技术总结
本发明提供一种COA型阵列基板，通过将色阻单元的外边缘的全部或者一部分设于所述第一金属层和/或第二金属层上，一方面能够利用第一金属层和/或第二金属层起到垫高作用，减小所述COA阵列基板在色阻单元的外边缘位置处的地形段差，从而在对透明导电层进行图案化时，能够降低涂布于色阻单元外边缘位置的光刻胶的厚度，使其易于通过曝光显影去除掉；另外，所述第一金属层与第二金属层均具有反射特性，能够提升曝光效果，使涂布于所述色阻单元外边缘位置的光刻胶被充分曝光，并通过显影去除；本发明的COA型阵列基板通过以上两方面的效果来消除或者减少位于色阻单元外边缘的金属氧化物残留，避免出现像素电极的电信号无法控制的情况。
技术研发人员：曹武;
受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司;
技术研发日：2017.12.29
技术公布日：2018.06.19