以表示执行与当处理器140执行数据点分布指令172时执行的那些操作类似的操作的硬件和编程的组合。类似地，波形曲线识别引擎320可以表示执行与当处理器140执行波形曲线识别指令174时执行的那些操作类似的操作的硬件和编程的组合，并且随机波掩模生成引擎330可以表示执行与当处理器140执行随机波掩模生成指令176时执行的那些操作类似的操作的硬件和编程的组合。

图4是与所公开的实现方式一致的用于随机波掩模生成的示例过程400的流程图。尽管下面参照图1的打印设备100和/或打印设备100的具体部件来描述过程400的执行，但可以使用用于执行过程400的至少一个步骤的其他合适系统和设备。例如，下面描述为由打印设备100执行的过程可以由打印设备300和/或任何其他合适设备执行。过程400可以以存储在储存设备(诸如机器可读储存介质)上的可执行指令的形式和/或以电子电路的形式实现。

过程400可以在图像被打印在打印介质上之前开始(步骤s405)。例如，当打印设备100接收到或以其他方式访问在打印介质上打印内容的指令时，过程400可以开始。一旦打印设备100接收到或以其他方式访问指令，打印设备100就可以在掩模区域中分布数据点(步骤s410)。例如，打印设备100可以通过识别掩模区域的尺寸、沿掩模区域的第一轴识别数据点中的每一个的第一轴范围和/或针对数据点中的每一个识别掩模区域坐标的集合(例如，数值坐标对)，来在掩模区域中分布数据点。掩模区域坐标的集合(例如，特定数据点相对于第一轴和第二轴的位置)可以起下述作用：允许打印设备100在掩模区域中唯一地识别每一个数据点。在一些实现方式中，数据点可以被随机地分布在掩模区域中。例如，可以基于(例如，通过应用)具有位于掩模区域的边缘处(例如，位于掩模区域的第一边缘和第二边缘处)的最大概率密度的概率密度函数(例如，描述数据点被定位在特定位置处的相对可能性的函数)来分布数据点。因此，在一些实现方式中，数据点可以具有被定位在掩模区域边缘附近的更高概率。例如，可以基于第一轴位置来应用概率密度函数。下面关于例如图5、7和9来更详细地讨论可涉及在掩模区域中分布数据点的步骤的示例。

过程400还可以包括：识别拟合数据点的波形曲线(步骤s420)。在一些实现方式中，打印设备100可以识别包括变化振幅的振荡波形的波形曲线。例如，打印设备100可以拟合对数据点进行近似的平滑曲线以生成振荡波形。可以生成平滑曲线，使得其具有大量的平滑峰和谷，波形具有适中的频率，和/或波形经过数据点中的每一个或在数据点中的每一个附近行进。在一些实现方式中，可以基于多项式函数来拟合曲线。例如，可以通过基于数据点创建五次b样条(afifthdegreeb-spline)来拟合曲线。下面关于例如图7和9来更详细地讨论可涉及识别拟合数据点的波形曲线的步骤的示例。

过程400还可以包括：基于波形曲线来生成随机波掩模(步骤s430)。在一些实现方式中，随机波掩模可以包括多个单元。例如，打印设备100可以通过将掩模区域划分成多个单元来生成随机波掩模，其中每一个单元可以对应于掩模区域内的坐标对。例如，掩模区域可以被划分成数个更小的矩形和/或正方形，并且每一个更小的矩形和/或正方形可以被视为单元。在一些实现方式中，打印设备100还可以通过基于该多个单元中的每一个是位于波形曲线的一侧还是位于波形曲线的另一侧将指示符指派给该单元，来生成随机波掩模。例如，波形曲线可以将掩模区域划分成第一掩模区域和第二掩模区域，并且打印设备100可以将指示符(例如，第一指示符和第二指示符之一)指派给每一个单元。第一指示符可以被指派给该多个单元中与第一掩模区域相对应的单元，而第二指示符可以被指派给该多个单元中与第二掩模区域相对应的单元。指示符可以标识小滴喷射元件的哪个集合将点火以将内容打印到打印介质上，并可以是至少一个数字、字母、符号、和/或标识小滴喷射元件的哪个集合将被点火以在例如重叠区中打印介质上打印内容的任何其他类型的字符或信息。例如，第一指示符可以指示小滴喷射元件的第一集合将点火以在打印介质上打印内容，而第二指示符可以指示小滴喷射元件的第二集合将点火以在打印介质上打印内容。在一些实现方式中，在指示符被指派之后，可以基于第二概率密度函数来修改一些单元(例如，接近于和/或邻近于波形曲线的单元)的指示符。在步骤s410至s430中的至少一个已经被执行之后，过程400可以结束(步骤s445)。下面关于例如图6-9来更详细地讨论可涉及基于波形曲线来生成随机波掩模的步骤的示例。

图5是与所公开的实现方式一致的用于在掩模区域中分布数据点的示例过程500的流程图。尽管下面参照图1的打印设备100和/或打印设备100的具体部件来描述过程500的执行，但可以使用用于执行过程500的至少一个步骤的其他合适系统和设备。例如，下面描述为由打印设备100执行的过程可以由打印设备300和/或任何其他合适设备执行。过程500可以以存储在储存设备(诸如机器可读储存介质)上的可执行指令的形式和/或以电子电路的形式实现。

一旦过程500开始(步骤s505)，过程500就可以包括：识别掩模区域的尺寸(步骤s510)。在一些实现方式中，打印设备100可以基于预定随机波掩模长度和宽度来识别掩模区域的尺寸。例如，掩模区域可以与要由掩模生成引擎(诸如随机波掩模生成引擎330)生成的随机波掩模相对应或者以其他方式与其等同。在一些实现方式中，掩模区域长度和/或宽度可以被确定为提高数据点分布的随机性的最长可能长度和/或最宽可能宽度。在一些示例中，这可以减少由随机波掩模生成的图案将被重复的次数。

过程500还可以包括：沿掩模区域的第一轴识别数据点中的每一个的第一轴范围(步骤s520)。在一些实现方式中，可以通过将掩模区域划分成多个功能区域来识别第一轴范围。例如，打印设备100可以将掩模划分成多个功能区域，诸如通过基于第一边缘间隔沿第一边缘将掩模区域划分成多个功能区域。第一边缘间隔可以是预定数目，或者可以基于第一边缘的长度。例如，打印设备100可以通过将第一边缘的长度除以要在掩模区域中绘制的数据点的数目(例如，预定数目)来定义第一边缘间隔。

过程500还可以包括：针对数据点中的每一个识别掩模区域坐标的集合(步骤s530)。在一些实现方式中，可以通过生成和/或应用至少一个概率密度函数来识别掩模区域坐标的集合。例如，打印设备100可以针对功能区域中的每一个生成概率密度函数，并基于至少一个数据点的关联的概率密度函数来在功能区域中的每一个中分布该至少一个数据点。因此，在一些实现方式中，概率密度函数中的每一个可以与功能区域中的至少一个相关联。在一些实现方式中，概率密度函数可以具有邻近于掩模区域的边缘(例如，邻近于掩模区域的第一边缘和第二边缘)定位的最大概率密度。因此，在每一个功能区域内，与掩模区域的中间形成对照，每一个数据点具有被放置在掩模区域的边缘(例如，掩模区域的与打印方向基本上平行的边缘)附近的更高概率。

在一些实现方式中，基于区域的概率密度函数而对数据点的分布可以限于沿单个轴的分布。例如，数据点的第一轴位置可以基于第一边缘的长度以及数据点中的每一个之间的第一轴间隔(例如，预定第一轴间隔)。因此，在一些示例中，掩模区域坐标中的坐标之一可以是预定数目(例如，基于点之间的预定间隔的数目)，而坐标中的另一个可以基于概率密度函数而选择。在步骤s510、s520和s530中的至少一个已经被执行之后，过程500可以结束(步骤s545)。下面关于例如图7来更详细地讨论可涉及将掩模区域划分成多个功能区域、识别第一轴范围和/或识别掩模区域坐标的集合的步骤的示例。

图6是与所公开的实现方式一致的用于生成随机波掩模的示例过程600的流程图。尽管下面参照图1的打印设备100和/或打印设备100的具体部件来描述过程600的执行，但可以使用用于执行过程600的至少一个步骤的其他合适系统和设备。例如，下面描述为由打印设备100执行的过程可以由打印设备300和/或任何其他合适设备执行。过程600可以以存储在储存设备(诸如机器可读储存介质)上的可执行指令的形式和/或以电子电路的形式实现。

过程600可以在波形曲线已经被识别之后开始(s605)。例如，如上所讨论，波形曲线可以将掩模区域划分成两个区域(例如，第一掩模区域和第二掩模区域)。掩模区域在曲线一侧的部分可以被视为第一掩模区域，并且掩模区域在曲线另一侧的部分可以被视为第二掩模区域。如上所讨论，掩模区域可以包括多个单元，并且因此，一些单元可以被视为第一掩模区域的一部分，而其他单元可以被视为第二掩模区域的一部分。在一些实现方式中，掩模区域中(不论是第一掩模区域中还是第二掩模区域中)的每一个单元可以被定义成使得其对应于打印介质和/或小滴喷射元件的重叠区域中的目标像素。

过程600可以包括：将指示符指派给该多个单元中的每一个(步骤s610)。在一些实现方式中(并且如上所讨论)，指示符可以是第一指示符和第二指示符之一，并可以标识小滴喷射元件的哪个集合将点火以将内容打印到打印介质上，且可以是至少一个数字、字母、符号、和/或标识小滴喷射元件的哪个集合将被点火以在打印介质上打印内容的任何其他类型的字符或信息。例如，指示符可以标识小滴喷射元件的第一集合还是小滴喷射元件的第二集合将针对打印介质的重叠区域中的特定目标像素而点火。例如，第一指示符可以指示小滴喷射元件的第一集合将点火以在打印介质上打印内容，而第二指示符可以指示小滴喷射元件的第二集合将点火以在打印介质上打印内容。

过程600可以包括：基于与波形曲线的接近度来识别锥形单元(步骤s620)。在一些实现方式中，识别锥形单元可以包括：识别邻近于波形曲线(例如，平滑曲线)的多个单元(例如，锥形单元)。例如，邻近于波形曲线(例如，平滑曲线)的锥形单元可以包括邻近于波形曲线(例如，平滑曲线)的预定数目的单元。打印设备100可以确定包括波形曲线(例如，平滑曲线)的单元和/或波形曲线(例如，平滑曲线)两侧中的任一侧的某个数目的单元可以构成锥形单元。在一些实现方式中，在第一掩模区域和第二掩模区域中可以存在相等数目的锥形单元。例如以及如图8中所示，单元的掩模区域可以包括单元的行和列。在一些实现方式中，对于包括随机波形曲线的每一个单元，打印设备100可以选择掩模区域中的与特定单元处于相同列中且处于该特定单元两侧中的任一侧的一定数目(例如1、2、3、4等)个单元。例如，打印设备100可以识别直接处于特定单元上面的三个单元和直接处于特定单元下面的三个单元作为锥形像素。

过程600可以包括：基于第二概率密度函数来确定是否修改锥形单元中的至少一个的指示符的指派(步骤s630)。例如，上面讨论的概率密度函数可以是第一概率密度函数。在一些示例中，第二概率密度函数可以不同于第一概率密度函数。例如，对于最接近于波形曲线的单元，第二概率密度函数可以具有最大概率密度。在一些实现方式中，第二概率密度函数可以具有远离随机波形曲线移动的减小的概率密度。因此，在一些示例中，锥形单元越接近于波形曲线，则切换初始指派的概率越高。例如，与包括波形曲线的单元处于相同列中且最接近于包括波形曲线的单元的锥形单元可以有90％的概率使其关联指示符的指派得以修改，而与包括波形曲线的单元最远的处于相同列中的锥形单元可以有10％的概率使其指示符指派得以修改。因此，在一些示例中，可以通过确定是否将锥形单元中的至少一个的初始指派从小滴喷射元件的第一集合切换到小滴喷射元件的第二集合来生成随机波掩模。附加地，在一些示例中，该确定可以基于锥形单元与波形曲线(例如，平滑曲线)的接近度。在一些实现方式中，通过修改锥形单元的指派，可以使由小滴喷射元件的第一集合和小滴喷射元件的第二集合打印的内容之间的边界更不清楚和/或以其他方式模糊。可以在图7中更详细地看到这些模糊边界的示例。一旦打印设备100已经确定要修改锥形单元中的哪个或哪些(如果有的话)，过程600就还可以包括：基于该确定来修改指示符的指派(步骤s640)。在步骤s610、s620、s630和s640中的至少一个已经被执行之后，过程600可以结束(步骤s655)。

图7图示了与所公开的实现方式一致的被执行以生成随机波掩模的示例过程(s750、s752、s754、s756、s758)。尽管这些过程是参照图1的打印设备100和/或打印设备100的具体部件来描述的，但可以使用其他合适系统和设备。例如，可以使用打印设备300和/或任何其他合适系统或设备以执行图7中图示的过程。

如图7中所示，打印设备100可以识别掩模区域710。掩模区域710可以具有边缘，诸如第一边缘711、第二边缘713、第三边缘715和第四边缘717。在一些示例中，边缘可以是平行的(即，精确地平行或基本上平行)。例如，第一边缘711和第二边缘713可以彼此平行。作为另一示例，第三边缘715和第四边缘717可以彼此平行和/或与第一边缘711和/或第二边缘713垂直(即，精确地垂直或基本上垂直)。在一些示例中，第一边缘711可以定义第一轴，并且第二边缘713可以定义第二轴。第一轴可以平行于第一边缘，并且第二轴可以平行于第二边缘。第一和第二轴可以用于帮助识别特定数据点的位置。尽管在图7中所示的示例中掩模区域710被示作矩形，但与所公开的实现方式一致的掩模区域可以是任何合适大小或形状。

打印设备100可以使用例如上面描述的方法将掩模区域710划分(例如，使用处理器)成多个功能区域712(步骤s750)。如图7中所示，该多个功能区域可以彼此重叠(为了清楚，在与步骤s750相关联的掩模区域710中示出仅一个重叠区域)。打印设备100还可以生成多个概率密度函数714，其中概率密度函数714中的每一个与功能区域712之一相关联且具有邻近于掩模区域的边缘(例如，第一边缘711和第二边缘713)定位的最大概率密度。因此，在一些实现方式中，概率密度函数可以遵循逆正态分布，该逆正态分布具有掩模区域的第一边缘711上的第一最大值、掩模区域的第二边缘713上的第二最大值和掩模区域的第三边缘715上的最小值。例如，概率密度函数714可以遵循二项式分布，其中存在掩模区域710的边缘(例如，第一边缘711和第二边缘713)处的两个最大概率和掩模区域710的另一边缘(例如，第三边缘715)处的最小概率。在图7中所示的示例中，概率密度函数714可以被定位在功能区域712中的每一个内。

打印设备100还可以基于关联的概率密度函数714来在功能区域712中的每一个中分布(例如，使用处理器)至少一个数据点722(步骤s752)。例如，打印设备100可以基于根据概率密度函数714而对位置的随机选择来确定点在功能区域712内的位置。例如，如果概率密度函数714遵循如图7中所示的逆正态分布，则较可能的情况是将更接近于掩模区域710的边缘711、713放置数据点，并且较不可能的情况是可以更接近于功能区域712的中心线(即，与边缘711、713平行的中心线)放置数据点。在一些实现方式中，概率密度函数714中的每一个可以对应于单个数据点。例如，每一个功能区域712可以包括基于概率密度函数714在功能区域中放置的单个数据点722。在一些示例中，可以沿单个轴(例如，第一轴)或多个轴(例如，第一轴和第三轴)随机定位数据点722。因此，在一些实现方式中，每一个数据点722可以与单个功能区域712和单个概率密度函数714相对应。

打印设备100还可以识别(例如，使用处理器)将功能区域中的每一个中的数据点相连接的波形曲线，其中波形曲线包括变化振幅的振荡波形(步骤s754)。在一些实现方式中，可以通过使用上面讨论的方法(诸如通过创建五次b样条)来识别波形曲线。打印设备100还可以基于波形曲线来生成(例如，使用处理器)随机波掩模(步骤s756)。例如，打印设备100可以使用上面描述的过程中的至少一个(诸如通过将掩模区域划分成多个单元、基于该多个单元中的每一个是位于波形曲线的一侧还是位于波形曲线的另一侧将指示符指派给该单元、以及潜在地基于第二概率密度函数修改锥形单元的指示符的指派)来生成随机波掩模。打印设备100还可以基于随机波掩模来在打印介质上打印内容(例如，使用处理器)(步骤s758)。例如，打印设备100和/或另一设备可以将随机波掩模应用于多个小滴喷射元件以将打印流体沉积到打印介质上。如图7中所示，浅色区域744可能已经由小滴喷射元件的第一集合沉积，而深色区域746可能已经由小滴喷射元件的第二集合沉积。如图7中所示，已经基于对随机波掩模中的锥形单元的指示符的修改来软化波形曲线的边界或使波形曲线的边界更模糊。

应当理解，图7(以及类似地，下面的图8)是简化图示。因此，例如，与所公开的实现方式一致的随机波掩模可以包括更多单元，并可以基于更多数据点、更多波形曲线等等。作为另一示例，与所公开的示例一致的掩模可以具有任何合适大小、形状和布置的单元。

图8图示了与所公开的实现方式一致的随机波掩模800的部分的示例。在某些方面中，随机波掩模800可以对应于上面描述的随机波掩模中的至少一个，且可以适用于上面描述的各种部件。在一些实现方式中，随机波掩模800可以是交织掩模、二元掩模、二元滤波器等等，其指示打印头组件(诸如打印头组件110、打印头组件210等等)的个体小滴喷射元件对按所定义的点火顺序出现在图像文件中的像素进行寻址。在图8中所示的示例中，随机波掩模800可以对应于针对从小滴喷射元件的第一集合(例如，具有指示符“0”的单元)和小滴喷射元件的第二集合(例如，具有指示符“1”的单元)点火的目标像素的掩模。目标像素可以被视为与出现在图像文件中的像素相对应的要在打印介质上打印的像素。在一些实现方式中，随机波掩模800可以包括定义多个单元810的多个行和列(为了简明，其中仅一个列已经在图8中被标记为810a、810b、810c、810d、810e、810f、810g和810h)，并且每一个单元810可以对应于覆盖区域(诸如，图2中所示的重叠区域224a至224g)中的目标像素。如图8中所示，每一个单元可以指示目标像素将包括由第一打印头管芯(被标记为“0”)中的小滴喷射元件的第一集合点火的打印流体还是由第二打印头管芯(被标记为“1”)中的小滴喷射元件的第二集合点火的打印流体。单元中的字符“0”可以指示针对目标像素点火打印头管芯0的至少一个喷嘴，并且单元中的字符“1”可以指示针对目标像素点火打印头管芯1的至少一个喷嘴。如图8中所示，要由小滴喷射元件的第一集合点火的目标像素可以在波形曲线832处或在波形曲线832附近碰到要由小滴喷射元件的第二集合点火的目标像素。

图9是与所公开的实现方式一致的用于生成随机波掩模的示例过程900的流程图。尽管下面参照图1的打印设备100和/或打印设备100的具体部件来描述过程900的执行，但可以使用用于执行过程900的至少一个步骤的其他合适系统和设备。例如，下面描述为由打印设备100执行的过程可以由打印设备300和/或任何其他合适设备执行。过程900可以以存储在储存设备(诸如非瞬变机器可读储存介质)上的可执行指令的形式和/或以电子电路的形式实现。

过程900可以开始(步骤s905)，并可以包括与上面执行的步骤相同或类似的数个步骤。在一些实现方式中，过程900可以包括：将掩模区域坐标对指派给多个数据点中的每一个，掩模区域坐标的第一坐标对基于概率密度函数(步骤s910)。在一些实现方式中，掩模区域坐标对可以是使用上面讨论的方法来指派的。例如，掩模区域坐标可以是通过下述操作来指派的：将掩模区域划分成多个功能区域；生成至少一个概率密度函数；以及基于其关联概率密度函数来在功能区域中的每一个中分布至少一个数据点。过程900还可以包括：对数据点拟合平滑曲线以生成变化振幅的振荡波形(步骤s920)。例如，如上所讨论，可以通过生成五次b样条来拟合平滑曲线。过程900还可以识别邻近于平滑曲线的锥形单元(步骤s930)以及基于平滑曲线和所识别的锥形像素来生成随机波掩模(步骤s940)。例如，如上所讨论，打印设备100可以基于与波形曲线的接近度来识别锥形单元，并基于第二概率密度函数来确定是否修改与那些单元相关联的指示符。邻近于平滑曲线的锥形单元可以包括邻近于波形曲线的预定数目的单元，并且，通过确定是否将至少一个锥形单元的初始指派从小滴喷射元件的第一集合切换到小滴喷射元件的第二集合来生成波掩模，该确定基于锥形单元与平滑曲线的接近度。在一些实现方式中，锥形单元越接近于波形曲线，则切换初始指派的概率越高。一旦过程910、920、930和940中的至少一个已经被执行，过程900就可以结束(步骤s955)。

所公开的示例可以包括用于随机波掩模生成的系统、设备、计算机可读储存介质和方法。出于解释的目的，参照图1-9中图示和/或描述的部件来描述某些示例。然而，这些部件的功能可以重叠，且可以存在于更少或更多数目的元件和部件中。进一步，所图示的元件的功能的全部或部分可以共存或分布在若干个地理上分散的位置当中。此外，所公开的示例可以被实现在各种环境中，且不限于所图示的示例。

此外，如说明书和所附权利要求中所使用，单数形式“一”、“一个”和“该”意图也包括复数形式，除非上下文以其他方式指示。附加地，尽管本文可以使用术语第一、第二等以描述各种元件，但这些元件不应受该术语限制。取而代之，这些术语用于将一个元件与另一个元件进行区分。

进一步，结合图1-9描述的操作的顺序是示例，且不意图进行限制。在不脱离所公开的示例的范围的情况下，可以使用附加的或更少的操作或操作组合，或者附加的或更少的操作或操作组合可以发生变化。因此，本公开仅阐述了实现方式的可能示例，并且，可以对所描述的示例作出许多变形和修改。所有这样的修改和变形意图被包括在本公开的范围内且受所附权利要求保护。