技术总结
本发明公开了一种边缘保护装置和光刻机，该边缘保护装置包括：旋转机构，安装在所述光刻机上，且所述旋转机构的旋转中心与光刻机的物镜轴线重合；移动机构，与所述旋转机构的边缘连接，用于调节涂覆保护机构的位置；以及涂覆保护机构，安装在所述移动机构底部，位置与硅片边缘对应，且所述涂覆保护机构与所述硅片边缘软接触。本发明设置有移动机构调节涂覆保护机构的位置，一套硅片边缘保护装置即可实现所有大小的硅片边缘保护；涂覆保护机构与所述硅片边缘软接触，不会发生硅片碰撞，保证硅片质量，降低硅片的报废率。
技术研发人员：胡月;黄静莉
受保护的技术使用者：上海微电子装备有限公司
文档号码：201510270032
技术研发日：2015.05.24
技术公布日：2017.01.04