技术总结
本发明揭示了一种掩膜版的版图修正方法、掩膜版及其制造方法。本发明提供的掩膜版的版图修正方法,包括提供前端版图,所述前端版图中存在非零图形密度的第一单元;对所述前端版图进行检查,若所述前端版图中存在图形密度为零的第二单元,则对所述第二单元添加SRAF图形,所述SRAF图形小于的光刻设备的分辨率。与现有技术相比,添加SRAF图形后,能够使得各个单元的图形密度变得接近。那么由此进一步获得的掩膜版,能够使得光罩整体的图形密度变得均匀,提高了光罩的合格率,基本上避免了报废。
技术研发人员:张士健;郁志芳;刘丽;戴文旗;徐佳明
受保护的技术使用者:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
文档号码:201510567725
技术研发日:2015.09.08
技术公布日:2017.03.15