技术总结
本文的组合物和方法包括负性显影剂相容性的光致抗蚀剂组合物和使用这样的组合物的方法。这包括可使用负性显影剂显影的正性光致抗蚀剂，因为所述正性光致抗蚀剂的未曝光部分可被一种或更多种负性显影剂溶剂溶解。一个实施方案包括几乎没有或者没有蚀刻抗性的负性显影剂相容性的光致抗蚀剂。如本文所述的非抗性光致抗蚀剂材料可以包括一种或更多种辐射敏感属性(例如，所述光致抗蚀剂可以被图案化、去保护、溶解度改变、与光化学品相互作用并且响应于曝光剂量)，除了这些材料实际上无蚀刻抗性之外。这样的组合物可实际上不含提供或提高对湿法或干法蚀刻工艺的蚀刻抗性的组分、官能团或添加剂。
技术研发人员：安东·J·德维利耶
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
文档号码：201580043882
技术研发日：2015.06.25
技术公布日：2017.05.10