实现金属基材表面3D纹理的方法及终端与流程

本发明涉及外壳加工工艺领域，特别是涉及一种实现金属基材表面3d纹理的方法及终端。

背景技术：

随着用户对产品的产品外观质感要求的不断提升，便携式终端，如手机、平板电脑等越来越多使用金属外壳，对于以往在塑料外壳表面做出的各种装饰效果，如拉丝等各种纹理的工艺无法应用到金属外壳上。本发明提供一种金属外壳的纹理加工工艺。

技术实现要素：

基于此，本发明提供一种实现金属基材表面3d纹理的方法和终端。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：一种实现金属基材表面3d纹理的方法，所述方法包括以下步骤：

对金属基材一表面进行菲林曝光，其中菲林上排布有相互间隔的多个待蚀刻图案；

对所述金属基材所述表面进行蚀刻，蚀刻液作用在所述图案所对应的所述金属基材表面上，且处于已被蚀刻的金属基材凹面的蚀刻液进一步作用在所述相邻待蚀刻图案之间的区域，以缩小或去除所述图案相邻间隔所对应的部分金属基材，进而形成3d纹理图。

本发明还提供一种终端，其表面具有3d纹理的外壳，所述外壳具有如上方法形成的3d纹理图。

以上方案，在菲林曝光之后，菲林层上排布有相互间隔的多个待蚀刻图案，每个待蚀刻图案之间的间隔比较小。在对菲林层下方的金属基材进行蚀刻的时候，初步蚀刻之后在金属基材表面形成凹面后，继续蚀刻，使得位于凹面中的蚀刻液到待蚀刻图案之间的菲林层以下，因此凹面的边缘已经不受菲林层的保护，所以蚀刻液将进一步作用在所述相邻待蚀刻图案之间的区域所对应的金属基材，以缩小或去除相邻凹面之间的间隔，进而形成3d纹理图。

附图说明

图1是本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的一实施方式的流程示意图；

图2是本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的一实施方式中金属基材加工之前的一角度的截面示意图；

图3是本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的一实施方式中菲林曝光后的金属基材的俯视示意图；

图4是本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的一实施方式中对金属基材的一表面进行蚀刻后的金属基材的截面示意图；

图5是本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的另一实施方式的流程示意图；

图6是图5所示的流程之后金属基材的截面示意图；

图7是本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的又一实施方式的流程示意图；

图8是本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的再一实施方式的流程示意图；

图9是本发明终端一实施方式的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本发明进行详细说明。

请参阅图1、图2和图3，图1为本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的一实施例方式的流程示意图。该方法包括：

s101：对金属基材10一表面11进行菲林曝光，其中菲林层上排布有相互间隔的多个待蚀刻图案100。

具体的，参见图2，图2为实现金属基材表面3d纹理的方法的一实施方式中金属基材加工之前的一角度的截面示意图，金属基材10包括一表面11和另一表面12。

s102：对金属基材100的一表面11进行蚀刻，以形成3d纹理图300。

对金属基材10的一表面11进行蚀刻，蚀刻液作用在待蚀刻图案100所对应的金属基材10的一表面11形成多个凹面400，处于凹面400的蚀刻液进一步作用在相邻待蚀刻图案100之间的区域所对应的金属基材10，即进一步蚀刻凹面400的边缘，以缩小或去除相邻凹面400之间的间隔，进而形成3d纹理图。

蚀刻液作用在待蚀刻图案100所对应的金属基材10的一表面11初步形成多个凹面400后，继续蚀刻，使得位于凹面400中的蚀刻液到待蚀刻图案100之间的菲林层以下，因此凹面400的边缘已经不受菲林层的保护，所以蚀刻液将进一步蚀刻凹面400的边缘，以缩小或去除相邻凹面400之间的间隔。

图3是步骤s101执行之后的金属基材10的俯视示意图；图4是步骤s102执行之后的金属基材10的俯视示意图。

参见图3，可选地，一实施方式中对金属基材10的一表面11进行菲林曝光，菲林层上形成多个待蚀刻图案100及位于相邻的待蚀刻图案100之间的保护图案200。本实施例中，待蚀刻图案100包括相互邻近间隔分布的第一待蚀刻图案110、第二待蚀刻图案120及第三待蚀刻图案130。参见图4，步骤s102执行时，第一待蚀刻图案110、第二待蚀刻图案120及第三待蚀刻图案130对应的金属基材10的一表面11被蚀刻液蚀刻进而于金属基材表面形成凹面400；该凹面400对应于第一待蚀刻图案110、第二待蚀刻图案120及第三待蚀刻图案130分别形成第一凹面410、第二凹面420和第三凹面420。上述凹面100初步形成后，位于凹面100中的蚀刻液会继续蚀刻，直至到达菲林层以下，因此凹面的边缘已经不受菲林层的保护，所以蚀刻液将进一步蚀刻第一、第二和第三凹面410、420、430的边缘，以缩小或去除第一凹面410与第二凹面420之间，及第二凹面420与第三凹面430之间的间隔，最终在金属基材10的一表面11得到图3所示的3d纹理图300。本实施例中，相邻凹面400之间的间隔完全消除，即蚀刻液蚀刻相邻待蚀刻图案100之间的区域所对应的金属基材，直至相邻待蚀刻图案100之间的区域所对应的金属基材表面低于金属基材的未蚀刻表面。在其他实施例中，相邻凹面400之间的间隔也可以保留成非常小。

可选地，本实施例中，多个待蚀刻图案100均为圆形状，第一待蚀刻图案110位于金属基材10的一表面11的中央位置，第二待蚀刻图案120位于第一待蚀刻图案110四周，第三待蚀刻图案130进一步扩散到第二待蚀刻图案120四周，且第一、第二及第三待蚀刻图案110、120、130的面积逐渐减小。这种第一、第二及第三待蚀刻图案110、120、130的面积逐渐减小的设计，能够使得面积大的待蚀刻图案110对应的凹面400蚀刻深度比其他待蚀刻图案120、130所对应的凹面400要深，同样地，待蚀刻图案120所对应的凹面400蚀刻深度比待蚀刻图案130所对应的凹面400要深，再加上凹面400之间的边缘逐渐被蚀刻，最终形成的效果是形成如图4所示的多个凹面400连成一体的结构，此一体的结构中央较低而边缘较高，形成独特的制作方能定义的3d纹理。在其他实施例中第一、第二及第三待蚀刻图案110、120、130的面积也可以是逐渐增大。可以理解的，在其他实施例中，多个待蚀刻图案100的形状、面积大小均可根据最终要得到的3d纹理来设计，并不限制于上述简单变化的图案形状。

可选地，在其他实施例中，也可以是中间待蚀刻图案的密度比较大，然后向四周扩散的待蚀刻图案的密度逐渐减少。

可选地，在其他实施例中，3d纹理图300包括多组，形成在金属基材10的一表面11，每组3d纹理图300的形状大小可相同或者不同。

参见图5和图6，图5为本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的另一实施例方式的流程示意图；图6为该实施方式形成的金属基材一角度的截面示意图。该方法包括：

s201：对金属基材10的一表面11进行菲林曝光，其中菲林层上排布有相互间隔的多个待蚀刻图案100。

s202：对金属基材10的一表面11进行蚀刻，以形成3d纹理图300。

s203：对3d纹理图300表面进行镭雕。

经过步骤s201和s202之后形成的3d纹理图300表面存在边角或毛刺，或存在没有完全消除的存在两个凹面400之间的间隔，进而导致3d图案300的表面不顺滑，通过镭雕即可得到如图6所示的具有光滑表面的3d纹理图300。可选地，采用激光镭雕，镭雕采用激光波长为266-1064nm，工作电流7-18a，功率密度为100—109w/cm²。具体的，激光镭雕的加工原理是通过激光束作用于材料表面，使材料吸收激光能量而汽化蒸发，不需要通过与材料的接触来进行。

可选地，在其他实施例中，还包括对金属基材10的一表面11进行后处理。该后处理包括：抛光、喷砂、阳极氧化及清洗。这样能够保证金属基材10的一表面11的平整度和清洁度。

参见图7，为本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的又一实施例方式的流程图。该方法包括：

s301：对金属基材10的一表面11进行菲林曝光，其中菲林层上排布有相互间隔的多个待蚀刻图案100。

s302：对金属基材10的与一表面11的相背的另一表面12进行曝光保护。

具体的，可以对金属基材10的一表面11和相背的另一表面12均实行曝光，但是一表面11上具有光罩，另一表面12上没有光罩，且仅仅对一表面11实行蚀刻，对另一表面12不进行蚀刻。通过对另一表面12进行曝光，可以保护另一表面12下的内部结构。

s303：对金属基材所述表面进行蚀刻，以形成3d纹理图。

参见图8，为本发明实现金属基材表面3d纹理的方法的又一实施例方式的流程图。该方法包括：

s401：对金属基材10的前后表面首次浸涂感光油墨。

一般终端的金属壳体结构复杂，因此需要在菲林曝光蚀刻之前对整体金属基材10进行浸涂感光油墨，进而保护好金属壳体里面的结构在后续工艺蚀刻时不被腐蚀破坏。

s402：对金属基材一表面进行菲林曝光，其中菲林层上排布有相互间隔的多个待蚀刻图案。

s403：对金属基材所述表面进行蚀刻，以形成3d纹理图。

以上实施方式可满足各式3d金属图案的设计要求，通过在菲林层上排布相互邻近间隔的多个待蚀刻图案100，在对菲林层下方的金属基材进行蚀刻的时候，初步蚀刻之后在金属基材10的一表面11形成凹面400后，继续蚀刻，直至位于凹面400中的蚀刻液到菲林层以下，因此凹面400的边缘已经不受菲林层的保护，所以蚀刻液将进一步作用在凹面400的边缘，以缩小或去除相邻凹面400之间的间隔，进而形成3d纹理图300。再结合镭雕工艺，使3d纹理图300表面顺滑，成型质量高，可复制性强，利于工业规模化生产。

参见图9，本发明还提供一种终端，该终端包括机身20及设置在机身20上与屏幕相背一侧上的外壳10，该外壳10具有如如上实施方式形成的3d纹理图。

以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。