本实用新型涉及一种虚拟现实眼镜领域,尤其涉及一种可拆分的帽式虚拟现实眼镜。
背景技术:
虚拟现实技术是一种计算机仿真系统,可以生成一种模拟 环境,通过三维动态视景、实体行为交互等方式,向用户提供一种沉浸式的应用体验。该项技术的研发始于六十年代,由于该技术难度大,涉及的范围广,对计算机的性能要求高,因此最早用于军用飞机飞行模拟及核反应研究。如今随着显示技术、图形处理技术、多媒体技术、跟踪技术以及并行处理技术等的发展,虚拟现实技术已逐渐应用到生活中的各个领域,如教育、娱乐、艺术、体育、航空航天、建筑、医疗等。在目前较为普及的相关技术中,是通过提供包含虚拟现实功能组件的虚拟现实眼镜,并由用户的手机、平板等电子设备提供虚拟现实内容的播放,提出了一种简单、廉价的虚拟现实解决方案。
但是这种虚拟现实眼镜因比较笨重,无法像常规的眼镜一样通过眼镜腿架在鼻子上的,大部分是需要一根绑带固定在头上,脸部和眼镜周围都有压迫感。其中存在部分帽式虚拟现实眼镜体积较为庞大,使用过程及使用后存放均十分不便。
因此一种外观时尚,又不会对头部带来不适感,使用存放又较为便捷的虚拟现实眼镜将是虚拟现实眼镜发展的趋势。
技术实现要素:
本实用新型正是针对现有技术存在的不足,提供了一种可拆分的帽式虚拟现实眼镜
为解决上述问题,本实用新型所采取的技术方案如下:
一种可拆分的帽式虚拟现实眼镜,包括帽子本体和虚拟现实眼镜,所述帽子本体前端设有帽檐,后端设有凸出块,所述凸出块为框架结构,其至少一对角线上设有卡槽,所述卡槽内设有第一永磁体,所述第一永磁体卡装在凸出块上,其顶面与所述卡槽底面位于同一平面上;所述虚拟现实眼镜具有与所述帽子本体连接的后框,所述后框用于放置镜片,其对应卡槽位置连接有导向件,所述导向件形状与所述卡槽形状匹配,其长度不大于卡槽深度,所述导向件前端卡装有第二永磁体,所述第二永磁体顶面与导向件顶面处于同一平面上,其与第一永磁体之间相互吸引。
优选地,所述卡槽内周开设有截面呈圆形的限位槽,所述导向件外周设有与所述限位槽配合的限位凸起,当所述限位凸起卡接在限位槽内时,所述永磁体和第二永磁体相接。
优选地,所述凸出块的两对角线上均设有卡槽,所述卡槽相对所述凸出块的轴线呈对称分布。
优选地,所述虚拟现实眼镜还包括用于放置播放设备的前框,所述前框与后框相互平行。
优选地,所述前框和后框之间的距离可调。
本实用新型与现有技术相比较,本实用新型的实施效果如下:
虚拟现实眼镜能够安装在帽子本体上,使得虚拟现实眼镜的重量能有效分担到整个帽体本体上,提升了用户使用时的舒适感。
帽子本体和虚拟现实眼镜是可拆分的,不需要时可以将虚拟现实眼镜由帽子本体上卸下,拆装更加方便。
附图说明
图1为本实用新型所述的帽子本体的结构示意图。
图2为本实用新型所述的虚拟现实眼镜的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合具体的实施例来说明本实用新型的内容。
如图1和图2所示,图1为本实用新型所述的帽子本体的结构示意图,图2为本实用新型所述的虚拟现实眼镜的结构示意图。
参照图1和图2,本实用新型所述一种可拆分的帽式虚拟现实眼镜,包括帽子本体1和虚拟现实眼镜2,所述帽子本体1前端设有帽檐,后端设有凸出块3,所述凸出块3为框架结构,其至少一对角线上设有卡槽4,所述卡槽4内设有第一永磁体5,所述第一永磁体5卡装在凸出块3上,其顶面与所述卡槽4底面位于同一平面上;所述虚拟现实眼镜2具有与所述帽子本体1连接的后框6,所述后框6用于放置镜片7,其对应卡槽4位置连接有导向件8,所述导向件8形状与所述卡槽4形状匹配,其长度不大于卡槽4深度,所述导向件8前端卡装有第二永磁体9,所述第二永磁体9顶面与导向件8顶面处于同一平面上,其与第一永磁体5之间相互吸引。
在有的实施例中,所述卡槽4内周开设有截面呈圆形的限位槽,所述导向件8外周设有与限位槽配合的限位凸起10,当所述限位凸起10卡接在限位槽内时,所述第一永磁体5和第二永磁体9相接。使用时,虚拟现实眼镜2能够被有效卡装在帽子本体1上,此设计方式能够提升两者之间的稳固性。
在有的实施例中,所述凸出块3的两对角线上均设有卡槽4,所述卡槽4相对所述凸出块3的轴线呈对称分布。虚拟现实眼镜2和帽子本体1连接更加牢靠。
在有的实施例中,所述虚拟现实眼镜2还包括用于放置播放设备的前框11,所述前框11与后框6相互平行,进一步地,所述前框11和后框3之间的距离可调,即:所述虚拟现实眼镜为可折叠的结构。由于市面上可折叠的虚拟现实眼镜较多,为节省篇幅,此处不再一一赘述。
本实用新型提出的可拆分的帽式虚拟现实眼镜,虚拟现实眼镜能够安装在帽子本体上,使得虚拟现实眼镜的重量能有效分担到整个帽体本体上,提升了用户使用时的舒适感;帽子本体和虚拟现实眼镜是可拆分的,不需要时可以将虚拟现实眼镜由帽子本体上卸下,拆装更加方便。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。