本发明涉及一种用于液晶显示装置等的光学元件的制造方法，具体为包含形成于基板上的具有各向异性的光学膜及其保护层的光学元件的制造方法。进一步地为具备使用上述制造方法获得光学元件和上述光学元件的图像显示装置。
背景技术：
：LCD(液晶显示器)中为了控制显示中的旋光性和双折射性，使用直线偏振光片和圆偏振光片。OLED(有机EL元件)中为了防止外部光线的反射，也在使用圆偏振光片。迄今为止，这些偏振光片(光学元件)中，一直广泛使用着使碘或具有二向色性的有机色素溶解或吸附于通过在聚乙烯醇等高分子材料，并将该膜在一个方向上拉伸为薄膜状，使碘或具有二向色性的有机色素发生取向而获得的偏振光片。然而，这样制造的现有的具有各向异性的光学膜，依据使用的色素和高分子材料不同，而具有耐热性或耐光性不充分、制造液晶装置时的偏振光片贴合的成品率差等问题。为解决这些问题，人们研究了通过在玻璃或透明薄膜等基材上，在施加剪切力的同时涂布含有二向色性色素的溶液，使二向色性色素进行取向，制造具有各向异性的光学膜的方法(专利文献1～8)。另一方面，人们进行着从1片基板母材上切出多个用于液晶单元的基板的操作。这种情况下，在基板上形成多个形状化(图案化)为规定的图案后的具有各向异性的光学膜，将其分别分割作为基板使用。专利文献3中公开了如下的方法：通过在基板上涂布设置的含有二向色性色素的膜上，采用喷墨法等部分赋予不溶化液体并进行清洗，从而在基板上形成多个形状化为规定的图案后的含有二向色性色素的膜。专利文献9中公开了使用二向色性色素的水溶液作为墨水，对所得的膜直接或间接地在单元内侧进行印刷，形成具有各向异性的光学膜的方法。公开了在不溶化后的具有各向异性的光学膜上，对聚酰亚胺的液晶用取向膜通过柔性印刷进行图案形成·烧成，之后通过蚀刻·清洗将具有各向异性的光学膜溶解并除去。公开了由于具有各向异性的光学膜位于玻璃基板的内侧而被玻璃基板保护，因此无需进行为了不易对具有各向异性的光学膜造成损伤的硬涂层处理和静电的防静电处理等。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利特表平8-511109号公报专利文献2:日本专利特开2008-69300号公报专利文献3:日本专利特开2004-348043号公报专利文献4:日本专利特开2002-277636号公报专利文献5:日本专利特开2007-272211号公报专利文献6:日本专利特开2007-186428号公报专利文献7:日本专利特表2001-504238号公报专利文献8:日本专利特开2006-48078号公报专利文献9:日本专利特表2004-534283号公报专利文献10:日本专利特开2008-233819号公报技术实现要素：发明所解决的课题在制造包含具有各向异性的光学膜的光学元件时，使用从1片基板母材切出多个用于液晶单元的基板的方法。这种情况下，较多的情况是：在基板上形成多个形成规定的图案的形状后的具有各向异性的光学膜，将其分别分割，作为基板进行使用。此外，作为在基板的内表面侧上具备具有各向异性的光学膜的In-Cell型液晶显示装置而使用时，具有各向异性的光学膜是在预先将电极和滤色器等设置于液晶单元内的各个层在基板上层叠后，形成为向基板呈凸状的部分(阶梯结构部分)。然而，使用专利文献1～8等所记载的方法在整个基板母材上涂布含有二向色性色素的溶液时，由于将该溶液涂布至上述的阶梯结构之外的部分、即不需要涂布的部分为止，因此，涂布后必须进行除去不需要的部分的作业。作为从1片基板母材上切出多个用于液晶单元的基板的方法，例如可考虑使用间歇涂布方法仅选择规定的图案，涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物。然而，如果为了高效率地从1片基板母材切出液晶单元用基板而将间歇涂布的间隔缩短，则存在以下问题：难以控制用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的排出，产生涂布缺陷，不能获得光学上均匀的具有各向异性的光学膜，继而不能获得光学性均匀的光学元件。当使用专利文献1和2等所记载的方法在整个基板母材涂布含有二向色性色素的溶液时，会涂布至规定的图案形状之外的部分、即不需要涂布的部分为止。因此，有必要在涂布后进行削除不需要的部分的作业，但对于该削除作业，尚未从图案形状的精度和生产率的角度充分地进行研究。虽然公开有如专利文献3所述地通过用喷墨法等部分赋予不溶化液体并进行清洗，从而在基板上形成多个形状化为规定图案的方法，但处理速度缓慢，不适于使用大型基板形成多个图案。此外，因为不溶性处理速度缓慢，所以在赋予不溶化液体之后清洗具有各向异性的光学膜为止需要时间，趋于容易发生由具有各向异性的光学膜上的不溶化液干燥引起的具有各向异性的光学膜的裂纹和破裂等。此外，在赋予不溶化液后对具有各向异性的光学膜设置保护层等时，需要进行设置保护层的工序和对保护层进行图案形成的工序等，存在制造工序变复杂的问题。专利文献9中，在不溶化后的具有各向异性的光学膜上，将聚酰亚胺的液晶用取向膜进行柔性印刷，由此进行图案形成·烧成。本发明人发现：具有各向异性的光学膜即使在不溶化后，也容易溶解于聚酰亚胺溶液(N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)等)中，产生具有各向异性的光学膜的溶解、剥离等和偏振光功能的降低。此外，本发明人发现：在使用专利文献9所记载的方法时，在形成图案后，为了将聚酰亚胺进行亚酰胺化，需要在高温下进行烧成，对具有各向异性的光学膜、基板等带来影响。对于这一点，即使在作为聚酰亚胺树脂使用紫外线固化型聚酰亚胺时，也需要300℃左右的亚酰胺化工序(专利文献10)，因此存在同样的问题。本发明为解决如上所述的技术问题而完成，其目的在于提供一种在基板上包含具有各向异性的光学膜和保护层的光学元件的制造方法，该制造方法使上述光学膜的图案化变得容易，此外，使上述光学膜和保护膜为尺寸精度优异、无涂布缺陷的均匀的膜，进而不受在制造工序中使用的水或溶剂的影响。此外，本发明的目的在于提供一种对具有各向异性的光学膜进行图案化的简易方法，提供一种上述方法中所得的具有各向异性的光学膜和保护层成为尺寸精度优异、无涂布缺陷的均匀的膜的方法，进一步地，也提供一种不受在具有各向异性的光学膜形成后的制造工序中使用的水或溶剂的影响的光学元件的制造方法。用于解决课题的方法本发明人为达成上述目的而反复进行深入研究的结果，发现在光学元件的制造方法中，通过用特定的方法将不溶化后的具有各向异性的光学膜和保护层进行图案化，可以解决上述课题，从而完成了本发明。即，本发明的主旨如下所述。[1]一种光学元件的制造方法，其特征在于，所述光学元件包含：基板、具有各向异性的光学膜和保护层，所述光学元件的制造方法具有下述(I)工序～(III)工序，(I)在基板上连续涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物，形成具有各向异性的光学膜，然后通过盐交换对所述具有各向异性的光学膜进行不溶性处理的工序；(II)在所述不溶性处理后的具有各向异性的光学膜上涂布感光性树脂组合物，形成保护层的工序；(III)通过在形成的所述保护层上设置掩模并进行曝光，采用碱性溶液进行显影，对所述保护层和所述不溶性处理后的具有各向异性的光学膜进行图案化的工序。[2]根据上述[1]所述的光学元件的制造方法，其特征在于，所述(III)工序中使用的碱性溶液含有氢氧化钾和四甲基氢氧化铵中的至少任意一种。[3]根据上述[1]或[2]所述的光学元件的制造方法，其特征在于，在所述(III)工序之后，具有下述(IV)工序，(IV)通过加热，使图案化后的所述保护层熔体流动的工序。[4]一种光学元件，其特征在于，是使用上述[1]～[3]中任意一项所述的制造方法进行制造的。[5]一种图像显示装置，其特征在于，具有上述[4]所述的光学元件。发明效果依据本发明的光学元件的制造方法，可以简易地在基板上进行多个具有各向异性的光学膜的图案化。进一步地，上述方法中获得的具有各向异性的光学膜成为尺寸精度优异、无涂布缺陷的均匀的膜，因此可获得偏振光性能等优异的光学元件。因此，在切出从1片基板母材划分出多个光学元件并且进行分割而成的基板之时尤其有用，其中光学元件具备在具有各向异性的光学膜形成后使用取向膜形成用的溶剂(NMP等)或作为清洗溶剂的水的工序。附图说明[图1]图1为实施例1中所得的光学元件1的照片。[图2]图2为实施例1中所得的光学元件1的端部的显微镜照片。[图3]图3为在具有各向异性的光学膜的图案中，表示具有各向异性的光学膜被浸蚀的状态的概略图。[图4]图4为表示使保护层为熔体流动的状态的概略图。[图5]图5为表示(VIII)工序的保护层被显影除去而露出的具有各向异性的光学膜的部分的概略图。[图6]图6(a)和图6(b)为表示(III)工序或(VIII)工序中使具有各向异性的光学膜被浸蚀的状态的概略图，图6(a)表示具有各向异性的光学膜与保护层的轮廓部在同位置的情况，图6(b)表示具有各向异性的光学膜在保护层的轮廓部的内侧的情况。[图7]图7为表示(V)工序～(IX)工序的概略图。[图8]图8(a)～图8(c)为表示参考例5中获得的光学元件的偏振光性能的照片，图8(a)为将2片光学元件并列放置的照片，图8(b)为平行重叠的照片，图8(c)垂直交叉地重叠的照片。符号说明a保护层被显影除去而露出的具有各向异性的光学膜部分1基板2具有各向异性的光学膜3保护层4光学元件具体实施方式以下对用于实施本发明的代表性的方式进行具体说明，但本发明只要不超出其主旨，就不受以下方式的限定。本发明中，“(甲基)丙烯酸”是指包含丙烯酸和甲基丙烯酸的两者，“(甲基)丙烯酸酯”、“(甲基)丙烯酰”等也表示同样的含义。此外，在单体名之前附加“(聚)”的物质意味着该单体及该聚合物。本说明书中“重量％”与“质量％”、“重量份”与“质量份”分别为相同含义。本发明为包含基板、具有各向异性的光学膜和保护层的光学元件的制造方法。本发明所述的制造方法的第一方式至少具有以下的(I)～(III)的工序(下文中，(I)的工序有时表示为“(I)工序”。此外，与(I)工序同样地，(II)的工序、(III)的工序等有时分别表示为“(II)工序”、“(III)工序”等。)。(I)在基板上连续涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物，形成具有各向异性的光学膜，然后通过盐交换对所述具有各向异性的光学膜进行不溶性处理的工序；(II)在所述不溶性处理后的具有各向异性的光学膜上涂布感光性树脂组合物，形成保护层的工序；(III)通过在形成的所述保护层上设置掩模并进行曝光，采用碱性溶液进行显影，对所述保护层和所述不溶性处理后的具有各向异性的光学膜进行图案化的工序。本发明的制造方法若具有(I)工序～(III)工序，按照(I)工序→(II)工序→(III)工序的顺序进行，则没有特别限定，在各个工序之间，也可具有其他的工序。例如，在(I)工序和(II)工序之间也可具有其他工序。本发明所述的光学元件的制造方法的第二方式，至少具有以下的(V)工序～(VIII)工序。(V)在基板上连续涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物，形成具有各向异性的光学膜，然后通过盐交换对所述具有各向异性的光学膜进行不溶性处理的工序。(VI)在所述不溶性处理后的具有各向异性的光学膜上涂布感光性树脂组合物，形成保护层的工序。(VII)经曝光和通过显影液进行的显影，将上述保护层进行图案化的工序。(VIII)将保护层被显影除去而露出的部分的具有各向异性的光学膜，与酸性水溶液或碱性水溶液接触后，进行水洗的工序。本发明的制造方法若具有(V)工序～(VIII)工序，按照(V)工序→(VI)工序→(VII)工序→(VIII)工序的顺序进行实施，则没有特别限定，在各个工序之间，也可具有其他的工序。例如，在(V)工序和(VI)工序之间也可具有其他工序。(光学元件)本发明的光学元件包含通过在基板表面上连续涂布而获得的具有各向异性的光学膜和设置在具有各向异性的光学膜上的保护层。此外，光学元件并不仅限于具有各向异性的光学膜和保护层，还可以出于提高偏振光性能、提高机械性强度等目的而具有其他层。此外，本发明中的图案(pattern)表示在基板上被排版(面付け)的具有各向异性的光学膜的形状图案，图案化(patterning)表示形成图案。此外，轮廓部是指具有各向异性的光学膜的图案的外周部。另外，本发明中的图案化意指从1片基板母材上切出多个用于液晶单元的基板时的、具有各向异性的光学膜的划分，但并非受限于此。(基板)作为本发明的基板，没有特别限定，但优选为具有良好的表面性状、接触角特性和吸水特性的基板。作为形成像这样的基板的基材，例如可举出玻璃等无机材料和高分子材料。作为高分子材料，可举出三乙酸酯系树脂、丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂、三乙酰纤维素系树脂、降冰片烯系树脂、环状聚烯烃系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚氨酯系树脂等。这些材料可单独使用1种，也可并用2种以上。特别地，优选包括含有高分子材料的基材。基板的吸水率，通常为5％以下，优选为3％以下，更优选为1％以下。由于通过使吸水率不过大，抑制了用湿式成膜法形成各向异性材料的膜时的基板的吸湿，因而趋于难以发生基板的翘曲所引起的涂布缺陷。此外，由于也可抑制用涂布法形成具有各向异性的光学膜后的基板膨润，因而趋于难以发生光学缺陷。另外，本实施方式中的“吸水率”是指采用ASTMD570的试验方法测定在23℃水中浸渍4小时之时的重量变化率的值。从使具有各向异性的光学膜中所含的色素等各向异性材料更加良好地沿一定方向取向的观点出发，可以在基板的形成有具有各向异性的光学膜的面上，预先设置取向膜等。关于取向膜的形成方法，可依照“液晶便览”(丸善株式会社，2000年10月30日发行)226页～239页等所记载的公知的方法。此外，基板的形状可为固定尺寸的薄膜状(片状)，也可为连续薄膜状(带状)。此外，基板的膜厚通常为0.01mm～3mm，优选为0.02mm～2mm。基板的总透光率通常为80％以上，优选为85％以上，更优选为90％以上。另外，本说明书中的“总透光率”是指使用积分球颜色测定装置测定的值，是扩散透射光与平行光线透射光的合计值。[具有(I)工序、(II)工序和(III)工序的、包含基板、具有各向异性的光学膜和保护层的光学元件的制造方法]＜关于(I)工序＞本发明的制造方法作为(I)工序具有在基板上连续涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物，形成具有各向异性的光学膜，然后通过盐交换对所述具有各向异性的光学膜进行不溶性处理的工序。(具有各向异性的光学膜)具有各向异性的光学膜是指在从膜的厚度方向和面内任意垂直交叉的两个方向的立体坐标系的共计三个方向中所选择的任意两个方向中的电磁学性质上，具有各向异性的光学膜。作为电磁学性质，可举出吸收、折射等光学性的性质，电阻、电容等电学性质。作为具有吸收、折射等光学各向异性的膜，例如可举出直线偏振光层、圆偏振光层、相位差膜、导电各向异性膜等。本发明中的具有各向异性的光学膜也可适宜作为偏振光层、相位差膜、导电各向异性膜使用，尤其作为偏振光层有用。具有各向异性的光学膜的膜厚没有特别限定，但干燥膜厚优选为10nm以上，更优选为50nm以上。另一方面，优选为3μm以下，更优选为1μm以下。通过使具有各向异性的光学膜的膜厚在上述范围，在将后述的(III)工序、(VIII)工序的具有各向异性的光学膜进行图案化时，可确保具有各向异性的光学膜溶解的范围，趋于易于控制溶解。进一步地，趋于获得膜内色素的均匀取向和均匀的膜厚。(各向异性材料和用于形成具有各向异性的光学膜的组合物)用于本发明的具有各向异性的光学膜的各向异性材料，若是可呈现上述的各向异性的材料，则没有特别限定。此外，由于在基板上采用湿式涂布制作具有各向异性的光学膜，因此优选为含有各向异性材料和溶剂的组合物(下文中有时称为“用于形成具有各向异性的光学膜的组合物”。)。作为用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的样态，可为溶液状，也可为凝胶状，也可为将各向异性材料分散于溶剂中的状态。此外，这些成分之外，还可以根据需要含有粘合剂树脂、单体、固化剂、添加剂等。本文中，从以高取向度形成溶剂蒸发后形成的具有各向异性的光学膜的观点出发，优选用于形成具有各向异性的光学膜的组合物是液晶相的状态的组合物。另外，本说明书中，是液晶相的状态是指《液晶的基础与应用》(松本正一·角田市良著，1991)的1页～16页中所记载的状态。尤其优选3页所记载的向列相。本文中，各向异性材料只要是可形成具有各向异性的光学膜的材料即可，可举出色素等。作为使用色素作为各向异性材料的具有各向异性的光学膜，可举出各向异性色素膜。通过使用色素，趋于获得电磁学性质优异的具有各向异性的光学膜，尤其可作为偏振光层使用。(色素)作为本发明的色素，使用二向色性色素。此外，为控制取向，色素优选为具有液晶相的色素。本文中，具有液晶相的色素意指在溶剂中表现出溶致液晶性的色素。为通过涂布形成具有各向异性的光学膜，本发明中使用的表现出溶致液晶性的色素优选可溶于水或有机溶剂中，特别优选为水溶性。进一步优选的是《有机概念图-基础与应用》(甲田善生著，三共出版，1984年)中定义的无机性值小于有机性值的化合物。另外，水溶性是指室温下色素在水中通常溶解0.1重量％以上，优选溶解1重量％以上。本发明的色素在不为盐形态的游离状态下，其分子量优选为200以上，特别优选为300以上。此外，优选为1500以下，特别优选为1200以下。此外，本发明的表现出溶致液晶性的色素可单独仅使用1种，也可将2种以上组合使用。作为色素，具体地可举出偶氮系色素、芪系色素、花青系色素、酞菁系色素、稠合多环系色素(苝系、恶嗪系)等。这些色素之中，优选在具有各向异性的光学膜中可取得高度地分子排列的偶氮系色素。偶氮系色素是指至少具有1个以上的偶氮基的色素。从色调以及制造方面的观点出发，其一分子中的偶氮基的数量优选为2以上，优选为6以下，更优选为4以下。本发明中使用的色素没有特别限定，可使用公知的色素。作为色素，例如可举出日本专利特开2006-079030号公报、日本专利特开2010-168570号公报、日本专利特开2007-302807号公报、日本专利特开2008-081700号公报、日本专利特开平09-230142号公报、日本专利特开2007-272211号公报、日本专利特开2007-186428号公报、日本专利特开2008-69300号公报、日本专利特开2009-169341号公报、日本专利特开2009-161722号公报、日本专利特开2009-173849号公报、日本专利特开2010-039154号公报、日本专利特开2010-180314号公报、日本专利特开2010-266769号公报、日本专利特开2010-031268号公报、日本专利特开2011-012152号公报、日本专利特开2011-016922号公报、日本专利特开2010-100059号公报、日本专利特开2011-141331号公报、日本专利特开2011-190313号公报、日本专利特表平08-511109号公报、日本专利特表2001-504238号公报、日本专利特开2006-48078号公报、日本专利特开2006-98927号公报、日本专利特开2006-193722号公报、日本专利特开2006-206878号公报、日本专利特开2005-255846号公报、日本专利特开2007-145995号公报、日本专利特开2007-126628号公报、日本专利特开2008-102417号公报、日本专利特开2012-194357号公报、日本专利特开2012-194297号公报、日本专利特开2011-034061号公报、日本专利特开2009-110902号公报、日本专利特开2011-100059号公报、日本专利特开2012-194365号公报、日本专利特开2011-016920号公报等所记载的色素。本发明中使用的色素可以直接以游离酸的形态使用，可以是酸基的一部分为盐的形态的色素。此外，也可同时存在盐形态的色素和游离酸形态的色素。制造时以盐形态获得色素的情况下，可以直接进行使用，也可以变换成所期望的盐形态(盐交换)。盐交换的方法可以任意使用公知的方法，例如可举出以下的方法。1)在以盐形态获得的色素的水溶液中添加盐酸等强酸，使色素以游离酸的形态进行酸析后，用具有所期望的平衡离子的碱性溶液(例如氢氧化锂水溶液)中和色素酸性基团，进行盐交换的方法。2)在以盐形态获得的色素的水溶液中，添加大量过剩的具有所期望的平衡离子的中性盐(例如氯化锂)，以盐析饼的形态进行盐交换的方法。3)对于以盐形态获得的色素的水溶液，采用强酸性阳离子交换树脂进行处理，使色素以游离酸的形态进行酸析后，用具有所期望的平衡离子的碱性溶液(例如氢氧化锂水溶液)中和色素酸性基团，进行盐交换的方法。4)使以盐形态获得的色素的水溶液作用于预先用具有所期望的平衡离子的碱性溶液(例如氢氧化锂水溶液)进行处理的强酸性阳离子交换树脂，进行盐交换的方法。此外，本发明中使用的色素所具有的酸性基团是成为游离酸形态还是成为盐形态，取决于色素的pKa和色素水溶液的pH。作为上述的盐形态的例子，可举出Na、Li、K等碱金属的盐、可被烷基或羟烷基取代的铵盐、有机胺的盐等。作为有机胺的例子，可举出碳原子数1～6的低级烷基胺、被羟基取代的碳原子数1～6的低级烷基胺、被羧基取代的碳原子数1～6的低级烷基胺等。在这些盐形态的情况下，其种类并不限于1种，而是可同时存在多种。此外，本发明中，色素可单独进行使用，也可以将并用两种以上的这些化合物，此外，也可以不使取向降低的程度混合上述例示的色素以外的色素进行使用。由此可以制作具有各种色相的具有各向异性的光学膜。作为混合其他的色素时的用于混合的色素的例子，可举出C.I.直接黄12、C.I.直接黄34、C.I.直接黄86、C.I.直接黄142、C.I.直接黄132、C.I.酸性黄25、C.I.直接橙39、C.I.直接橙72、C.I.直接橙79、C.I.酸性橙28、C.I.直接红39、C.I.直接红79、C.I.直接红81、C.I.直接红83、C.I.直接红89、C.I.酸性红37、C.I.直接紫9、C.I.直接紫35、C.I.直接紫48、C.I.直接紫57、C.I.直接蓝1、C.I.直接蓝67、C.I.直接蓝83、C.I.直接蓝90、C.I.直接绿42、C.I.直接绿51、C.I.直接绿59等。(用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的溶剂)作为溶剂适宜的有水、具有水混溶性的有机溶剂或者它们的混合物。作为有机溶剂的具体例，可举出甲醇、乙醇、异丙醇、醇、甘油等醇类，乙二醇、二乙二醇等二元醇类，甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等溶纤剂类等。这些可单独使用，也可以混合2种以上进行使用。(用于形成具有各向异性的光学膜的组合物中的各向异性材料的浓度)用于形成具有各向异性的光学膜的组合物中的各向异性材料的浓度根据具有各向异性的光学膜的成膜条件而不同，但优选为0.01重量％以上，更优选为0.1重量％以上，优选为50重量％以下，更优选为30重量％以下。通过使各向异性材料浓度在上述范围，获得能够进行均匀的薄膜涂布的用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的粘度，并且各向异性材料趋于不会析出。此外，趋于在具有各向异性的光学膜中获得充分的二向色比等各向异性。(用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的添加剂)在用于形成具有各向异性的光学膜的组合物中，可进一步根据需要混合表面活性剂、流平剂、偶联剂、pH调节剂等添加剂。有通过添加剂而提高润湿性、涂布性等的情况。作为表面活性剂，可以使用阴离子性、阳离子性和非离子性中的任意种。其添加浓度没有特别限定，但在用于形成具有各向异性的光学膜的组合物中的浓度通常为0.05重量％以上，优选为0.5重量％以下。通过使其在该范围，可获得表面活性剂的添加效果，并且趋于不阻碍色素分子的取向。出于抑制用于形成具有各向异性的光学膜的组合物中的各向异性材料的成盐或凝集等不稳定性等目的，也可以在混合用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的构成成分之前、之后或混合中的任一情况下，添加公知的酸/碱等pH调节剂。另外，在上述之外，作为添加剂可使用“涂布用添加剂(AdditiveforCoating)”，J.Bieleman编，Willey-VCH(2000)所记载的公知的添加剂。(具有各向异性的光学膜的涂布方法)本发明的具有各向异性的光学膜的涂布方法若是连续涂布，则没有特别限定。本发明中所谓连续涂布不是指各个图案的间歇涂布，而是指连续地对应构成多个图案(划分)的区域进行涂布。即使在基板上设置多个图案的情况下，也可一次地进行连续涂布，没有必要按多个图案各个分开进行涂布。作为将用于形成具有各向异性的光学膜的组合物进行连续涂布而形成具有各向异性的光学膜的方法，没有特别限定，例如可举出用原崎勇次著《涂布工学(コーティング工学)》(株式会社朝仓书店，1971年3月20日发行)253页～277页所记载的方法、市村国宏主编的《分子协调材料的创制和应用(分子協調材料の創製と応用)》(株式会社CMC出版，1998年3月3日发行)118页～149页所记载的方法、以狭缝模具涂布法、旋涂法、喷涂法、棒涂法、辊涂法、刮刀涂布法、帘式涂布法、喷注(fountain)法、浸渍法等进行涂布的方法。其中，狭缝模具涂布法由于趋于获得高均匀性的具有各向异性的光学膜，因而优选。涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物时的、用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的供给方法、供给间隔没有特别限定。由于存在涂布液的供给操作变繁杂、或涂布液的开始时和结束时涂布膜厚产生变动等情况，因此在具有各向异性的光学膜的膜厚较薄时，特别优选一边连续地供给用于形成具有各向异性的光学膜的组合物，一边进行涂布。涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的速度通常为1mm/秒以上，优选为5mm/秒以上。此外，通常为1000mm/秒以下，优选为800mm/秒以下。通过使涂布速度为上述范围，趋于在获得具有各向异性的光学膜的各向异性的同时，可进行均匀的涂布。另外，用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的涂布温度通常为0℃以上、80℃以下，优选为40℃以下。此外，用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的涂布时的湿度，优选为10％RH以上，更优选为30％RH以上，另一方面，优选为80RH％以下。(不溶性处理)本发明中，将在基板上形成具有各向异性的光学膜之后，将通过盐交换使具有各向异性的光学膜不会溶解于水中的处理作为不溶性处理。通过本发明的不溶性处理，降低了具有各向异性的光学膜中的色素的溶解性，抑制色素从该具有各向异性的光学膜中的溶出，可提高具有各向异性的光学膜的稳定性。具体地，例如可举出将价数少的离子置换为价数比其更大的离子(例如，将1价的离子置换为多价的离子)的处理。优选在不溶性处理后，具有各向异性的光学膜的色素在水中的溶解度为1质量％以下，从具有各向异性的光学膜的稳定性的角度出发，更优选为0.8质量％以下。(不溶化液)本发明的不溶化中使用的不溶化液没有特别限制。例如可使用日本专利特开2007-241267号公报、日本专利特开2009-199075号公报、日本专利特开2010-44130号公报、日本专利特开2010-197760号公报、日本专利特开2011-257489号公报、日本专利特开2012-058427号公报等所记载的不溶化液等。本发明中使用的不溶化液的pH没有特别限定，但基于阳离子交换的原理，有助于离子交换的阳离子浓度必须为某一固定浓度以上。因此，有时必须比有赖于材料的某种特定pH更靠酸性侧。此外，不溶化液的色调也没有特别限定，但优选为基本不会影响偏振光性能的无色、淡色。本发明中使用的不溶化液没有特别限定，优选含有不溶化化合物和溶剂。不溶化化合物和溶剂可以是1种，也可以使用多种。作为不溶化化合物，优选具有与磺基、羧基、二氧磷基以及次磷酸基形成盐的多价离子的化合物。具体地可举出Mg、Ca等的无机盐、聚胺系化合物、具有阳离子性基团的聚合物和在不溶化液中作为金属离子的化合物的混合物等。这些化合物之中，聚胺系化合物由于减少不溶化后的具有各向异性的光学膜的裂纹而优选。聚胺系化合物是指在其分子内具有2个以上的氨基的化合物。此外，聚胺系化合物的一分子所具有的氨基的数量通常为2以上，此外，其上限通常为20以下，优选为10以下。通过使氨基的数量在适当的范围内，聚胺系化合物可以在具有各向异性的光学膜内扩散，趋于可以使具有各向异性的光学膜不溶化。作为聚胺系化合物，可举出脂肪族聚胺系化合物和芳香族聚胺系化合物。其中，优选脂肪族聚胺系化合物。作为脂肪族聚胺系化合物的具体例子，可举出二氨基己烷、二氨基癸烷等二氨基烷烃化合物；1,4-环己二胺等二氨基环己烷；4,4'-亚甲基双环己基胺等二氨基环烷烃化合物；二亚乙基三胺、五亚乙基六胺、双(六亚甲基)三胺等多亚乙基多胺化合物等。其中，优选多亚乙基多胺化合物，特别优选双(六亚甲基)三胺。作为芳香族聚胺系化合物的具体例子，可举出苯二胺、苯二甲基二胺等。其中，优选苯二胺。具有阳离子性基团的聚合物为在主链或支链上具有阳离子性基团的聚合物。作为阳离子性基团，例如可举出氨基；甲氨基、乙氨基等单烷基氨基；二甲氨基、二乙氨基等二烷基氨基；胍基；亚氨基；铵盐基；在环的一部分具有氮原子的基团等。此外，阳离子性聚合物可以单独使用1种，也可以并用2种以上。不溶化液中所含有的金属离子可为1价金属离子，但优选为多价金属离子。多价金属离子可举出碱土金属离子或过渡金属离子。这些金属离子可以通过使具有该金属离子的化合物在适当的溶剂中溶解而在溶液中产生。作为具有上述金属离子的化合物，可举出氯化钡、氯化铅、氯化铁、氯化镁、碳酸钙、磷酸钙等多价金属盐等。作为上述的具有阳离子性基团的聚合物和金属离子，具体可使用日本专利特开2010-44130号公报等所列举的物质。不溶化液的溶剂优选为可溶解离子的极性溶剂。具体可举出水、离子液体等。在这之中，从经济性和安全性的观点出发，优选水。不溶化液中的不溶化化合物的量，只要具有离子交换能力，就没有特别限制，可以根据不溶化化合物和溶剂的种类、25℃中的不溶化液的粘度等而适当地调整。优选为饱和浓度的10％以上，更优选为饱和浓度的20％以上。此外，优选为饱和浓度(100％)以下，更优选为饱和浓度的90％以下。通过使其在此范围内，可趋于抑制不必要的不溶化化合物的析出，并且可迅速进行不溶化反应。(不溶化液的添加剂)本发明的不溶化液可含有增稠剂、保湿剂、表面活性剂等添加剂。此外，不溶化液中的添加剂的量，可根据添加剂、不溶化化合物、溶剂的种类等适当地调整。本发明的不溶化液的制备方法没有特别限定。例如可以将上述不溶化化合物与溶解混合至成为上述浓度范围，根据需要进行搅拌等，使其在溶剂中溶解即可。此外，可根据需要在溶剂中混合所使用的添加剂，使其分别成为上述浓度范围。另外，混合的时间、顺序等也是任意的。(不溶化方法)将具有各向异性的光学膜进行不溶化的方法没有特别限定，可以举出浸渍法；从具有各向异性的光学膜的上方供给不溶化液的方法；通过喷雾、帘式涂布、辊涂、浸涂、浮动涂布、吹涂(吹き出しコート)等涂布不溶化液的方法；等。本发明的具有各向异性的光学膜非常薄，具有由于与物体的接触而容易发生剥落的倾向。因此，优选采用可以抑制具有各向异性的光学膜的偏振光性能的下降、抑制膜的剥离等缺损的方法。(不溶化后的清洗)优选对不溶化后的具有各向异性的光学膜进行清洗。清洗的方法没有特别限定，可使用浸渍、从具有各向异性的光学膜的上方供给清洗液的流水清洗、超声波清洗等。此外，在清洗中可附加采用特定频率进行摇动等促进清洗的效果。或者，也可以将多个这些方法组合进行清洗。上述方法中，在可以不施加成为具有各向异性的光学膜的剥离和缺陷的原因的不需要的力这一点，优选浸渍。清洗液没有特别限定，具体可使用纯水，也可使用在纯水中添加了甲醇、乙醇、异丙醇等醇的液体等。为提高清洗性，这些物质可以含有清洗助剂和表面活性剂等控制清洗性的添加物。清洗后的具有各向异性的光学膜的干燥方法没有特别限定，可举出风干、鼓风干燥、真空干燥、加热干燥等。这些之中，从抑制具有各向异性的光学膜的裂纹的观点出发，优选使用风干或鼓风干燥。此外，也可将这些干燥进行组合。＜(II)工序)＞本发明中作为(II)工序，具有在(I)工序在不溶性处理后的具有各向异性的光学膜上涂布感光性树脂组合物而形成保护层的工序。(保护层)本发明的保护层是出于保护具有各向异性的光学膜免受之后的工序和元件制作后的刺激和冲击等的目的而形成的层，同时也起到作为用于除去具有各向异性的光学膜的不需要的部分并进行图案化的抗蚀剂的作用。本发明的保护层若是通过在具有各向异性的光学膜上涂布感光性树脂组合物而形成的层，则没有特别限定，但不具有光学各向异性的物质由于不会阻碍具有各向异性的光学膜的性能，因而优选。本发明中的光学各向异性是指，从保护层的厚度方向和任意垂直交叉的面内2个方向的立体坐标系的共计3个方向中所选择的任意2个方向的电磁学性质上具有各向异性。基于不损害具有各向异性的光学膜的光学特性，本发明的保护层优选保护层厚度为500nm时的550nm的透光率为80％以上，更优选为85％以上，特别优选为90％以上。上限没有特别限制，优选为较高。(感光性树脂组合物)用于形成本发明的保护层的感光性树脂组合物含有感光性树脂。感光性树脂组合物若是经由光的照射而致显影液中的溶解性发生变化的组合物，则没有特别限定，优选经由光的照射而发生交联反应或聚合反应而固化的负感光型感光性树脂组合物。此外，本发明的感光性树脂组合物可含有聚合引发剂、敏化色素等敏化剂、加速剂、各种固化剂、热固化性树脂、表面活性剂、粘合性改善剂、流平剂、有机溶剂等。(感光性树脂)本发明的感光性树脂组合物中使用的感光性树脂没有特别限定，例如可举出含有自由基聚合性不饱和基团的化合物、含有阳离子聚合性基团的化合物等。(含有自由基聚合性不饱和基团的化合物)本发明的含有自由基聚合性不饱和基团的化合物为在分子内具有至少1个乙烯性不饱和基团的化合物。从反应性的观点出发，乙烯性不饱和基团优选是烯丙基或(甲基)丙烯酰基。作为含有自由基聚合性不饱和基团的化合物，例如可举出不饱和羧酸和多羟基化合物的酯类、羟基(甲基)丙烯酸酯化合物与聚异氰酸酯化合物的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯类、(甲基)丙烯酸或羟基(甲基)丙烯酸酯化合物与聚环氧化合物的环氧(甲基)丙烯酸酯类等。具体地可举出东亚合成公司的Aronix系列、新中村化学公司的NK系列、日本油脂公司的Blemmer系列、共荣社化学公司的Lightacrylate系列、大阪有机公司的Viscoat系列等。(含有阳离子聚合性基团的化合物)作为本发明的含有阳离子聚合性基团的化合物，可举出含环氧基的化合物、含氧杂环丁基的化合物、含乙烯基的化合物等。在这之中，优选含有环氧基的化合物。例如可举出三菱化学公司的JER系列、大赛璐公司的Celloxide系列、新日铁住金化学公司的Epokukdo系列、日本化药公司的NC-、XD-、EPPN-、EOCN-等系列、DIC公司的EPICLON等。此外，除此以外，也可适当使用与甲基丙烯酸缩水甘油酯等含有乙烯性不饱和基团的化合物进行共聚的树脂等。作为含氧杂环丁基的化合物，可举出东亚合成公司的OXT系列、大阪有机公司的OXE-10或30，使用这些化合物的共聚树脂等。作为本发明的感光性树脂，至少包含含有阳离子聚合性基团的化合物，相比自由基聚合性不饱和基团，更趋于可以在低温或短时间内热固化，易于抑制对具有各向异性的光学膜的热损伤。此外，也优选将含有阳离子聚合性基团的化合物与含有自由基聚合性不饱和基团的化合物组合使用。通过组合使用，易于兼顾高曝光灵敏度和热固化性，趋于容易获得通过使用曝光和显影液的显影而进行的图案化的容易程度和保护特性优异的保护膜。作为具体的优选化合物的组合，可举出以下的组合等：支链上具有环氧基的含有乙烯性不饱和基团的化合物与具有(甲基)丙烯酰基的化合物的共聚物、和不饱和羧酸与多羟基化合物的酯类的组合。(热塑性树脂)本发明的光学元件的制造方法中，在具有后述的(IV)工序时，感光性树脂组合物优选含有热塑性树脂。作为热塑性树脂，可举出丙烯酸树脂、酚醛树脂、聚氨酯树脂、聚酯、尼龙、聚酰亚胺、聚碳酸酯，这些物质的衍生物等。另外，在这些树脂上也可以赋予聚合性基团和交联性基团。本发明的热塑性树脂若是在(IV)工序中实施的加热时的温度下发生软化的树脂，则没有特别限制，从与其他成分的亲和性和在涂布溶剂中的溶解性的角度出发，作为优选例可举出丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂等。另外，在这些树脂中，也可导入有自由基聚合性不饱和基团、阳离子聚合性基团、其他交联基团等，这种情况下，可兼具上述的含有自由基聚合性不饱和基团的化合物和/或含有阳离子聚合性基团的化合物的作用。作为兼具含有自由基聚合性不饱和基团的化合物和热塑性树脂的树脂，可举出例如采用(甲基)丙烯酸等对以日本化药公司的ZAR、ZCR、CCR等环氧丙烯酸酯树脂、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等作为共聚成分进行聚合后的树脂进行开环的树脂等。作为兼具含有自由基聚合性不饱和基团的化合物和热塑性树脂的树脂，可举出例如将日本化药公司的NC、EOCN、XD、EPPN等酚醛环氧树脂、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯和(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲基(甲基)丙烯酸酯等作为共聚成分进行聚合的树脂等。(聚合引发剂)本发明的感光性树脂组合物也可含有聚合引发剂。作为聚合引发剂可举出自由基聚合光引发剂、阳离子聚合光引发剂、自由基聚合热引发剂、阳离子聚合热引发剂等。这些聚合引发剂之中，从保护层的易于固化性的角度出发，优选使用自由基聚合光引发剂和/或阳离子聚合光引发剂。(自由基聚合光引发剂)在本发明的感光性树脂组合物中适宜使用的自由基聚合光引发剂没有特别限定。例如可举出含有日本专利特开昭59-152396号公报、日本专利特开昭61-151197号各公报等所记载的二茂钛化合物的茂金属化合物；日本专利特开2000-56118号公报等所记载的六芳基联咪唑衍生物；日本专利特开平10-39503号公报等所记载的卤甲基化恶二唑衍生物；卤甲基-s-三嗪衍生物；N-苯基甘氨酸等N-芳基-α-氨基酸类；N-芳基-α-氨基酸盐类；N-芳基-α-氨基酸酯类等自由基活性剂；α-氨基烷基苯酮衍生物；日本专利特开2000-80068号公报、日本专利特开2006-36750号公报等所记载的肟酯衍生物；等。这些物质之中，肟酯衍生物类和/或α-氨基烷基苯酮衍生物类在比较薄的膜中也易于确保灵敏度，因而优选。作为肟酯衍生物类，可举出例如日本专利特开2000-80068号公报、日本专利特开2006-36750号公报等所记载的肟和酮肟酯系化合物。作为α-氨基烷基苯酮衍生物类，例如可举出2-甲基-1〔4-(甲硫基)苯基〕-2-吗啉代-1-丙酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、4-二甲基氨基乙基苯甲酸酯、4-二甲基氨基异戊基苯甲酸酯、4-二乙基氨基苯乙酮、4-二甲基氨基苯丙酮、2-乙基己基-1，4-二甲基氨基苯甲酸酯、2，5-双(4-二乙基氨基亚苄基)环己酮、7-二乙基氨基-3-(4-二乙基氨基苯甲酰)香豆素、4-(二乙基氨基)查尔酮等。(阳离子聚合光引发剂)适宜在本发明的感光性树脂组合物中使用的阳离子聚合光引发剂为通过可见光线、紫外线等的照射而产生阳离子物种或路易斯酸，引发阳离子固化性成分的聚合反应的物质。作为阳离子聚合光引发剂，例如可举出芳香族碘鎓盐、芳香族锍盐等鎓盐，芳香族重氮盐，铁-芳烃络合物等。这些物质之中，从固化性的角度出发，优选芳香族碘鎓盐或芳香族锍盐。此外，为了确保在图像显示装置中与感光性树脂层邻接的液晶层的电气可靠性，特别优选芳香族碘鎓塩。芳香族碘鎓塩为具有二芳基碘鎓阳离子的化合物，芳香族锍盐为具有三芳基锍阳离子的化合物。这些阳离子与阴离子(阴离子)成对，构成阳离子聚合光引发剂。作为构成阳离子聚合光引发剂的阴离子可举出六氟磷酸盐阴离子PF6-、六氟锑酸盐阴离子SbF6-、五氟羟基锑酸盐阴离子SbF5(OH)-、六氟砷酸盐阴离子AsF6-、四氟硼酸盐阴离子BF4-、四(五氟苯基)硼酸盐阴离子B(C6F5)4-等。其中，为了确保在图像显示装置中与感光性树脂层邻接的液晶层的电气可靠性，优选六氟磷酸盐阴离子PF6-。作为芳香族锍盐，作为具体例子可举出例如SanApro公司的CPI-100P、CPI-101A、CPI-200K、CPI-210S，ADEKA公司的AdekaOptomerSP-150、SP-170、SP-171等。作为芳香族碘鎓塩，作为具体例子可举出索尔维日本公司的PHOTOINITIATOR2074、BASF日本公司的IRGACURE250、日本曹达公司的CI-5102、和光纯药公司的WPI-113、WPI-116等。(感光性树脂和聚合引发剂的组合)本发明的感光性树脂和聚合引发剂的组合没有特别限定，从确保光固化性的角度出发，优选自由基聚合光引发剂和含有自由基聚合性不饱和基团的化合物的组合、含有阳离子聚合性基团的化合物和阳离子聚合光引发剂的组合、进一步地并用这些组合的系等。(感光性树脂组合物的溶剂)本发明的感光性树脂组合物中使用的溶剂，若是对具有各向异性的光学膜没有不良影响，则没有特别限定，因为有必要进行涂布后干燥，优选选择沸点(压力1013.25[hPa]条件下。下文有关沸点的均如此。)为100～300℃的范围的熔剂。更优选具有120～280℃的沸点的有机溶剂。作为有机溶剂，可举出二醇单烷基醚类、二醇二烷基醚类、二醇烷基醚乙酸酯类、乙酸烷基酯类、醚类、酮类、一元或多元醇类、脂肪族烃类、脂肪族烃类、脂环式烃类、芳香族烃类、链状或环状酯类、烷氧基羧酸类、卤化烃类、醚酮类、腈类等。这些物质之中，从涂布性、表面张力等的良好均衡，对感光性树脂组合物的构成成分的溶解度相对较高的角度出发，优选二醇烷基醚乙酸酯类。此外，有机溶剂可单独使用，也可2种以上并用。作为有机溶剂例如举出如下物质。(二醇单烷基醚类)作为二醇单烷基醚类，可举出乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单正丁醚、丙二醇叔丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单正丁醚、甲氧基甲基戊醇、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单甲醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙醚、三丙二醇甲基醚等。(二醇二烷基醚类)作为二醇二烷基醚类可举出乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇二丁醚、二丙二醇二甲醚等。(二醇烷基醚乙酸酯类)作为二醇烷基醚乙酸酯类可举出乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇单正丁醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单丙醚乙酸酯、丙二醇单丁醚乙酸酯、甲氧基丁基乙酸酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、甲氧基戊基乙酸酯、二乙二醇单甲醚乙酸酯、二乙二醇单乙醚乙酸酯、二乙二醇单正丁醚乙酸酯、二丙二醇单甲醚乙酸酯、三乙二醇单甲醚乙酸酯、三乙二醇单乙醚乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯等。(二醇二乙酸酯类)作为二醇二乙酸酯类，可举出乙二醇二乙酸酯、1，3-丁二醇二乙酸酯、1，6-己二醇二乙酸酯等。(烷基乙酸酯类)作为烷基乙酸酯类，可举出环己醇乙酸酯等。(醚类)作为醚类可举出戊醚、二乙醚、二丙醚、二异丙醚、二丁醚、二戊醚、乙基异丁醚、二己醚等。(酮类)作为酮类，可举出丙酮、甲基乙基酮、甲基戊基酮、甲基异丙基酮、甲基异戊基酮、二异丙基酮、二异丁基酮、甲基异丁基酮、环己酮、乙基戊基酮、甲基丁基酮、甲基己基酮、甲基壬基酮、甲氧基甲基戊酮等。(一元或多元醇类)作为一元或多元醇类，可举出乙醇、丙醇、丁醇、己醇、环己醇、乙二醇、丙二醇、丁二醇、二乙二醇、二丙二醇、三乙二醇、甲氧甲基戊醇、甘油、苄基醇等。(脂肪族烃类)作为脂肪族烃类，可举出正戊烷、正辛烷、二异丁烯、正己烷、己烯、异戊二烯、二戊烯、十二烷等。(脂环式烃类)作为脂环式烃类，可举出环己烷、甲基环己烷、甲基环己烯、联环己烷等。(芳香族烃类)作为芳香族烃类，可举出苯、甲苯、二甲苯、异丙基苯等。(链状或环状酯类)作为链状或环状酯类，可举出甲酸戊酯、甲酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸戊酯、异丁酸甲酯、乙二醇乙酸酯、丙酸乙酯、丙酸丙酯、丁酸丁酯、丁酸异丁酯、异丁酸甲酯、辛酸乙酯、硬脂酸丁酯、苯甲酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、γ-丁内酯等。(烷氧基羧酸类)作为烷氧基羧酸类可举出3-甲氧基丙酸、3-乙氧基丙酸等。(卤化烃类)作为卤化烃类，可举出氯丁烷、氯戊烷等。(醚酮类)作为醚酮类，可举出甲氧基甲基戊酮等。(腈类)作为腈类，可举出乙腈、苄腈等。作为符合上述的市售溶剂，可举出Mineralspirit、Barsolq#2、Apco#18Solvent、ApcoThinner、SocalSolvent1号及2号、Solvesso#150、ShellTS28Solvent、卡必醇(Carbitol)、乙基卡必醇(EthylCarbitol)、丁基卡必醇(ButhylCarbitol)、甲基溶纤剂(MethylCellosolve)、乙基溶纤剂(EthylCellosolve)、乙基溶纤剂乙酸酯(EthylCellosolveAcetate)、甲基溶纤剂乙酸酯、二甘醇二甲醚(Diglyme)等(均为商品名)。在本发明的感光性树脂组合物中使用溶剂时，优选使总固体成分的含有率为3重量％以上，更优选为5重量％以上。另一方面，优选使其为30重量％以下，更优选为20重量％以下。通过使其为上述下限值以上，趋于可容易地控制保护层的膜厚，通过使其为上述上限值以下，趋于易于维持感光性树脂组合物的适用期。(感光性树脂组合物的制备)本发明的感光性树脂组合物的制备方法没有特别限制，例如，可以将上述各成分与溶剂共同混合，通过搅拌或施加超声波，使其溶解或分散，进行制备。另外，制备感光性树脂组合物时，在含有自由基聚合性不饱和基团的化合物或含有阳离子聚合性基团的化合物为液体状时，也可以用它们代替溶剂。本发明的感光性树脂组合物优选在将上述各成分与溶剂共同混合之后，通过使用过滤器进行过滤，由此将不溶物、树脂等可能在合成时产生的凝胶成分、废物、微量金属等除去。作为过滤器，例如可使用EntegrisOptimizer、CUNONanoSHIELD、ZetaPlusEC(均为商品名)等。过滤器的筛目的尺寸优选尽可能地小，至少优选小于保护层的膜厚。通过使过滤器的筛目的尺寸较小，趋于可减少不溶物、凝胶成分、废物、微量金属等，抑制对保护层进行成膜时的感光性树脂组合物的缩孔。此外，能够抑制贯通保护层的异物和缩孔等缺陷，由此趋于可抑制后述的显影液侵入到下层的具有各向异性的光学膜。(保护层的涂布方法)本发明的保护层可以使用在具有各向异性的光学膜的涂布方法中所示的方法等，通过在具有各向异性的光学膜上涂布感光性树脂组合物而获得。从保护膜的均匀性和工序的简略化的角度出发，涂布优选为连续涂布。在这之后，当感光性树脂组合物含有溶剂时，可以对保护层进行干燥。干燥可以通过使用洁净烘箱、热板、红外线、卤素加热器、微波照射等加热设备进行加热而进行。在这之中，从易于均等地对膜的整体进行加热的角度出发，优选洁净烘箱和热板。干燥条件只要根据溶剂的种类和具有各向异性的光学膜的耐热性等进行适当选择即可。出于充分干燥后可易于获得稳定的固化性的角度出发，优选在高温下进行长时间干燥。此外，从干燥所需要的时间短则生产率优异的观点和加热难以影响具有各向异性的光学膜和基板的观点出发，优选在低温下短时间进行干燥。此处，干燥温度通常为40℃以上，优选为50℃以上，另一方面，通常为120℃以下，优选为100℃以下。干燥时间优选为15秒以上，更优选为30秒以上，此外，优选为5分钟以下，更优选为3分钟以下。干燥可通过减压干燥法进行，也可同时使用加热法和减压干燥法。保护层的膜厚没有特别限定，干燥膜厚优选为100nm以上，进一步优选为200nm以上。另一方面，优选为5μm以下，进一步优选为4μm以下。通过使保护层的膜厚在上述范围，则趋于易于同时完成：对下层的具有各向异性的光学膜的保护性、为了将具有各向异性的光学膜进行图案化而确保保护层的膜强度、维持具有各向异性的光学膜的光学特性。具有各向异性的光学膜与保护层的膜厚的关系没有特别限定，可为其中任意一方较大。在具有后述的(IV)工序时，保护层的膜厚较大者可以使通过熔体流动进行的密封变得更为容易，因而优选。具有各向异性的光学膜与保护层的优选的膜厚差，以干燥膜厚计为100nm以上，更优选为500nm以上。此外，优选为4μm以下，更优选为3μm以下。此外，膜厚也可以相同。通过使膜厚的差在特定的范围，趋向于充分地清洗除去(III)工序中使用的碱性溶液变得容易。此外，具有(IV)工序时，趋于容易兼顾上述清洗除去的容易性和对具有各向异性的光学膜的露出部进行密封。＜(III)工序＞本发明的制造方法作为(III)工序而具有如下工序：通过在形成的保护层上设置掩模并进行曝光，采用碱性溶液进行显影，对所述保护层和不溶性处理后的具有各向异性的光学膜进行图案化。本工序是在(II)工序中形成的保护层上设置掩模并进行曝光，使一部分保护层发生聚合反应，保护层的非曝光部(非聚合部)通过进行经由碱性溶液的显影而被溶解。其特征在于在该保护层溶解的同时，使存在于溶解后的保护层的下层的具有各向异性的光学膜进行溶解或剥离，进行图案化。本工序可以采用单一显影液，在一个工序中将保护层的非曝光部和不溶化的具有各向异性的光学膜的两者进行图案化，可完成工序的简略化和制造成本的削减。(曝光)曝光中所使用的光源若能使保护层发生聚合，则没有特别限定。具体地，例如可举出氙灯、卤灯、钨灯、高压汞灯、超高压汞灯、金属卤化物灯、中压汞灯、低压汞灯、碳弧灯、荧光灯、LED等灯光光源，氩离子激光器、YAG激光器、准分子激光器、氮激光器、氦镉激光器、蓝紫色半导体激光器、近红外线半导体激光器等激光光源。本文中在使用特定波长的光时，也可使用光学滤波器。曝光量通常为0.01mJ/cm2以上，优选为0.1mJ/cm2以上，更优选为1mJ/cm2以上，此外，通常为1000mJ/cm2以下，优选为800mJ/cm2以下，更优选为500mJ/cm2以下。(保护层的掩模)本发明的掩模若为具有遮光性的物质，则没有特别限制，可使用半导体图案化工序中使用的硬掩模和乳胶掩模，或者加工为所期望的图案的金属、金属薄膜等遮光物等。硬掩模可以通过如下所述而获得：使铬膜薄薄地附着在玻璃或合成石英上，接着对感光性抗蚀剂进行涂布、曝光·显影之后，通过蚀刻除去铬膜，然后，通过再除去上层的抗蚀剂膜，形成曝光用图案而获得。乳胶掩模是在浮法玻璃和树脂薄膜上附加主要由明胶材料和作为感光物的卤化银构成的膜而成的掩模，可以与照片的负片同样地通过进行曝光、显影、定影而获得。(显影液)本发明的显影中使用的碱性溶液没有特别限定，优选为pH7.5以上，更优选为pH8以上。此外，优选为pH14以下，更优选为pH12以下。通过使其在该范围内，趋于易于使保护层和具有各向异性的光学膜发生溶解或剥离。具体可举出氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钙、氢氧化铵、四甲基氢氧化铵、碳酸钠、碳酸氢钠等。这些物质之中，从材料易获得性和控制显影液的pH的容易性的角度出发，优选使用氢氧化钾和/或四甲基氢氧化铵。此外，本发明的显影中使用的碱性溶液也可含有水系、非离子系、其他可溶解的表面活性剂。(显影方法)关于显影方法及其条件，没有特别限制。作为显影方法，可举出浸渍显影、桨式显影、喷雾显影、刷式显影、超声波显影等。在这之中，浸渍显影和喷雾显影由于难以附着污渍，易于均匀地进行显影因而优选。此外，出于减少显影液的使用量的观点，优选桨式显影。关于显影温度，通常在10℃以上，优选15℃以上，此外，另一方面，通常在50℃以下、优选在45℃以下中进行。优选在显影后直接或者在使用其他溶剂或水进行清洗之后通过抖落或压缩空气进行干燥。此处所谓其他溶剂优选选择不会溶解曝光后的保护层和具有各向异性的光学膜、与显影液为混合形态的溶剂。＜其他工序＞为获得本发明的光学元件，也可在上述的(I)工序～(III)工序之外具有工序。例如可举出在基板上设置取向膜的工序、对板赋予润湿性的工序、通过加热使保护层熔体流动的工序等。(在基板上设置取向膜的工序)为提高具有各向异性的光学膜的取向性，可在上述(I)工序之前，在基板上设置取向膜。具体地可使用“液晶便览”(丸善株式会社、2000年10月30日发行)的226页～239页等所记载的公知的方法。(赋予基板润湿性的工序)在通过涂布形成具有各向异性的光学膜时，为抑制用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的缩孔，可对基板赋予润湿性。作为赋予润湿性而形成亲液部分的处理，没有特别限定，可举出作为物理性或化学性改质处理手段的电晕处理、等离子体处理、紫外线照射(UV臭氧)处理等表面处理。此时，也可通过调整气体组成和处理时间来调整亲液状态。(通过加热使保护层熔体流动的工序((IV)工序))本发明的制造方法作为(IV)工序，可具有通过加热使(III)工序中图案化后的保护层熔体流动(MeltFlow)的工序。如图4所示，通过使保护层进行熔体流动，可以将显影后露出的具有各向异性的光学膜轮廓部的侧面进行密封。熔体流动的方法若能够软化显影后的保护层，将具有各向异性的光学膜的轮廓部侧面密封，则不特别限定条件。从具有各向异性的光学膜的耐热性的角度出发，加热温度优选为200℃以下，特别优选为180℃以下。此外，出于通过加热进一步地促进保护层的固化的目的，优选为100℃以上，特别优选为120℃以上。从避免具有各向异性的光学膜的劣化的角度出发，加热时间优选尽可能地短，但出于进一步促进保护层的固化的目的，优选为较长，通常为1分钟以上、优选为10分钟以上，通常为120分钟以下，优选为60分钟以下。加热方法可自由地选择公知的方法，可举出例如热板、IR烘箱、对流式烘箱等。(III)工序结束时的具有各向异性的光学膜的轮廓部可以是与保护层的轮廓部为相同位置，或者也可在保护层的轮廓部的更内侧这两者中的任一项。具有各向异性的光学膜(符号2)与保护层(符号3)的轮廓部为相同位置的情况的例子如图6(a)所示，具有各向异性的光学膜(符号2)在保护层(符号3)的轮廓部的更内侧的情况的例子如图6(b)所示。作为本发明的制造方法在具有(IV)工序时，优选在(III)工序中如图3所示地将具有各向异性的光学膜(符号2)的轮廓部除去至保护层(符号3)的轮廓部的更内侧为止。通过使进行除去后的、在具有各向异性的光学膜的轮廓更外侧的保护层部分成为(IV)工序中的熔体流动的充分的留出部(日语：糊代)，由此保护层可密封具有各向异性的光学膜轮廓部的侧面。作为具有各向异性的光学膜的轮廓部比保护层的轮廓部更向内侧深入的距离，优选为具有各向异性的光学膜的膜厚以上，优选为5mm以下。通过使其为上述的下限值以上，趋于即使在之后的工序中也能充分地保护具有各向异性的光学膜的轮廓部侧面，另一方面，通过使其为上述上限值以下，趋于可抑制具有各向异性的光学膜的图案化所需要的时间。使具有各向异性的光学膜的轮廓部为保护层的轮廓部的更内侧或与保护层的轮廓部为相同位置的方法，没有特别限定。可通过显影时间的调整、显影液的pH调整、添加的表面活性剂等而适当进行调整。具体地，具有各向异性的光学膜，相比于保护层，趋于容易因与其与显影液的接触时间而相应地被浸蚀。因此，如果延长显影时间，则可使具有各向异性的光学膜的轮廓部为相应地比保护层的轮廓部更靠内侧。此外，通过显影液的pH或添加剂的调整，可调整浸蚀具有各向异性的光学膜的速度。[具有(V)工序～(VIII)工序的光学元件的制造方法]作为本发明的第二方式的包含基板、具有各向异性的光学膜和保护层的光学元件的制造方法，可举出具有下述(V)工序～(VIII)工序的制造方法。(V)在基板上连续涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物，形成具有各向异性的光学膜，然后通过盐交换对所述具有各向异性的光学膜进行不溶性处理的工序；(VI)在所述不溶性处理后的具有各向异性的光学膜上涂布感光性树脂组合物，形成保护层的工序；(VII)经由曝光和通过显影液进行的显影，将上述保护层进行图案化的工序。(VIII)将保护层被显影除去而露出的部分的具有各向异性的光学膜，与酸性水溶液或碱性水溶液接触后，进行水洗的工序。上述制造方法中，上述显影液优选含有80容量％以上的有机溶剂。此外，上述感光性树脂组合物优选含有热塑性树脂。此外，上述具有各向异性的光学膜的膜厚优选为保护层的膜厚以下。上述(VII)中的显影液优选为含有80容量％以上的有机溶剂而构成的显影液。此外，上述(VIII)工序中，上述具有各向异性的光学膜优选被浸蚀到与保护层的轮廓部相同位置或轮廓部的更内侧为止。进一步地，优选具有下述(IX)工序。(IX)通过加热，使图案化后的所述保护层熔体流动的工序。此外，本发明还涉及使用上述光学元件的制造方法制造的光学元件和具备该光学元件的图像显示装置。本发明的包括(V)工序～(VIII)工序的制造方法，若按照(V)工序→(VI)工序→(VII)工序→(VIII)工序的顺序进行实施，则没有特别限定，在各个工序之间也可具有其他的工序。例如，在(V)工序和(VI)工序之前也可具有其他工序。依据上述具有(V)工序～(VIII)工序的光学元件的制造方法，可以没有涂布缺陷地、容易地将均匀的具有各向异性的光学膜和保护层进行图案化。此外，可不受具有各向异性的光学膜形成后的制造工序中使用的水和溶剂的影响，抑制具有各向异性的光学膜溶解、剥离等的发生、偏振光机能损失。因此，在切出从1片基板母材划分出多个光学元件进行分割而成的基板之时尤其有用，其中光学元件具备在具有各向异性的光学膜形成后使用取向膜形成用的溶剂(NMP等)或作为清洗溶剂的水的工序。((V)工序)本发明作为(V)工序具有如下工序：在基板上连续涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物，形成具有各向异性的光学膜，然后通过盐交换对所述具有各向异性的光学膜进行不溶性处理的工序。(V)工序与上述(I)工序相同，优选的范围等也相同。((VI)工序)本发明作为(VI)工序具有在(V)工序中进行不溶化后的具有各向异性的光学膜上涂布感光性树脂组合物，形成保护层的工序。(VI)工序与上述(II)工序相同，优选的范围等也相同。((VII)工序)本发明的制造方法作为(VII)工序具有如下工序：通过经由曝光和通过显影液进行的显影，将所述保护层进行图案化的工序。通过曝光和显影进行图案化的方法为：在上述(VI)工序中形成的保护层上设置曝光掩模进行曝光，使一部分保护层发生聚合反应。进一步地，除去未受通过曝光进行的光照射而未进行聚合反应的部分的保护层，进行显影处理，将保护层图案化。(曝光)曝光中使用的光源若能够聚合保护层，则没有特别限定。具体地，与上述(III)工序中所列举的光源相同，曝光量的优选的范围等也相同。(显影液)本发明的显影液若是在溶解保护层的非曝光部的同时对曝光部的保护层和位于其下部的具有各向异性的光学膜不产生不良影响的显影液，则没有特别限定，但优选以有机溶剂为主成分的显影液。以有机溶剂为主成分的显影液的有机溶剂的含量，优选含有80容量％以上的有机溶剂，更优选含有90容量％以上。此外，不存在上限值，可为100容量％。通过使其在该范围内，可以不溶解具有各向异性的光学膜，仅对保护层进行显影，进一步地趋于不损害保护层的电气可靠性。此外，除了有机溶剂之外，显影液也可含有水、非离子系表面活性剂等。作为本发明的显影液中使用的有机溶剂的具体例，例如可举出上述感光性树脂组合物的溶剂一项中记载的溶剂等。在这些溶剂之中，由于良好地溶解保护层，干燥时不会使保护层发生白化，因而优选二醇烷基醚乙酸酯类和二醇烷基醚乙酸酯类，特别优选丙二醇单甲醚乙酸酯和丙二醇单甲醚。本发明的显影液中使用的有机溶剂可使1种，也可以混合2种以上进行使用。(显影方法)关于显影方法及其条件，没有特别限制。作为显影方法，与上述(III)工序中举出的方法相同，优选的显影方法也相同。此外，显影温度也与上述(III)工序相同，优选的范围也相同。((VIII)工序)本发明的制造方法作为(VIII)工序具有如下的工序：将保护层被显影除去而露出的部分的具有各向异性的光学膜，与酸性水溶液(下文中称为“方法(1)”)或碱性水溶液(下文中称为“方法(2)”)接触后，进行水洗。通过该工序，可以进行具有各向异性的光学膜的图案化。本文中，保护层被显影除去而露出的部分是指通过在(VII)工序的图案化中除去保护层，而暴露在外部的具有各向异性的光学膜。具体指图5的符号a所表示的部分。(方法(1))方法(1)为将保护层被显影除去而露出的部分的具有各向异性的光学膜通过酸性水溶液进行水可溶性处理后，用水洗除去水可溶性化后的具有各向异性的光学膜的方法。方法(1)的水可溶性处理自与酸性水溶液接触的具有各向异性的光学膜的表面进行。另一方面，酸性水溶液自不溶性处理后的具有各向异性的光学膜表面侵入的速度缓慢。这种酸性水溶液向具有各向异性的光学膜中的侵入速度的缓慢，在容易控制酸性水溶液向具有各向异性的光学膜的横向的浸蚀(酸性水溶液向位于存在保护层的图案的部分之下具有各向异性的光学膜的侵入)的同时，也可抑制酸成分向具有各向异性的光学膜的混入(contamination)。因此，在重视具有各向异性的光学膜的尺寸精度和高度的电气可靠性时，优选采用方法(1)。方法(1)中，因为酸性水溶液自不溶性处理后的具有各向异性的光学膜表面侵入的速度缓慢，相比于一次处理中进行水溶性处理至具有各向异性的光学膜的底部为止，多次反复进行以下循环：将表面水可溶化→将水可溶化部分的表面水洗除去→将新的表面水可溶化，可以缩短水可溶性处理时间，因而优选。本发明中使用的酸性水溶液若是酸性的水溶液，则没有特别限定，例如为将硫酸、盐酸、硝酸等无机酸和乙酸、草酸等有机酸适当地溶解于水中的溶液。这些物质之中，从电气可靠性、气味、腐蚀性、操作性等角度出发，优选使用有机酸，特别优选使用草酸。此外，这些酸也可为多种物质的混合物。上述酸性水溶液也可含有增稠剂、保湿剂、表面活性剂等添加剂。(方法(1)水可溶性处理方法)使用上述的酸性水溶液对具有各向异性的光学膜进行水可溶性处理的方法没有特别限定，可举出在酸性水溶液中浸渍具备具有各向异性的光学膜的基板的方法；从具有各向异性的光学膜的上方供给酸性水溶液的方法；在具备具有各向异性的光学膜的基板上进行酸性水溶液喷雾的方法；在具备具有各向异性的光学膜的基板上通过帘式涂布、辊涂、浸涂、浮动涂布(フローティングコート)、吹涂等涂布酸性水溶液的方法；等。本发明的具有各向异性的光学膜非常薄，具有由于与物体的接触而容易发生剥落的倾向。因此，优选采用可以抑制具有各向异性的光学膜的偏振光性能的降低，抑制膜的剥离等缺陷的方法。(方法(1)具有各向异性的光学膜的水洗除去)通过水洗而除去水可溶性处理后的具有各向异性的光学膜。水洗的方法没有特别限定，可举出浸渍式、桨式、喷雾式等。如果水洗除去中使用的水为酸性，则具有各向异性的光学膜变得难以溶出，因此，为了高效地除去具有各向异性的光学膜，优选避免水可溶性处理中所使用的酸性水溶液混入到清洗水中。从这一点出发，优选始终供给新的水的喷雾式等，浸渍式时优选策划准备多个水槽等。此外，也可使用碱性化合物等调节pH以使清洗水不会成为酸性，但若清洗水成为碱性，则未进行水可溶性处理的部分的具有各向异性的光学膜也易于溶出，难以对图案化进行控制，因而不优选。在任意情况下，均优选在最终用没有不需要的溶液的混入的洁净的水进行冲洗。(方法(2))方法(2)为通过使保护层被显影除去而露出的部分的具有各向异性的光学膜与酸性水溶液接触而溶解除去的方法。不溶性处理后的具有各向异性的光学膜在碱性水溶液中为可溶，因而通过与碱性水溶液接触，直接被溶解除去。方法(2)可在一次处理中以短时间除去具有各向异性的光学膜，因而在重视工序上的合理性时优选使用碱性水溶液。本发明中使用的碱性水溶液为将碱性化合物适当地溶解在水中的溶液。碱性化合物没有特别限定，可以是无机碱性化合物，也可以是有机碱性化合物。此外，这些碱性化合物也以是1种，也可以为多种的混合物。进一步地，也可含有增稠剂、保湿剂、表面活性剂等添加剂。作为无机碱性化合物，例如可举出氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、硅酸钠、硅酸钾、偏硅酸钠、磷酸钠、磷酸钾、磷酸氢钠、磷酸氢钾、磷酸二氢钠、磷酸二氢钾、氢氧化铵等。作为有机碱性化合物，可举出单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等的乙醇胺；单甲基胺、二甲基胺、三甲基胺等的甲基胺；单乙基胺、二乙基胺、三乙基胺等的乙基胺；单异丙基胺、二异丙基胺等的异丙基胺；正丁基胺；单异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺等的异丙醇胺；乙烯亚胺；乙烯二亚胺；四甲基氢氧化铵(TMAH)；胆碱等。这些物质之中，从电气特性的角度出发，优选有机碱性化合物，特别优选使用TMAH。(方法(2)具有各向异性的光学膜的除去方法)方法(2)中，通过与碱性水溶液接触，溶解除去具有各向异性的光学膜的方法没有特别限定。可举出在碱性水溶液中浸渍具备具有各向异性的光学膜的基板的方法；从具有各向异性的光学膜的上方供给碱性水溶液的方法；在具备具有各向异性的光学膜的基板上进行碱性水溶液喷雾的方法；在具备具有各向异性的光学膜的基板上通过帘式涂布、辊涂、浸涂、浮动涂布、吹涂等涂布碱性水溶液的方法；等。本发明的具有各向异性的光学膜非常薄，具有由于与物体的接触而容易发生剥落的倾向。因此，优选采用可以抑制具有各向异性的光学膜的偏振光性能的降低、抑制膜的剥离等缺陷的方法。(方法(2)水洗方法)通过与碱性水溶液接触，溶解除去具有各向异性的光学膜之后，通过水洗，可以除去在具有各向异性的光学膜中残留的碱性化合物。通过除去在具有各向异性的光学膜中残留的碱性化合物，可抑制对具有各向异性的光学膜部分的过度浸蚀，趋于获得光学元件的电气可靠性。水洗的方法没有特别限定，可举出浸渍式、桨式、喷雾式等。这些方法之中，从碱性化合物的除去效率的角度出发，优选始终供给新的水的喷雾式等。在浸渍式的情况时优选准备多个水洗用的水槽等，充分地除去碱性化合物。在方法(1)和方法(2)之后进行的具有各向异性的光学膜的干燥方法没有特别限定，可举出风干、鼓风干燥、真空干燥、加热干燥等。这些之中，从抑制具有各向异性的光学膜的裂纹的观点出发，优选使用风干或鼓风干燥。此外，可将这些干燥进行组合使用。上述方法中浸蚀具有各向异性的光学膜的程度没有特别限定，可与保护层的轮廓部为相同位置，也可以是保护层的轮廓部的更内侧。具有各向异性的光学膜(符号2)与保护层(符号3)的轮廓部为相同位置的情况的例子如图6(a)所示，具有各向异性的光学膜(符号2)为保护层(符号3)的轮廓部的更内侧的情况的例子如图6(b)所示。具有各向异性的光学膜与保护层的膜厚的关系没有特别限定，可为其中任意一方较大。在具有后述的(IX)工序时，保护层的膜厚较大者可以使通过熔体流动进行的密封变得更为容易，因而优选。具有各向异性的光学膜与保护层的优选的膜厚差，以干燥膜厚计为100nm以上，更优选为500nm以上。此外，优选为4μm以下，更优选为3μm以下。此外，膜厚也可以相同。通过使膜厚的差在特定的范围内，趋于容易地充分清洗除去(VIII)工序中使用的酸性或碱性水溶液。此外，具有(IX)工序时，趋于容易兼顾上述清洗除去的容易性和对具有各向异性的光学膜的露出部的密封。使具有各向异性的光学膜的浸蚀在保护层的轮廓部的内侧以及与保护层的轮廓部为相同位置的方法，没有特别限定，但在使具有各向异性的光学膜的浸蚀为保护层的轮廓部的内侧时，可举出在(VIII)工序中在完全除去无保护层的部分的具有各向异性的光学膜后经历短暂时间等方法。此外，使具有各向异性的光学膜的浸蚀与保护层的轮廓部相同位置的方法，可举出在(VIII)工序中在完全能够除去无保护层的部分的具有各向异性的光学膜的瞬间进入水洗工序等方法。本发明的制造方法中，在具有后述的(IX)工序时，优选在(VIII)工序中如图6(b)所示地使具有各向异性的光学膜(符号2)浸蚀至保护层(符号3)的轮廓部的更内侧为止。通过使进行浸蚀后的、在具有各向异性的光学膜的轮廓外侧的保护层部分成为(IX)工序中的熔体流动的充分的留出部(糊代)，保护层可密封具有各向异性的光学膜轮廓部的侧面。作为具有各向异性的光学膜的轮廓部比保护层的轮廓部更向内侧深入的距离，优选为具有各向异性的光学膜的膜厚以上，此外优选为5mm以下，更优选为500μm以下，特别优选为50μm以下。通过使其为上述的下限值以上，趋于可使具有各向异性的光学膜的轮廓部侧面在之后的工序中充分地得到保护，另一方面，通过使其为上述上限值以下，趋于可抑制具有各向异性的光学膜的图案化所需要的时间，也易于除去(VIII)工序中使用的酸或碱。(其他工序)为获得本发明的光学元件，也可在上述的(V)工序～(VIII)工序之外具有工序。例如可举出在上述基板上设置取向膜的工序、对基板赋予润湿性的工序、通过加热使保护层熔体流动的工序等。(在基板上设置取向膜的工序)为提高具有各向异性的光学膜的取向性，可在上述(V)工序之前，在基板上设置取向膜。具体地可使用“液晶便览”(丸善株式会社、2000年10月30日发行)的226页～239页等所记载的公知的方法。(赋予基板润湿性的工序)在通过涂布而形成具有各向异性的光学膜时，为抑制用于形成具有各向异性的光学膜的组合物的缩孔，可对基板赋予润湿性。作为赋予润湿性而形成亲液部分的处理，没有特别限定，可实施作为物理性或化学性改质处理手段的电晕处理、等离子体处理、紫外线照射(UV臭氧)处理等表面处理。此时，也可通过调整气体组成和处理时间来调整亲液状态。((IX)工序通过加热使保护层熔体流动的工序)作为(IX)工序，在上述(VIII)工序之后，也可具有通过加热使保护层熔体流动的工序。如如图7的最下段所示，通过使保护层(符号3)熔体流动，可以对显影后露出的具有各向异性的光学膜轮廓部的侧面进行密封。通过该密封，可以进一步地在光学元件形成后的图像显示装置的工序中提高对具有各向异性的光学膜的保护。在切出从1片基板母材划分出多个In-Cell型光学元件并进行分割而成的基板之时尤其有用，其中光学元件具备在具有各向异性的光学膜形成后使用取向膜形成用的溶剂(NMP等)的工序。(IX)工序中，保护层的熔体流动的方法、温度、时间等加热方法，与上述(IV)工序相同，优选的范围等也相同。＜光学元件＞本发明的光学元件并不仅限于具有各向异性的光学膜和保护层，出于提高偏振光性能，提高机械性强度等目的，也可以具有其他的层。此外，光学元件也可以使用粘附层或防反射层；取向膜；具有作为相位差膜的机能、作为亮度增强膜的机能、作为反射膜的机能、作为半透射反射膜的机能、作为散射膜的机能等光学机能的层；等作为基板，也可以通过涂布或贴合具有各种机能的层形成层叠，作为层叠体进行使用。这些层可以根据制造工序、特性和机能而适当地设置，其层叠的位置、顺序等没有特别限定。例如，形成上述各层的位置可为在保护层之上形成，此外，也可在设有具有各向异性的光学膜的基板的背对面上形成。另一方面，形成上述各层的顺序，可在具有各向异性的光学膜的形成之前，也可在形成之后。具有这些光学机能的层可通过如下所述的方法形成。具有作为相位差膜的机能的层可通过将采用如下所述的方法获得的相位差膜贴合于构成光学元件的其他层等而形成。相位差膜可通过例如实施日本专利特开平2-59703号公报、日本专利特开平4-230704号公报等所记载的延伸处理，或者实施日本专利特开平7-230007号公报等记载的处理等而形成。具有作为亮度增强膜的机能的层，可通过将采用如下所述的方法获得的亮度增强膜贴合于构成光学元件的其他层等而形成。亮度增强膜可通过例如采用如日本专利特开2002-169025号公报和日本专利特开2003-29030号公报所记载的方法形成微细孔、或将选择反射的中心波长不同的2层以上的胆甾型液晶层进行重叠而形成。具有作为反射膜或半透射反射膜的机能的层可通过例如将通过蒸镀或溅射得到的金属薄膜与构成光学元件的其他层进行贴合等而形成。具有作为散射膜的机能的层，可通过例如在构成光学元件的其他层上涂布含有微粒的树脂溶液而形成。此外，具有作为相位差膜和光学补偿膜的机能的层可通过将盘状液晶性化合物、向列型液晶性化合物等液晶性化合物涂布在构成光学元件的其他层上并使之取向而形成。＜图像显示装置＞将本发明中的光学元件用于LCD和OLED等各种图像显示装置时，图像显示装置的构成等没有特别限定，光学元件的位置等也没有特别限定。例如，可以在构成图像显示装置的电极基板等的表面或滤色器上直接形成光学元件，或者将形成有光学元件的基板作为这些图像显示装置的构成部件使用。此外，在本发明的光学元件上也可设置液晶用的取向膜等。考虑到本发明的具有各向异性的光学膜和保护层可通过涂布形成这一点，本发明的光学元件也能适宜地用于柔性显示等用途。实施例下文中通过实施例对本发明进行更为具体的说明，但本发明只要不超出其主旨，就不受以下的实施例的限定。另外，在以下的记载中，“份”表示“质量份”。＜透射率、偏振光度和对比度的测定方法＞透射率、偏振光度和对比度使用具备格兰汤普森(GlanThompson)起偏镜的分光光度计(大塚电子(株)制，产品名"RETS-100")而求得。向具有各向异性的光学膜入射直线偏振光的测定光，基于通过测定获得的400nm～800nm的透射率波长依赖性(Ty(λ)、Tz(λ)、Tm(λ))，经由如下所示的计算，算出测定元件的单体透射率(Tm)[％]、偏振光度(PE)[％]、对比度(CR)。Tm[％]＝ΣV(λ)D65(λ)Tm(λ)/ΣV(λ)D65(λ)x100Ty[％]＝ΣV(λ)D65(λ)Ty(λ)/ΣV(λ)D65(λ)x100Tz[％]＝ΣV(λ)D65(λ)Tz(λ)/ΣV(λ)D65(λ)x100CR＝Ty/TzPE＝{(Ty-Tz)/(Ty+Tz)}1/2x100各符号的意义如下所示。Tm(λ)：各波长中的具有各向异性的光学膜的单体透射率Tz(λ)：各波长中的具有各向异性的光学膜对吸收轴方向的偏振光的透射率Ty(λ)：各波长中的具有各向异性的光学膜对偏振光轴方向的偏振光的透射率D65(λ)：在各波长下的物体颜色的测定用光源强度(CIE、ISO的标准光强度)V(λ)：由国际照明委员会、国际度量衡局定义的相对可见度波长依赖性[实施例1](用于形成具有各向异性的光学膜的组合物1的制作)通过在79份水中搅拌溶解20份下述式(1)所表示的色素的锂盐和1份下述式(2)所表示的色素，制作用于形成具有各向异性的光学膜的组合物1。[化1](不溶化液1的制作)在24.4份双(六亚甲基)三胺(东京化成公司制)中加入6N的硫酸75.6份，进行搅拌溶解，制作不溶化液1。不溶化液1的粘度为50cP。(感光性树脂组合物1的制作)混合表1所示的各成分，使用丙二醇甲基醚乙酸酯调整至固体成分浓度成为15重量％，制作感光性树脂组合物1。另外，表中的各成分如下所述。·光聚合性单体(含有自由基聚合性不饱和基团的化合物)a-1：二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化学(株)制)·树脂(含有自由基聚合性不饱和基团的化合物)b-1：日本化药(株)制ZAR1035(属于环氧基(甲基)丙烯酸酯树脂。在双酚A型环氧树脂加成丙烯酸，进一步地加成琥珀酸酐而成的树脂。分子量13，000，酸值约100)·自由基聚合光引发剂(α-氨基烷基苯酮衍生物类)c-1：BASF(株)制IRGACURE907·表面活性剂：DIC(株)制RS-72-K(具有聚合性基团的氟系表面活性剂)[表1]感光性树脂组合物1的成分(重量份)光聚合性单体a-147.4树脂b-147.4自由基聚合光引发剂c-15表面活性剂0.2((I)工序)作为基板，准备在玻璃制基板(10×10cm、厚度0.7mm)上形成取向膜(聚酰亚胺膜厚约60nm)，在端面实施水平方向的摩擦处理后的基板。在该取向膜上，采用模具涂布机(湿膜厚2μm，机头速度15mm/s)连续涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物1，使其自然干燥，从而形成膜厚约为0.4μm的具有各向异性的光学膜。另外，涂布时的环境条件为23℃、50RH％。使形成有具有各向异性的光学膜的基板含浸于不溶化液1中3秒钟。取出基板之后，使用软化水，为了将多余的不溶化液进行冲洗而实施充分的清洗，然后进行基板的风干。((II)工序)在(I)工序中进行不溶性处理后的具有各向异性的光学膜上，滴加约1.0mL的感光性树脂组合物1，调节旋涂机的转速使膜厚成为500nm，进行40秒的旋转涂布。然后在热板上进行90℃、90秒钟的加热干燥，形成保护层。((III)工序)使用3kW高压汞灯，介由具有负片图案(1英寸Φ的圆状)的掩模，以500mJ/cm2的曝光量对在(II)工序中形成有保护层的基板进行曝光。接着，将曝光后的基板在0.06％氢氧化钾水溶液(显影液)中进行90秒钟的摇动浸渍，进行显影。显影后，采用25℃软化水充分地摇动含浸清洗后，吹出压缩空气对其进行干燥，获得光学元件1。光学元件1上未发现膜的剥落等缺陷。光学元件1的从基板上面拍摄的照片如图1所示。中央的黑色圆的部分为光学元件1(符号4)。可知光学元件1以外的不需要的部分(不溶化后的具有各向异性的光学膜和保护层)通过实施例1中的(III)工序的曝光显影被一次性地除去。此外，图1的光学元件1的端部放大照片如图2所示。光学元件1(符号4)的端部形状良好，可知获得了尺寸特性优异的光学元件。此外，采用大塚电子制的RETS-100测定该元件的偏振光特性时，表现出单体透射率41.0％、偏振光度99.4％的良好的值，可知具有作为光学元件的充分特性。((IV)工序)接着，将该光学元件1用180℃的烘箱进行30分钟的加热。观察加热后的光学元件1的相当于具有各向异性的光学膜的轮廓部的部分的截面的SEM时，用显微镜观察确认到保护层如图4的最下段的图所示地熔体流动，密封了具有各向异性的光学膜的轮廓部侧面。[实施例2](聚合物A的制作)在具备有回流冷凝器、搅拌机和氮气通入管的烧瓶中，加入甲基丙烯酸二环戊基酯(日立化成(株)制“FA-513M”)11质量份、甲基丙烯酸缩水甘油酯61质量份、甲基丙烯酸-4-羟基苯基酯14质量份、丙二醇单甲醚乙酸酯400质量份、二甲基-2，2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)8.0质量份，进行氮气置换后，一边搅拌一边使液温上升至80℃，在80℃下进行6小时的反应。进一步地，在100℃下进行1小时的二甲基-2，2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)的分解处理之后，在80℃减压条件下，蒸馏丙二醇单甲醚乙酸酯，浓缩至固体成分浓度成为50质量％左右，获得聚合物A。该聚合物A的重均分子量(Mw)约为9,000。另外，重均分子量以岛津制作所制的“凝胶渗透色谱系统LSSolution”使用岛津制作所制的“ColumnGPC-804”进行测定。聚合物A中的来源于含有环氧基的乙烯基化合物(甲基丙烯酸缩水甘油酯)的重复单元结构的含有比例为67摩尔％，来源于含有环状脂肪族基团的乙烯基化合物(甲基丙烯酸二环戊基酯)的重复单元结构的含有比例为13摩尔％，来源于含有芳香族性羟基的乙烯基化合物(甲基丙烯酸-4-羟基苯基酯)的重复单元结构的含有比例为20摩尔％。聚合物A中含有的重复单元的结构如下所示。[化2](感光性树脂组合物2的制作)分别称取表2的各成分，使用磁力搅拌器进行搅拌而使其完全溶解，进一步地继续搅拌10分钟。接着，使用Entegris公司的OptimizerV470.02μmFD5AXFR进行过滤，获得感光性树脂组合物2。[表2](*1)固体成分的含量(*2)也包含来源于聚合物A、B的溶剂另外，表2中所示的各成分的结构如下所示。结构式中，Et表示乙基。(含有阳离子聚合性基团的化合物OXT-121(东亚合成公司制))[化3](阳离子聚合光引发剂IRGACURE250(BASF公司制))[化4](敏化剂UVS-1331(川崎化成公司制))[化5](加速剂ET-2201(川崎化成公司制))[化6](流平剂BYK-330(毕克化学公司制))聚醚改性聚甲基烷基硅氧烷((I)工序)作为基板，准备在玻璃制基板(10×10cm、厚度0.7mm)上形成取向膜(膜厚约60nm的聚酰亚胺膜)并在端面实施水平方向的摩擦处理后的基板。在该取向膜上，采用模具涂布机(湿膜厚2μm，机头速度15mm/s)连续涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物1，通过使其自然干燥，形成膜厚约为0.4μm的具有各向异性的光学膜。另外，涂布时的环境条件为23℃、50RH％。将形成有具有各向异性的光学膜的基板在不溶化液1中含浸5秒钟。取出基板之后，使用软化水进行清洗，然后进行基板的风干。((II)工序)在(I)工序中进行不溶性处理后的具有各向异性的光学膜上，滴加约0.5mL的感光性树脂组合物1，调节旋涂机的转速，进行50秒的旋转涂布，使后述的(III)工序的显影后的膜厚成为1.5μm。然后在热板上进行90℃、90秒钟的加热干燥，形成保护层。((III)工序)使用3kW高压汞灯，介由具有负片图案的掩模，以50mJ/cm2的曝光量对在(II)工序中形成有保护层的基板进行曝光。接着，将曝光后的基板在0.04％氢氧化钾水溶液(显影液)中进行3分钟的一边摇动一边显影，之后采用流水进行30秒钟的水洗，吹出压缩空气对其进行干燥，获得光学元件2。光学元件2被图案化，未发现膜的剥落等缺陷。((IV)工序)接着，将该光学元件2用180℃的烘箱进行30分钟的加热。保护层之下的具有各向异性的光学膜为不存在裂纹、膜的脱落等的均匀且良好的膜。(偏振光特性的评价)对所得的光学元件2进行偏振光特性的评价。将光学元件2分割为两半，观察将其重叠为成为正交尼科尔或平行尼科尔时的样态时，可确认到光被均匀地遮光或透射。[实施例3](聚合物B的制作)在具备有回流冷凝器、搅拌机和氮气通入管的烧瓶中，加入具有三环癸烷骨架的单甲基丙烯酸酯(日立化成(株)制“FA-513M”)16质量份、甲基丙烯酸缩水甘油酯61质量份、甲基丙烯酸12质量份、二乙二醇甲基乙基醚300质量份、二甲基-2，2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)9质量份，进行氮气置换后，一边搅拌一边使液温上升至80℃，在80℃下进行6小时反应，获得聚合物B。该聚合物B的重均分子量(Mw)约为8，000。另外，重均分子量以岛津制作所制的“凝胶渗透色谱系统LSSolution”使用岛津制作所制的“ColumnGPC-804”进行测定。聚合物B中含有的重复单元的结构如下所述。聚合物B中的来源于含有环氧基的乙烯基化合物(甲基丙烯酸缩水甘油酯)的重复单元结构的含有比例为67摩尔％，来源于含有环状脂肪族基团的乙烯基化合物(甲基丙烯酸二环戊基酯)的重复单元结构的含有比例为11摩尔％，来源于甲基丙烯酸的重复单元结构的含有比例为22摩尔％。[化7](感光性树脂组合物3的制作)称取表2的各成分，与实施例2的感光性树脂组合物2同样地实施，获得感光性树脂组合物3。除使在(III)工序中的0.04％的氢氧化钾水溶液(显影液)中的摇动时间为1分钟外，与实施例2同样地进行(I)工序～(III)工序，获得光学元件3。光学元件3被图案化，未发现膜的剥落等缺陷。((IV)工序)接着，将该光学元件3与实施例2同样地进行加热。保护层之下的具有各向异性的光学膜为不存在裂纹、膜的脱落等的均匀且良好的膜。(偏振光特性的评价)对所得的光学元件3，与实施例2同样地进行偏振光特性的评价。可确认到光学元件3可均匀地对光进行遮光或透射。[参考例]＜含有阳离子聚合性基团的化合物1的制造方法＞在具备有回流冷凝器、搅拌机和氮气通入管的烧瓶中，加入具有三环癸烷骨架的单甲基丙烯酸酯(日立化成(株)制“FA-513M”)47质量份、甲基丙烯酸缩水甘油酯61质量份、丙二醇单甲醚乙酸酯400质量份、二甲基-2，2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)8.0质量份，进行氮气置换后，一边搅拌一边使液温上升至80℃に，在80℃下进行6小时反应。进一步地，在100℃下进行1小时的二甲基-2，2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)的分解处理之后，在80℃减压条件下，蒸馏丙二醇单甲醚乙酸酯，浓缩至固体成分浓度成为50质量％左右，获得含有阳离子聚合性基团的化合物1。该树脂的重均分子量(Mw)约为11，000。另外，重均分子量以岛津制作所制的“凝胶渗透色谱系统LSSolution”使用岛津制作所制的“ColumnGPC-804”进行测定。[化8]＜感光性树脂组合物4的制备＞在如表3所示的感光性树脂组合物4的成分之中，首先分别称取阳离子聚合光引发剂(Irg250)、敏化剂(UVS-1331)、加速剂(ET-2201)、自由基聚合光引发剂(Irg369)和自由基聚合热引发剂(VAm-110)，在其中加入作为有机溶剂的丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)，使用磁力搅拌器进行搅拌而使其完全溶解。接着，加入上述以外的感光性树脂组合物4的成分，进一步地继续搅拌10分钟。接着，使用Entegris公司的OptimizerV470.02μmFD5AXFR进行过滤，获得感光性树脂组合物4。＜感光性树脂组合物5的制备＞在如表3所示的感光性树脂组合物5的成分之中，首先分别称取阳离子聚合光引发剂(Irg250)、敏化剂(UVS-1331)、加速剂(ET-2201)，在其中加入作为有机溶剂的丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)，使用磁力搅拌器进行搅拌而使其完全溶解。接着，加入上述以外的感光性树脂组合物5的成分，进一步地继续搅拌10分钟。接着，使用Entegris公司的OptimizerV470.02μmFD5AXFR进行过滤，获得感光性树脂组合物5。[表3](*1)固体成分的含量(*2)也包含来源于含有阳离子聚合性基团的化合物1的溶剂[参考例4]((V)工序)作为基板，准备在玻璃制基板(10×10cm、厚度0.7mm)上形成取向膜(聚酰亚胺膜厚约60nm)并且在端面实施水平方向的摩擦处理的基板。在该取向膜上，采用模具涂布机(湿膜厚2μm，机头速度15mm/s)连续涂布用于形成具有各向异性的光学膜的组合物1，通过使其自然干燥，形成膜厚约为0.4μm的具有各向异性的光学膜。另外，涂布时的环境条件为23℃、50RH％。使形成有具有各向异性的光学膜的基板在不溶化液1中含浸5秒钟。取出基板之后，使用软化水进行清洗，然后进行基板的风干。((VI)工序)在(V)工序中进行不溶性处理后的具有各向异性的光学膜上，滴加约0.5mL的感光性树脂组合物4，调节旋涂机的转速以使下一个工序(VII)工序的显影后的膜厚成为1μm，进行50秒的旋转涂布。然后，在热板上进行90℃、90秒钟的加热干燥，形成保护层。((VII)工序)使用3kW高压汞灯，介由具有负片图案的掩模，以500mJ/cm2的曝光量对在(VI)工序中形成有保护层的基板进行曝光。接着，将曝光后的基板，以丙二醇单甲醚乙酸酯作为显影液，进行30秒的一边摇动一边浸渍，进行显影。显影后，采用软化水进行清洗之后，进行干燥，在具有各向异性的光学膜上形成图案化后的保护层。((VIII)工序)将(VII)工序后的基板在1N草酸水溶液中30秒摇动浸渍后，施以软化水而进行流动水洗。通过进行3次该工序，完全除去保护层被显影除去而露出的部分的具有各向异性的光学膜，进行干燥，获得光学元件4。用显微镜对光学元件4进行确认时，可观察到具有各向异性的光学膜被浸蚀至相比保护层的轮廓部的更内侧1.5μm左右。此外，保护层之下的具有各向异性的光学膜为不存在裂纹、膜的脱落等的均匀且良好的膜。((IX)工序)接着，将(VIII)工序中所得的光学元件4用180℃的烘箱进行30分钟的加热。观察加热后的光学元件4的相当于具有各向异性的光学膜的轮廓部的部分的截面的SEM时，确认到保护层进行熔体流动，密封了具有各向异性的光学膜的轮廓部侧面。此外，保护层之下的具有各向异性的光学膜为不存在裂纹、膜的脱落等的均匀且良好的膜。此外，如后述的参考例5，将2片光学元件4正交或平行地重叠，确认了其作为光学元件发挥机能。[参考例5]将参考例4的感光性树脂组合物4变更为感光性树脂组合物5，进一步地将(VII)工序的曝光量变更为200mJ/cm2，其他同样地进行，获得光学元件5。与参考例4同样地采用显微镜确认光学元件时，具有各向异性的光学膜被浸蚀至相比保护层的轮廓部的更内侧1.5μm左右。此外，保护层之下的具有各向异性的光学膜为不存在裂纹、膜的脱落等的均匀且良好的膜。进一步地，观察截面SEM时，确认到保护层进行熔体流动，密封了具有各向异性的光学膜的轮廓部侧面。此外，保护层之下的具有各向异性的光学膜为不存在裂纹、膜的脱落等的均匀且良好的膜。如图8(a)～(c)所示，将2片光学元件5进行正交或平行地重叠，确认了其作为光学元件发挥机能。[参考例6]除(VIII)工序按下述进行之外，其他与参考例5同样地进行，获得光学元件6。((VIII)工序)将(VII)工序后的基板在0.4％TMAH水溶液中进行20秒的摇动浸渍，完全除去保护层被显影除去而露出的部分的具有各向异性的光学膜，施以软化水而进行流动水洗并且进行干燥。观察所得的光学元件6的相当于具有各向异性的光学膜的轮廓部的部分的截面的SEM时，确认到保护层进行熔体流动，密封了具有各向异性的光学膜的轮廓部侧面。此外，保护层之下的具有各向异性的光学膜为不存在裂纹、膜的脱落等的均匀且良好的膜。进一步地，与参考例5同样地，将2片光学元件6进行正交或平行地重叠，确认了其作为光学元件发挥机能。详细地并且参照特定的实施方法进行说明，但本领域技术人员知晓，可以不超出本发明的精神和范围地进行各种变更和修正。本申请基于2014年8月1日申请的日本专利申请(特愿2014-157886)、2014年8月1日申请的日本专利申请(特愿2014-157887)、2015年3月23日申请的日本专利申请(特愿2015-059748)和2015年7月22日申请的日本专利申请(特愿2015-144891)，作为参考将其内容引入至本文。当前第1页1 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