用于控制膜的张力的系统以及包含该系统的用于制造偏振板的系统的制作方法

本公开涉及一种膜张力控制系统以及包含该系统的用于制造偏振板的系统，并且更具体地，涉及一种在从偏振膜的一个表面层分离(delaminating)离型膜后再次层压的过程中用于适当保持偏振膜和离型膜的张力的膜张力控制系统以及包含该系统的用于制造偏振板的系统。

本申请要求于2014年8月14日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2014-0106156号的优先权，通过整体引用的方式将其公开内容并入本文。

背景技术：

偏振板通常可以通过如下方法制造：在聚乙烯醇(pva)膜的两个表面上层压三醋酸纤维素(tac)膜，将保护膜粘附到任意一个表面上的tac膜表面来制作多结构偏振膜，以及使用粘合剂将离型膜粘附到与形成所述保护膜的表面的相对表面上。

参考图1，由如上所述的层叠过程制作的多结构偏振板在通过切割过程切割成最佳长度后输送，并且在输送所述偏振板前进行检查来确定杂质是否被引入到粘合剂层中。

即，杂质可能在制造偏振板的粘合剂涂敷(涂布)操作期间引入到粘合剂中，并且在此情况下，可出现点缺陷，并且为了检测所述缺陷，用同一偏振板以交叉位置测量漏光量。

但是，在所述检查阶段，粘附到偏振膜的一个表面的离型膜可减少光的偏振度，导致对可能已引入的杂质的错误的检查。

技术实现要素：

技术问题

设计本公开以解决上述问题，并且本公开的目的是改善对可能已引入到在偏振膜的一个表面上形成的粘合剂层中的杂质的检查的准确度，并且在再次层压已彼此层分离的两个膜过程中通过适当保持偏振膜和离型膜的张力来改善制造的偏振板的质量。

本公开的其他目的和优点将从本公开的以下描述和示例性实施方式中显而易见。并且，将容易理解的是，本公开的目的和优点是由在所附权利要求中所述的手段及其组合来实现。

技术方案

为达到上述目的，根据本公开的一个实施方式的膜张力控制系统包括：层分离单元，其被安装在偏振板的转移路径上以从偏振膜层分离离型膜，所述偏振板包括所述偏振膜和粘附到所述偏振膜的一个表面的离型膜；检查单元，其被安装在偏振膜的转移路径上以检查杂质是否存在于在偏振膜的一个表面上形成的粘合剂层中；张力指示单元，其被安装在离型膜的移动路径上以指示施加到所述离型膜的张力程度；再次层压单元，其将已通过所述张力指示单元的离型膜再次层压到已通过所述检查单元的偏振膜的粘合剂层上，以及张力调节单元，其被安装在再次层压的偏振板的转移路径上以调节光学膜和离型膜的张力。

所述膜张力控制系统可包括安装在所述偏振膜、所述离型膜和所述偏振板的转移路径上以引导各部件的转移的多个导辊。

所述层分离单元可包括设置在相反两侧(oppositesides)的一对辊，所述偏振板夹在所述一对辊之间。

在所述一对辊中，与所述离型膜接触的辊可以吸附所述离型膜以从所述偏振膜层分离所述离型膜。

所述检查单元可包括光源和视觉摄像机，其被设置在关于夹在所述光源和视觉摄像机中间的偏振膜的相反两侧，以及在所述光源和所述视觉摄像机之间设置的交叉滤光片(crossfilter)。

所述张力指示单元可以是安装以使得当离型膜的张力增加时上移且当离型膜的张力减少时下移的跳动辊(dancerroller)。

所述再次层压单元可以以一对辊的形式实施，所述一对辊被设置在关于夹在所述一对辊中间的所述偏振膜和离型膜的相反两侧。

所述张力调节单元可包括引导再次层压的偏振板转移的活动辊；以及连接所述活动辊以上移和下移所述活动辊的调节器。

所述膜张力控制系统能够使所述指示单元和所述张力调节单元配合动作(interoperation)。

为达到上述目的，实施根据本公开的一个实施方式的用于制造偏振膜的系统以包括所述膜张力控制系统。

有益效果

根据本公开的一个方面，在确定杂质是否已引入在偏振膜的一个表面上形成的粘合剂层中的检查中，其准确度可以增加。

根据本公开的另一个方面，在层分离以进行对可能已引入的杂质的检查的偏振膜和离型膜的再次层压中，可以通过适当保持两个膜的张力来改善制造的偏振板的质量。

附图说明

附图显示本公开的优选实施方式，并与先前公开的内容一起用来提供本公开的技术实质的进一步理解，并且因此，本公开不解释为局限于附图。

图1为显示根据现有技术的用于制造偏振板的系统的方框图。

图2为显示根据本公开的一个实施方式的膜张力控制系统以及包含该系统的用于制造偏振板的系统的方框图。

图3为显示应用于本公开的偏振板的示例性实施的图。

图4为显示根据本公开的一个实施方式的膜张力控制系统的示例性实施的图。

图5为显示在两个层分离的膜之间的张力关系的图。

图6至9为显示张力指示单元基于偏振膜的张力水平的移动和张力调节单元对此做出反应的移动的图。

图10为显示根据本公开的另一个实施方式的对偏振膜的张力控制系统的一部分的方框图。

具体实施方式

以下，将详细描述本公开。在描述之前，应当理解的是，在本说明书和所附权利要求中使用的术语不应当解释为局限于一般含义和词典含义，而是在允许发明人适当地定义术语以供最佳说明的原则的基础上，基于与本公开的技术方面相应的含义和概念来解释。因此，在此提出的描述只是仅用于说明目的的优选的例子，不意欲局限本公开的范围，因此，应当理解的是在不脱离本公开的精神和范围的情况下在此可以做出其他等价和修改。

因此，参考图2描述根据本公开的一个实施方式的用于制造偏振板的系统和膜张力控制系统的全部结构。

图2为显示根据本公开的一个实施方式的膜张力控制系统以及包含该系统的用于制造偏振板的系统的方框图。

参考图2，实施根据本公开的一个实施方式的用于制造偏振板的系统以包括层压单元10、膜张力控制系统20、切割单元30和输送单元40，并且实施所述膜张力控制系统20以包括层分离单元21、检查单元22、张力指示单元23、再次层压单元24和张力调节单元25。

所述层压单元10将包括聚乙烯醇(pva)膜、三醋酸纤维素(tac)膜、保护膜和离型膜的膜层叠在彼此的上部，以制造完整偏振板，并且使用辊对辊技术提供并层压各膜以形成多层偏振板。

配置所述膜张力控制系统20以在通过经所述层压单元10层压多个膜形成的偏振板中将偏振板层分离成两个来检查杂质是否已引入到粘合剂层中，并且再次层压它们。

即，所述层分离单元21用来将由多个膜层组成的偏振板层分离成两个(偏振膜和离型膜)，并且在两个层分离的膜中，检查单元22用作检查杂质是否存在于带有粘合剂层的偏振膜中。

而且，所述张力指示单元23用来通过基于张力程度的移动指示施加到离型膜的张力程度，并且所述再次层压单元24用来再次层压层分离的偏振膜和离型膜，并且所述张力调节单元25用来基于通过所述张力指示单元23指示的离型膜的张力程度适当地调节偏振膜和离型膜的张力。

配置所述切割单元30将已经通过所述膜张力控制系统20确定杂质是否已引入的检查并再次层压的偏振板切割成待使用的应用装置的所需目的最佳尺寸，并配置所述输送单元40以输送切割的偏振板以将其运送到工艺线外部。

然后，将参考图3和4更详细地描述根据本公开的一个实施方式的膜张力控制系统的示例性实施例。

图3为显示应用于本公开的偏振板的示例性实施例的图，并且图4为显示根据本公开的一个实施方式的膜张力控制系统的示例性实施例的图。

首先参考图3，应用于本公开的偏振板(f)可以以如下结构实施，其中，tac膜层叠在pva膜的两个表面上，并且保护膜层叠于在一侧的tac膜上部，以及离型膜(f2)层叠于在其相反的另一侧上，并具有放置于内部的粘合剂层。

在本公开的描述中，将除所述离型膜(f2)部分之外偏振板(f)的剩余部分，即，具有在两个表面上的所述保护膜和所述粘合剂层的部分定义为偏振膜(f1)。

参考图4，将所述层分离单元21安装在偏振板(f)的转移路径上以从所述偏振膜(f1)层分离所述离型膜(f2)，并且可以实施所述层分离单元21以包括设置在偏振板(f)的相反两侧的一对辊。

在此情况下，在一对辊中，与所述离型膜(f2)接触的辊可具有吸附衬垫以吸附所述离型膜(f2)，或该吸附衬垫可以沿辊的外周表面设置，并且通过所述一对辊，可以将所述偏振板(f)层分离成两片。

在经过所述层分离单元21层分离的偏振膜(f1)和离型膜(f2)中，将检查单元22安装在偏振膜(f1)的转移路径上以检查杂质是否存在于在偏振膜(f1)的一个表面上形成的粘合剂层中(以检测在偏振膜的一个表面上涂敷粘合剂期间可能已引入而导致点缺陷的杂质)，并且可包括光源22a，交叉滤光片22b和视觉摄像机22c。

所述光源22a和所述视觉摄像机22c被设置在从所述离型膜(f2)层分离的偏振膜(f1)的移动路径上相反两侧，且所述光源22a和所述视觉摄像机22c之间夹着所述偏振膜(f1)，并且所述交叉滤光片22b设置在所述光源22a和所述视觉摄像机22c之间。

所述张力指示单元23被安装在与所述偏振膜(f1)的移动路径不同的从所述偏振膜(f1)层分离的离型膜的移动路径上，并且可以基于应用于所述离型膜(f2)的张力的大小，以上下移动的跳动辊的形式实施。

在此情况下，所述跳动辊被安装在引导离型膜(f2)的转移的一对导辊(r)之间，并且当施加到离型膜的张力增加时所述跳动辊上移且当所述张力下降时所述跳动辊下移。

在该例子中，配置所述导辊(r)以引导膜的转移，并且为了偏振板(f)、偏振膜(f1)和离型膜(f2)的稳定转移，可以在膜的转移路径和跳动辊的两侧上安装多个导辊。

配置所述再次层压单元24以在已通过所述检查单元22的偏振膜(f1)的粘合剂层上再次层压已通过所述张力指示单元的离型膜(f2)，并且所述再次层压单元24可以以一对辊的形式实施：所述一对辊被设置在关于夹在所述一对辊中间的所述偏振膜(f1)和离型膜(f2)的相反两侧。

即，通过所述层分离单元21层分离之后沿不同路径转移的偏振膜(f1)和离型膜(f2)通过所述一对辊再次放在一起。

接着，所述张力调节单元25被安装在通过所述再次层压单元24转移的偏振板(f)的转移路径上以调节光学膜(f1)和离型膜(f2)的张力，并且可以实施所述张力调节单元25以包括活动辊来在引导再次层压的偏振板(f)的移动的同时，通过上下移动调节光学膜(f1)和离型膜(f2)的张力。

即，所述张力调节单元25可以连接到用于上下移动的调节器，并且系统的用户可基于经所述张力指示单元23检测的各膜(f1、f2)的张力程度通过移动所述活动辊来调节各膜(f1、f2)的张力至最佳水平。

参考图5至9更详细地描述了各膜(f1、f2)对跳动辊和移动辊的移动的反应的张力改变方面。

图5为显示在两个层分离的膜之间的张力关系的图，以及图6至9为显示张力指示单元基于偏振膜的张力水平的移动和张力调节单元对此做出反应的移动的图。

首先，参考图5，在两个层分离的膜(f1、f2)中，当离型膜(f2)的张力增加时，所述偏振膜(f1)被沿膜(f1、f2、f)的移动方向的力拉伸(沿图5中的箭头的方向)，并且因此，施加到所述偏振膜(f1)的张力在一定程度减少。反过来，当离型膜(f2)的张力减少时，偏振膜(f1)的张力增加。

如上所述，施加到两个膜(f1、f2)的张力由于两个膜被层分离而显示出不同的改变方面，并且，如果不校正这样的张力失调，由再次层压两个膜(f1、f2)而获得的偏振板将无法避免质量劣化。

因此，基于通过应用于本公开的张力指示单元23检测的离型膜(f2)的张力水平，应使用所述张力调节单元25将两个膜(f1、f2)的张力保持在最佳水平上。

参考图6，可见所述跳动辊已比表示离型膜(f2)的最佳张力水平的参考位置向下移动得更远。这暗示离型膜(f2)的张力比最佳水平低，换句话说，偏振膜(f1)的张力比最佳水平高。

因此，在此情况下，如图7所示，进行上移所述活动辊的操作以减小偏振膜(f1)的张力，由此增加离型膜(f2)的张力，从而使得两个膜(f1，f2)之间的张力平衡。

参考图8，可见所述跳动辊已比表示离型膜(f2)的最佳张力水平的参考位置移动得更向上。这暗示离型膜(f2)的张力高于所述最佳水平，换句话说，偏振膜(f1)的张力低于所述最佳水平。

因此，在此情况下，如图9所示，进行下移所述活动辊的操作以增加偏振膜(f2)的张力，由此增加离型膜(f2)的张力，从而使得两个膜(f1，f2)之间的张力平衡。

如上所述，根据本公开的一个实施方式的膜张力控制系统和包含该系统的用于制造偏振板的系统通过如下方式可以改善整个偏振板的质量：当基于精确检查可能已经引入到所述偏振膜的杂质的目的将偏振板层分离为两部分时，实现两个层分离的膜之间的平衡的张力。

接着，参考图10描述根据本公开的另一个实施方式所述的膜张力控制系统。

图10为显示根据本公开的另一个实施方式的所述膜的张力控制系统的一部分的方框图。

除了设置用于所述张力指示单元23和所述张力调节单元25之间的配合动作的额外部件以外，根据本公开的另一个实施方式所述的膜张力控制系统具有与先前的实施方式基本上相同的部件。因此，在根据本公开的另一个实施方式所述的膜张力控制系统的描述中，省略与所述先前实施方式重叠的描述并且以下仅描述差异。

参考图10，根据本公开的另一个实施方式所述的膜张力控制系统可进一步包括用于所述张力指示单元23和所述张力调节单元25之间的配合动作的张力测量单元26和控制单元27，即，基于由所述张力指示单元23指示的离型膜(f2)的张力水平能够自动操作所述张力调节单元25。

所述张力测量单元26基于张力指示单元23的上下移动检测位置，产生对此相应的信息，并且传送至所述控制单元27。所述张力测量单元26可以是机械地连接到所述张力指示单元23的传感器，但是也可以在无机械连接的情况下使用光学传感来测量所述张力。

所述控制单元27比较从所述张力测量单元26获得的与张力测量单元26的位置有关的信息与预存参考值，并且基于比较的结果输出用于控制张力调节单元25的移动的控制信号，并且接收了输出的控制信号的张力调节单元25响应该控制信号运转以调节各膜(f1、f2)的张力。

如上所述，配置根据本公开的另一个实施方式所述的膜张力控制系统以在膜(f1、f2)的层分离之后的再次层压过程中使所述张力指示单元23和所述张力调节单元25之间能够配合动作来自动调节膜(f1、f2)的张力，从而确保整个偏振膜(f)的高质量并改善制造过程的效率。

虽然在上文中已结合仅有限数量的实施方式和附图描述本公开，本公开不局限于此并且应当理解的是可以由本领域的普通技术人员在本公开和所附权利要求及其等同替代的实质和范围内做出各种改变和修改。