技术总结
来自图案形成装置(M)的图案通过光刻设备(LA)被施加至衬底(W)。所施加的图案包括产品特征和量测目标(600，604)。量测目标包括用于使用X射线散射(量测设备104)测量重叠的大目标(600a)和用于通过可见辐射的衍射(量测设备102)测量重叠的小目标(600b，604)。小目标(604)中的一些分布在大目标之间的位置处，而其他小目标(600b)被放置在与大目标相同的位置处。通过将使用相同位置处的小目标(600b)和大目标(600a)测得的值进行比较，使用所有小目标测得的参数值(704)可以被校正用于更好的准确度。大目标可以主要位于划道(SL)内而小目标分布在产品区域(602，D)内。
技术研发人员：R·奎因塔尼拉;W·M·J·M·科内
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
文档号码：201580024794
技术研发日：2015.04.16
技术公布日：2017.02.22