电子照相感光体、处理盒、图像形成装置的制作方法

本发明是涉及一种电子照相感光体、处理盒(processcartridge)及图像形成装置。

背景技术：

电子照相方式的图像形成装置用于复写机及激光束打印机等图像形成装置中。作为用于图像形成装置中的电子照相感光体，使用有机光导电性材料的有机感光体成为主流。

例如，专利文献1中揭示有一种电子照相感光体，其特征在于，将含有氯镓酞菁结晶的感光层被覆于导电性支撑体上，所述氯镓酞菁结晶在x射线衍射光谱中，在布拉格(bragg)角度(2θ±0.2°)为特定的位置具有强的衍射峰值。

另外，专利文献2中揭示有一种电子照相感光体，其特征在于，在导电性支撑体上具有感光层，且在所述感光层中含有氯镓酞菁结晶与羟基镓酞菁结晶，在x射线衍射光谱中，所述氯镓酞菁结晶在相对于cukα特性x射线的布拉格角度(2θ±0.2°)的27.1°处具有最强的衍射峰值，所述羟基镓酞菁结晶在相对于cukα特性x射线的布拉格角度(2θ±0.2°)的7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、22.1°、24.1°、25.1°及28.3°处具有强的衍射峰值。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开平05-098181号公报

[专利文献2]日本专利特开平10-148954号公报

技术实现要素：

[发明所要解决的问题]

若使用包括电子照相感光体的图像形成装置来进行图像形成，则存在如下情况：在电子照相感光体的表面中的前一图像形成循环的图像部中，下一图像形成循环的表面电位局部降低，所述电子照相感光体在导电性基体上依序包括电荷产生层及电荷传输层。而且，在下一图像形成循环中，因表面电位局部降低的区域(即，前一图像形成循环的图像部)浓浓地浮出的现象(以下也称为“正象重影(positiveghost)”)而有时在下一图像形成循环的图像中产生图像缺陷。

本发明的问题在于提供一种电子照相感光体，其中，电荷产生层含有电荷产生材料与乙烯基系共聚物，且乙烯基系共聚物包含具有氯的构成单元、具有酰氧基的构成单元及具有两个以上的羧基的构成单元，与具有酰氧基的构成单元相对于所有构成单元的比例小于13.4摩尔％或超过20.0摩尔％的情况相比，抑制由正象重影引起的图像缺陷的产生。

[解决问题的技术手段]

所述问题可通过以下的手段来解决。即，

＜1＞一种电子照相感光体，其包括：

导电性基体；

电荷产生层，设置于所述导电性基体上，且含有电荷产生材料与乙烯基系共聚物，所述乙烯基系共聚物包含具有氯的构成单元、具有酰氧基的构成单元及具有两个以上的羧基的构成单元，所述具有酰氧基的构成单元相对于构成所述乙烯基系共聚物的所有构成单元的比例为13.4摩尔％以上且20.0摩尔％以下；及

电荷传输层，设置于所述电荷产生层上，且含有电荷传输材料与粘结树脂。

＜2＞

根据＜1＞所述的电子照相感光体，其中，所述具有酰氧基的构成单元相对于构成所述乙烯基系共聚物的所有构成单元的比例为13.4摩尔％以上且18.0摩尔％以下。

＜3＞

根据＜1＞所述的电子照相感光体，其中，所述具有两个以上的羧基的构成单元相对于所述具有酰氧基的构成单元的比例为4.0摩尔％以上且7.0摩尔％以下。

＜4＞

根据＜3＞所述的电子照相感光体，其中，所述具有两个以上的羧基的构成单元相对于所述具有酰氧基的构成单元的比例为4.5摩尔％以上且6.5摩尔％以下。

＜5＞

根据＜3＞所述的电子照相感光体，其中，所述具有两个以上的羧基的构成单元相对于所述具有酰氧基的构成单元的比例为5.0摩尔％以上且6.0摩尔％以下。

＜6＞

根据＜1＞所述的电子照相感光体，其中，所述具有两个以上的羧基的构成单元相对于构成所述乙烯基系共聚物的所有构成单元的比例为0.5摩尔％以上且1.4摩尔％以下。

＜7＞

根据＜6＞所述的电子照相感光体，其中，所述具有两个以上的羧基的构成单元相对于构成所述乙烯基系共聚物的所有构成单元的比例为0.6摩尔％以上且1.1摩尔％以下。

＜8＞

根据＜1＞所述的电子照相感光体，其中，所述具有氯的构成单元由下述通式(1)表示，所述具有酰氧基的构成单元由下述通式(2)表示，且所述具有两个以上的羧基的构成单元由下述通式(3)表示。

[所述通式(1)中，r¹¹～r¹³分别独立地表示氢原子或碳数1以上且5以下的烷基，所述通式(2)中，r²¹～r²³分别独立地表示氢原子或碳数1以上且5以下的烷基，r²⁴表示碳数1以上且5以下的烷基，所述通式(3)中，r³¹～r³²分别独立地表示氢原子或碳数1以上且5以下的烷基]

＜9＞

根据＜8＞所述的电子照相感光体，其中，所述通式(1)中的r¹¹～r¹³均为氢原子，所述通式(2)中的r²¹～r²³均为氢原子，r²⁴为甲基，通式(3)中的r³¹及r³²均为氢原子。

＜10＞

根据＜1＞所述的电子照相感光体，其中，所述电荷产生材料为酞菁系颜料。

＜11＞

根据＜10＞所述的电子照相感光体，其中，所述酞菁系颜料为氯镓酞菁及羟基镓酞菁的至少一种。

＜12＞

一种处理盒，其包括根据＜1＞至＜11＞中任一项所述的电子照相感光体，且

所述处理盒在图像形成装置中进行拆装。

＜13＞

一种图像形成装置，其包括：

根据＜1＞至＜11＞中任一项所述的电子照相感光体；

带电机构，使所述电子照相感光体的表面带电；

静电潜像形成机构，在经带电的所述电子照相感光体的表面形成静电潜像；

显影机构，利用包含色粉(toner)的显影剂，对形成于所述电子照相感光体的表面的静电潜像进行显影而形成色粉图像；及

转印机构，将所述色粉图像转印至记录介质的表面。

[发明的效果]

根据＜1＞、＜8＞或＜9＞的发明，可提供一种电子照相感光体，其中，电荷产生层含有电荷产生材料与乙烯基系共聚物，且乙烯基系共聚物包含具有氯的构成单元、具有酰氧基的构成单元及具有两个以上的羧基的构成单元，与具有酰氧基的构成单元相对于所述乙烯基系共聚物的所有构成单元的比例小于13.4摩尔％或超过20.0摩尔％的情况相比，抑制由正象重影引起的图像缺陷的产生。

根据＜2＞的发明，可提供一种电子照相感光体，其与具有酰氧基的构成单元相对于乙烯基系共聚物中的所有构成单元的比例小于13.4摩尔％或超过18.0摩尔％的情况相比，抑制由正象重影引起的图像缺陷的产生。

根据＜3＞、＜4＞或＜5＞的发明，可提供一种电子照相感光体，其与乙烯基系共聚物中具有两个以上的羧基的构成单元相对于具有酰氧基的构成单元的比例小于4.0摩尔％或超过7.0摩尔％的情况相比，抑制由正象重影引起的图像缺陷的产生。

根据＜6＞或＜7＞的发明，可提供一种电子照相感光体，其与具有两个以上的羧基的构成单元相对于构成乙烯基系共聚物的所有构成单元的比例小于0.6摩尔％或超过1.4摩尔％的情况相比，抑制由正象重影引起的图像缺陷的产生。

根据＜10＞的发明，可提供一种电子照相感光体，其中，即便电荷产生材料为酞菁系颜料，与具有酰氧基的构成单元相对于乙烯基系共聚物中的所有构成单元的比例小于13.4摩尔％或超过20.0摩尔％的情况相比，也抑制由正象重影引起的图像缺陷的产生。

根据＜11＞的发明，可提供一种电子照相感光体，其中，即便电荷产生材料为氯镓酞菁及羟基镓酞菁的至少一种，与具有酰氧基的构成单元相对于乙烯基系共聚物中的所有构成单元的比例小于13.4摩尔％或超过20.0摩尔％的情况相比，也抑制由正象重影引起的图像缺陷的产生。

根据＜12＞或＜13＞的发明，可提供一种处理盒或图像形成装置，其与应用如下电子照相感光体的情况相比，抑制由正象重影引起的图像缺陷的产生，所述电子照相感光体中，电荷产生层含有电荷产生材料与乙烯基系共聚物，且乙烯基系共聚物包含具有氯的构成单元、具有酰氧基的构成单元及具有两个以上的羧基的构成单元，具有酰氧基的构成单元相对于所有构成单元的比例小于13.4摩尔％或超过20.0摩尔％。

附图说明

图1是表示本实施方式的电子照相感光体的层构成的一例的概略部分剖面图。

图2是表示本实施方式的图像形成装置的一例的概略构成图。

图3是表示本实施方式的图像形成装置的另一例的概略构成图。

[符号的说明]

1：底涂层

2：电荷产生层

3：电荷传输层

4：导电性基体

5：感光层

7：电子照相感光体

7a：电子照相感光体

8：带电装置

9：曝光装置

11：显影装置

13：清洁装置

14：润滑剂

40：转印装置

50：中间转印体

100：图像形成装置

120：图像形成装置

131：清洁刮板

132：纤维状构件(辊状)

133：纤维状构件(平刷状)

300：处理盒

具体实施方式

以下，对作为本发明的一例的实施方式进行详细说明。

[电子照相感光体]

本实施方式的电子照相感光体(以下也称为“感光体”)包括导电性基体、设置于导电性基体上的电荷产生层及设置于电荷产生层上的电荷传输层。

而且，电荷产生层含有电荷产生材料与乙烯基系共聚物。另外，乙烯基系共聚物包含具有氯的构成单元(以下也称为“含氯的成分”)、具有酰氧基的构成单元(以下也称为“酰氧基成分”)及具有两个以上的羧基的构成单元(以下也称为“多羧基成分”)。而且，酰氧基成分相对于乙烯基系共聚物中的所有构成单元的比例为13.4摩尔％以上且20.0摩尔％以下。

这里，“含氯的成分(即，具有氯的构成单元)”为具有氯原子且不具有酰氧基及两个以上的羧基的构成单元，也可具有其他取代基(例如，烷基等)。另外，“酰氧基成分(即，具有酰氧基的构成单元)”只要为具有酰氧基的构成单元即可，也可具有其他取代基(例如，烷基等)。另外，“多羧基成分(即，具有两个以上的羧基的构成单元)”为具有两个以上的羧基且不具有酰氧基的构成单元，也可具有其他取代基(例如，烷基等)。

若使用包括电子照相感光体的图像形成装置来进行图像形成，则有时产生前一图像形成循环的图像部在下一图像形成循环的图像中浓浓地浮出的正象重影，所述电子照相感光体在导电性基体上依序包括电荷产生层及电荷传输层。

推测所述正象重影是以如下方式产生。具体而言，首先，通过前一图像形成循环中的感光体表面的曝光而使电荷积蓄于电荷产生层内所存在的电荷捕集器中。其后，在下一图像形成循环中的感光体表面的带电后，自电荷捕集器释放电荷，所释放的电荷移动至感光体表面，由此感光体的表面电位局部降低。因此，认为局部降低的区域(即，前一图像形成循环的图像部)在下一图像形成循环的图像中浓浓地浮出。

另一方面，本实施方式中，电荷产生层含有乙烯基系共聚物(以下也称为“特定共聚物”)，所述乙烯基系共聚物包含含氯的成分、酰氧基成分及多羧基成分，且酰氧基成分的比例为13.4摩尔％以上且20.0摩尔％以下。而且，本实施方式中，通过电荷产生层所含有的乙烯基系共聚物为所述特定共聚物，可抑制正象重影。其理由并不明确，但推测为如下所述。

认为电荷产生层内的电荷捕集器是通过电荷产生层中所含有的电荷产生材料与粘结树脂之间的电性相互作用而生成。而且，认为：在将包含含氯的成分、酰氧基成分及多羧基成分的乙烯基系共聚物用作粘结树脂的情况下，酰氧基成分的比例对电荷捕集器的生成造成影响。具体而言，推测：通过酰氧基成分的比例为所述范围，电荷产生材料与乙烯基系共聚物的酰氧基成分及多羧基成分适当地相互作用，由此所生成的电荷捕集器的量变少。

若电荷产生层内所生成的电荷捕集器的量少，则在前一图像形成循环中，即便感光体表面经曝光，所积蓄的电荷量也少，在下一图像形成循环中的感光体表面的带电后，所释放的电荷量也变少。因此，也难以引起感光体的表面电位局部降低，可抑制前一图像形成循环的图像部在下一图像形成循环的图像中浓浓地浮出的正象重影。

根据以上所述，推测本实施方式的感光体可抑制由正象重影引起的图像缺陷的产生。

以下，参照附图对本实施方式的电子照相感光体进行说明。

图1是表示本实施方式的电子照相感光体7a的层构成的一例的概略部分剖面图。图1所示的电子照相感光体7a具有在导电性基体4上依序层叠有底涂层1、电荷产生层2及电荷传输层3的结构。而且，电荷产生层2及电荷传输层3构成感光层5。

再者，底涂层1为视需要而设置的层。即，电子照相感光体7a也可在导电性基体4上直接(即，不介隔底涂层1地)设置电荷产生层2。

另外，电子照相感光体7a视需要也可设置其他层。作为其他层，例如可列举进而设置于电荷传输层3上的保护层等。

以下，对本实施方式的电子照相感光体的各层进行详细说明。再者，省略符号来说明。

(导电性基体)

作为导电性基体，例如可列举包含金属(铝、铜、锌、铬、镍、钼、钒、铟、金、铂等)或合金(不锈钢等)的金属板、金属滚筒及金属带等。另外，作为导电性基体，例如也可列举将导电性化合物(例如，导电性聚合物、氧化铟等)、金属(例如，铝、钯、金等)或合金涂布、蒸镀或层压而成的纸、树脂膜、带等。这里，所谓“导电性”，是指体积电阻率小于10¹³ω·cm。

在将电子照相感光体用于激光打印机中的情况下，优选对导电性基体的表面进行粗糙化，使得其中心线平均粗糙度ra为0.04μm以上且0.5μm以下，以便抑制在照射激光光时所产生的干涉条纹。再者，在将非相干光用于光源中的情况下，并不特别需要用于防止干涉条纹的表面粗糙化，但其抑制由导电性基体的表面凹凸引起的缺陷的产生，因此适合更长寿命化。

作为表面粗糙化的方法，例如可列举：通过使研磨剂悬浮于水中并喷附于支撑体上而进行的湿式珩磨(honing)、将导电性基体压接于旋转的磨石并连续进行磨削加工的无心磨削、阳极氧化处理等。

作为表面粗糙化的方法，也可列举如下方法：不对导电性基体的表面进行粗糙化，而使导电性或半导电性粉体分散于树脂中，在导电性基体的表面上形成层，并利用分散于所述层中的粒子进行表面粗糙化。

利用阳极氧化进行的表面粗糙化处理是通过将金属制(例如，铝制)的导电性基体作为阳极并在电解质溶液中进行阳极氧化而在导电性基体的表面形成氧化膜。作为电解质溶液，例如可列举硫酸溶液、草酸溶液等。但是，通过阳极氧化而形成的多孔阳极氧化膜在维持原样的状态下有化学活性，且容易被污染，由环境引起的电阻变动也大。所以，优选对多孔阳极氧化膜进行封孔处理：在加压水蒸气或沸水中(也可添加镍等金属盐)，利用由水合反应引起的体积膨胀将氧化膜的微细孔堵塞，从而变为更稳定的水合氧化物。

阳极氧化膜的膜厚例如优选0.3μm以上且15μm以下。若所述膜厚处于所述范围内，则存在发挥相对于注入而言的阻隔性的倾向，而且，存在抑制因反复使用引起的残余电位上升的倾向。

也可对导电性基体实施利用酸性处理液的处理或勃姆石(boehmite)处理。

利用酸性处理液的处理例如以如下方式实施。首先，制备包含磷酸、铬酸及氢氟酸的酸性处理液。关于酸性处理液中的磷酸、铬酸及氢氟酸的调配比例，例如磷酸为10质量％以上且11质量％以下的范围、铬酸为3质量％以上且5质量％以下的范围、氢氟酸为0.5质量％以上且2质量％以下的范围，这些酸整体的浓度宜为13.5质量％以上且18质量％以下的范围。处理温度例如优选42℃以上且48℃以下。被膜的膜厚优选0.3μm以上且15μm以下。

关于勃姆石处理，例如是将所述导电性基体在90℃以上且100℃以下的纯水中浸渍5分钟至60分钟、或者使其与90℃以上且120℃以下的加热水蒸气接触5分钟至60分钟来进行。被膜的膜厚优选0.1μm以上且5μm以下。也可进一步对其使用己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐、柠檬酸盐等被膜溶解性低的电解质溶液进行阳极氧化处理。

(底涂层)

底涂层例如为包含无机粒子与粘结树脂的层。

作为无机粒子，例如可列举粉体电阻(体积电阻率)10²ω·cm以上且10¹¹ω·cm以下的无机粒子。

这些无机粒子中，作为具有所述电阻值的无机粒子，例如宜为氧化锡粒子、氧化钛粒子、氧化锌粒子、氧化锆粒子等金属氧化物粒子，尤其优选氧化锌粒子。

无机粒子的利用布厄特(brunauer-emmett-tellern，bet)法所得的比表面积例如宜为10m²/g以上。

无机粒子的体积平均粒径例如宜为50nm以上且2000nm以下(优选60nm以上且1000nm以下)。

无机粒子的含量例如相对于粘结树脂而优选10质量％以上且80质量％以下，更优选40质量％以上且80质量％以下。

无机粒子也可实施表面处理。关于无机粒子，也可将表面处理不同者或粒径不同者混合两种以上来使用。

作为表面处理剂，例如可列举：硅烷偶联剂、钛酸酯系偶联剂、铝系偶联剂、表面活性剂等。尤其优选硅烷偶联剂，更优选具有氨基的硅烷偶联剂。

作为具有氨基的硅烷偶联剂，例如可列举：3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷等，但并不限定于这些。

硅烷偶联剂也可混合两种以上来使用。例如也可将具有氨基的硅烷偶联剂与其他硅烷偶联剂并用。作为所述其他硅烷偶联剂，例如可列举：乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等，但并不限定于这些。

利用表面处理剂的表面处理方法只要为公知的方法，则可为任意方法，可为干式法或湿式法中的任一者。

表面处理剂的处理量例如相对于无机粒子而优选0.5质量％以上且10质量％以下。

这里，就提高电气特性的长期稳定性、载流子阻隔性的观点而言，宜为底涂层含有无机粒子及电子接受性化合物(受体化合物)。

作为电子接受性化合物，例如可列举：氯醌、溴醌等醌系化合物；四氰基醌二甲烷系化合物；2,4,7-三硝基芴酮、2,4,5,7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物；2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-萘基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-二乙基氨基苯基)-1,3,4-噁二唑等噁二唑系化合物；呫吨酮系化合物；噻吩化合物；3,3',5,5'-四-叔丁基联苯醌等联苯醌化合物；等电子传输性物质等。

尤其，作为电子接受性化合物，优选具有蒽醌结构的化合物。作为具有蒽醌结构的化合物，例如优选羟基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物、氨基羟基蒽醌化合物等，具体而言，例如优选蒽醌、茜素(alizarin)、醌茜(quinizarin)、蒽绛酚(anthrarufin)、红紫素(purpurin)等。

电子接受性化合物可与无机粒子一同分散并包含于底涂层中，或者也可在附着于无机粒子表面的状态下包含于底涂层中。

作为使电子接受性化合物附着于无机粒子表面的方法，例如可列举干式法或湿式法。

干式法例如为如下方法：一面利用剪切力大的搅拌机等搅拌无机粒子，一面直接滴加电子接受性化合物或滴加溶解于有机溶媒中的电子接受性化合物，并将其与干燥空气或氮气一同喷雾，从而将电子接受性化合物附着于无机粒子的表面。在电子接受性化合物的滴加或喷雾时，宜为在溶剂的沸点以下的温度下进行。也可在将电子接受性化合物滴加或喷雾后进一步在100℃以上进行焙烤。关于焙烤，只要为可获得电子照相特性的温度、时间，则无特别限制。

湿式法例如为如下方法：利用搅拌机、超声波、砂磨机、磨碎机(attritor)、球磨机等将无机粒子分散于溶剂中，并且添加电子接受性化合物，进行搅拌或分散后，将溶剂去除，从而将电子接受性化合物附着于无机粒子的表面。关于溶剂去除方法，例如通过过滤或蒸馏将溶剂蒸馏去除。在去除溶剂之后，也可进一步在100℃以上进行焙烤。关于焙烤，只要为可获得电子照相特性的温度、时间，则无特别限定。湿式法中，也可在添加电子接受性化合物之前将无机粒子所含的水分去除，其例子可列举：一面在溶剂中对无机粒子进行搅拌加热一面去除水分的方法、使无机粒子与溶剂共沸而去除水分的方法。

再者，电子接受性化合物的附着可在对无机粒子实施利用表面处理剂的表面处理之前或之后进行，也可使电子接受性化合物的附着和利用表面处理剂的表面处理同时进行。

电子接受性化合物的含量例如相对于无机粒子而宜为0.01质量％以上且20质量％以下，优选0.01质量％以上且10质量％以下。

作为用于底涂层的粘结树脂，例如可列举：缩醛树脂(例如，聚乙烯丁缩醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨基甲酸酯树脂、聚酯树脂、不饱和聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、脲树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等公知的高分子化合物；锆螯合化合物；钛螯合化合物；铝螯合化合物；钛醇盐化合物；有机钛化合物；硅烷偶联剂等公知的材料。

作为用于底涂层的粘结树脂，例如也可列举：具有电荷传输性基的电荷传输性树脂、导电性树脂(例如，聚苯胺等)等。

这些之中，作为用于底涂层的粘结树脂，适宜为不溶于上层的涂布溶剂的树脂，尤其适宜为脲树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等热固化性树脂；利用选自由聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯醇树脂及聚乙烯缩醛树脂所组成的群组中的至少一种树脂与固化剂的反应而获得的树脂。

在将这些粘结树脂的两种以上组合使用的情况下，视需要对其混合比例进行设定。

为了提升电气特性、提升环境稳定性、提升画质，也可在底涂层中包含各种添加剂。

作为添加剂，可列举：多环缩合系、偶氮系等电子传输性颜料、锆螯合化合物、钛螯合化合物、铝螯合化合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物、硅烷偶联剂等公知的材料。如上所述，硅烷偶联剂被用于无机粒子的表面处理，但也可作为添加剂进一步添加于底涂层中。

关于作为添加剂的硅烷偶联剂，例如可列举：乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等。

作为锆螯合化合物，例如可列举：锆丁醇盐、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺合锆、乙酰丙酮锆丁醇盐、乙酰乙酸乙酯锆丁醇盐、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸酯锆丁醇盐、硬脂酸酯锆丁醇盐、异硬脂酸酯锆丁醇盐等。

作为钛螯合化合物，例如可列举：钛酸四异丙基酯、钛酸四正丁基酯、钛酸丁基酯二聚体、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮钛、聚乙酰丙酮钛、亚辛基乙醇酸钛、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸乙酯钛、三乙醇胺合钛、多羟基硬脂酸钛等。

作为铝螯合化合物，例如可列举：异丙醇铝、单丁氧基二异丙醇铝、丁醇铝、二乙酰乙酸乙酯二异丙醇铝、三(乙酰乙酸乙酯)铝等。

这些添加剂可单独使用，或也可作为多种化合物的混合物或缩聚物来使用。

底涂层的维氏硬度宜为35以上。

为了抑制云纹(moire)像，宜将底涂层的表面粗糙度(十点平均粗糙度)调整为所使用的曝光用激光波长λ的1/(4n)(n为上层的折射率)至1/2。

为了调整表面粗糙度，也可在底涂层中添加树脂粒子等。作为树脂粒子，可列举硅酮树脂粒子、交联型聚甲基丙烯酸甲酯树脂粒子等。另外，为了调整表面粗糙度，也可对底涂层的表面进行研磨。作为研磨方法，可列举：软皮(buff)研磨、喷砂处理、湿式珩磨、磨削处理等。

底涂层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分添加至溶剂中所得的底涂层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。

作为用于制备底涂层形成用涂布液的溶剂，可列举公知的有机溶剂，例如：醇系溶剂、芳香族烃溶剂、卤化烃溶剂、酮系溶剂、酮醇系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂等。

具体而言，这些溶剂例如可列举：甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等通常的有机溶剂。

作为制备底涂层形成用涂布液时的无机粒子的分散方法，例如可列举：辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨机、油漆搅拌器等公知的方法。

作为将底涂层形成用涂布液涂布于导电性基体上的方法，例如可列举：刮板涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、浸渍涂布法、液滴涂布(beadcoating)法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

底涂层的膜厚例如设定于优选15μm以上、更优选20μm以上且50μm以下的范围内。

(中间层)

图示虽省略，但也可在底涂层和感光层之间进一步设置中间层。

中间层例如为包含树脂的层。作为用于中间层的树脂，例如可列举：缩醛树脂(例如，聚乙烯丁缩醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨基甲酸酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂等高分子化合物。

中间层也可为包含有机金属化合物的层。作为用于中间层的有机金属化合物，可列举含有锆、钛、铝、锰、硅等金属原子的有机金属化合物等。

这些用于中间层的化合物可单独使用，或也可作为多种化合物的混合物或缩聚物来使用。

这些之中，中间层优选包含含有锆原子或硅原子的有机金属化合物的层。

中间层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分添加至溶剂中所得的中间层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。

作为形成中间层的涂布方法，可使用浸渍涂布法、上推涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、刮板涂布法、刮刀涂布(knifecoating)法、幕式涂布法等通常方法。

中间层的膜厚例如优选设定于0.1μm以上且3μm以下的范围内。再者，也可将中间层用作底涂层。

(电荷产生层)

电荷产生层为包含电荷产生材料与作为粘结树脂的特定共聚物的层，视需要也可包含其他成分。

-电荷产生材料-

作为电荷产生材料，可列举：双偶氮、三偶氮等偶氮颜料；二溴蒽嵌蒽醌等稠环芳香族颜料；苝颜料；吡咯并吡咯颜料；酞菁颜料；氧化锌；三方晶系硒等。

这些之中，作为电荷产生材料，优选电荷产生能力高的“酞菁颜料”。作为酞菁颜料，可列举金属酞菁颜料、无金属酞菁颜料。具体而言，例如，作为酞菁颜料，可列举：羟基镓酞菁颜料；氯镓酞菁颜料；二氯锡酞菁颜料；氧钛酞菁颜料等。

而且，这些之中，作为酞菁颜料，就电荷产生能力的方面而言，优选选自羟基镓酞菁颜料及氯镓酞菁颜料中的至少一种，更优选羟基镓酞菁颜料。

再者，电荷产生材料中，尤其在使用电荷产生能力高的酞菁系颜料(其中，尤其是电荷产生能力高的氯镓酞菁及羟基镓酞菁的至少一种)的情况下，电荷产生能力高，因而若在电荷产生层中存在电荷捕集器，则所积蓄的电荷量也变多，容易产生正象重影。然而，本实施方式中，如上所述，通过将特定共聚物用作粘结树脂，所生成的电荷捕集器的量变少。因此，推测：作为电荷产生材料，即便使用酞菁系颜料，也可抑制正象重影，另外，其中，即便尤其使用氯镓酞菁及羟基镓酞菁的至少一种，也可抑制正象重影。

羟基镓酞菁颜料中，优选v型的羟基镓酞菁颜料。

尤其，作为羟基镓酞菁颜料，就可获得更优异的分散性的观点而言，例如优选在600nm以上且900nm以下的波长域下的分光吸收光谱中，在810nm以上且839nm以下的范围内具有最大峰值波长的羟基镓酞菁颜料。

另外，所述在810nm以上且839nm以下的范围内具有最大峰值波长的羟基镓酞菁颜料优选平均粒径为特定的范围，且bet比表面积为特定的范围。具体而言，平均粒径优选0.20μm以下，更优选0.01μm以上且0.15μm以下。另一方面，bet比表面积优选45m²/g以上，更优选50m²/g以上，尤其优选55m²/g以上且120m²/g以下。平均粒径是以体积平均粒径(d50平均粒径)计，利用激光衍射散射式粒度分布测定装置(la-700，堀场制作所公司制造)测定而得的值。另外，bet比表面积是使用bet式比表面积测定器(岛津制作所制造：弗洛索部(flowsorb)ii2300)并利用氮气置换法测定而得的值。

羟基镓酞菁颜料的最大粒径(一次粒子径的最大值)优选为1.2μm以下，更优选为1.0μm以下，进而优选为0.3μm以下。

羟基镓酞菁颜料优选平均粒径为0.2μm以下、最大粒径为1.2μm以下且比表面积值为45m²/g以上。

羟基镓酞菁颜料优选在使用cukα特性x射线的x射线衍射光谱中，在布拉格角度(2θ±0.2°)至少为7.3°、16.0°、24.9°、28.0°处具有衍射峰值的v型。

电荷产生材料可单独使用一种，也可并用两种以上。

作为电荷产生材料相对于电荷产生层整体的含量，例如可列举30体积％以上且80体积％以下，就抑制正象重影的观点而言，优选40体积％以上且70体积％以下，更优选50体积％以上且60体积％以下。

-特定共聚物-

特定共聚物为乙烯基系共聚物，所述乙烯基系共聚物包含含氯的成分、酰氧基成分及多羧基成分，相对于所有构成单元，酰氧基成分的比例为13.4摩尔％以上且20.0摩尔％以下。

特定共聚物至少包含含氯的成分、酰氧基成分及多羧基成分，也可包含其他构成单元(例如，源自二醇的构成单元等)。其中，相对于所有构成单元，其他构成单元的比例优选5摩尔％以下，更优选3摩尔％以下，进而优选1摩尔％以下，尤其优选不含其他构成单元。即，特定共聚物尤其优选包含含氯的成分、酰氧基成分及多羧基成分的共聚物。

就抑制正象重影的观点而言，相对于所有构成单元，特定共聚物中的酰氧基成分的比例优选13.4摩尔％以上且18.0摩尔％以下，更优选14摩尔％以上且17摩尔％以下。

再者，各构成单元相对于所有构成单元的比例是以如下方式求出。具体而言，可通过核磁共振(nuclearmagneticresonance，nmr)来分析特定共聚物，并通过测定氯成分、羧基成分的含量而求出。

就抑制正象重影的观点而言，相对于酰氧基成分，特定共聚物中的多羧基成分的比例优选4.0摩尔％以上且7.0摩尔％以下，更优选4.5摩尔％以上且6.5摩尔％以下，进而优选5.0摩尔％以上且6.0摩尔％以下。

通过多羧基成分相对于酰氧基成分的比例为所述范围，与大于所述范围的情况及小于所述范围的情况相比，可进一步抑制由正象重影引起的图像缺陷的产生。其理由并不明确，但推测原因在于：通过多羧基成分相对于酰氧基成分的比例为所述范围，电荷产生材料与乙烯基系共聚物适当地相互作用，由此难以生成电荷捕集器。

再者，作为特定共聚物中的多羧基成分的比例，相对于所有构成单元，例如可列举0.5摩尔％以上且1.4摩尔％以下，优选0.6摩尔％以上且1.1摩尔％以下。

--含氯的成分--

如上所述，含氯的成分为具有氯原子且不具有酰氧基及两个以上的羧基的构成单元。

特定共聚物可仅包含一种含氯的成分，也可包含两种以上。

作为含氯的成分所具有的氯原子的数量，例如可列举1以上且5以下，优选1以上且3以下，更优选1以上且2以下，进而优选1。另外，含氯的成分优选氯原子直接键结于直链。

作为含氯的成分可具有的其他取代基，例如可列举：烷基、烷氧基、氯以外的卤素原子等。

含氯的成分优选源自氯乙烯或氯乙烯衍生物的构成单元。

另外，含氯的成分优选下述通式(1)所表示的构成单元。

通式(1)中，r¹¹～r¹³分别独立地表示氢原子或碳数1以上且5以下的烷基。

通式(1)中的r¹¹～r¹³分别独立地优选氢原子或碳数1以上且5以下的烷基，更优选氢原子或甲基，进而优选氢原子。

通式(1)中的r¹¹～r¹³可相互不同，也可为相同的基。

其中，含氯的成分优选由通式(1)表示且通式(1)中的r¹¹～r¹³均为氢原子的构成单元。

--酰氧基成分--

如上所述，酰氧基成分为具有酰氧基的构成单元。

特定共聚物可仅包含一种酰氧基成分，也可包含两种以上。

作为酰氧基成分所具有的酰氧基的数量，例如可列举1以上且2以下，更优选一个。另外，酰氧基成分优选酰氧基直接键结于直链。

作为酰氧基成分可具有的其他取代基，例如可列举：烷基、烷氧基、卤素原子等。

酰氧基成分优选源自乙酸乙烯酯或乙酸乙烯酯衍生物的构成单元。

另外，酰氧基成分优选下述通式(2)所表示的构成单元。

通式(2)中，r²¹～r²³分别独立地表示氢原子或碳数1以上且5以下的烷基，r²⁴表示碳数1以上且5以下的烷基。

通式(2)中的r²¹～r²³分别独立地优选氢原子或碳数1以上且5以下的烷基，更优选氢原子或甲基，进而优选氢原子。

通式(2)中的r²¹～r²³可相互不同，也可为相同的基。其中，优选通式(2)中的r²¹～r²³均为氢原子。

通式(2)中的r²⁴优选碳数1以上且5以下的烷基，更优选甲基或乙基，进而优选甲基。

其中，酰氧基成分优选由通式(2)表示且通式(2)中的r²¹～r²³均为氢原子、并且通式(2)中的r²⁴为甲基的构成单元。

--多羧基成分--

如上所述，多羧基成分为具有两个以上的羧基且不具有酰氧基的构成单元。

特定共聚物可仅包含一种多羧基成分，也可包含两种以上。

作为多羧基成分所具有的羧基的数量，例如可列举2以上且4以下，优选2以上且3以下，更优选2。另外，多羧基成分优选两个以上的羧基直接键结于直链。

作为多羧基成分可具有的其他取代基，例如可列举：烷基、烷氧基、卤素原子等。

多羧基成分优选源自不饱和二羧酸或不饱和二羧酸酐的构成单元。作为不饱和二羧酸，例如可列举：马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、2-戊烯二酸、亚甲基琥珀酸、2-烯丙基丙二酸、异亚丙基琥珀酸等。

另外，多羧基成分优选下述通式(3)所表示的构成单元。

通式(3)中，r³¹～r³²分别独立地表示氢原子或碳数1以上且5以下的烷基。

通式(3)中的r³¹～r³²分别独立地优选氢原子或碳数1以上且5以下的烷基，更优选氢原子或甲基，进而优选氢原子。

通式(3)中的r³¹～r³²可相互不同，也可为相同的基。

其中，多羧基成分优选由通式(3)表示且通式(3)中的r³¹～r³²均为氢原子的构成单元。

特定共聚物优选包含通式(1)所表示的构成单元、通式(2)所表示的构成单元及通式(3)所表示的构成单元的共聚物。

另外，特定共聚物更优选包含由通式(1)表示且通式(1)中的r¹¹～r¹³均为氢原子的构成单元；由通式(2)表示且通式(2)中的r²¹～r²³均为氢原子、并且通式(2)中的r²⁴为甲基的构成单元；及由通式(3)表示且通式(3)中的r³¹～r³²均为氢原子的构成单元的共聚物。

特定共聚物的制造方法并无特别限定，例如可列举：通过悬浮聚合法等使与各构成单元对应的单体聚合的方法。

电荷产生层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分添加至溶剂中所得的电荷产生层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。

作为用于制备电荷产生层形成用涂布液的溶剂，可列举：甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等。这些溶剂单独使用一种或混合使用两种以上。

作为使粒子(例如，电荷产生材料)分散于电荷产生层形成用涂布液中的方法，例如利用球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、卧式砂磨机等介质分散机；或搅拌机、超声波分散机、辊磨机、高压均质机等无介质分散机。作为高压均质机，例如可列举：在高压状态下使分散液进行液-液碰撞或液-壁碰撞并分散的碰撞方式、或在高压状态下使分散液贯穿微细流路并分散的贯穿方式等。

再者，当进行所述分散时，有效的是将电荷产生层形成用涂布液中的电荷产生材料的平均粒径设为0.5μm以下、优选0.3μm以下、进而优选0.15μm以下。

作为将电荷产生层形成用涂布液涂布于底涂层上(或中间层上)的方法，例如可列举：刮板涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、浸渍涂布法、液滴涂布法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

电荷产生层的膜厚例如设定于优选0.05μm以上且5.0μm以下、更优选0.1μm以上且2.0μm以下、进而优选0.1μm以上且1.0μm以下、尤其优选0.1μm以上且0.5μm以下的范围内。

(电荷传输层)

电荷传输层例如为包含电荷传输材料与粘结树脂的层。电荷传输层也可为包含高分子电荷传输材料的层。

作为电荷传输材料，可列举：对苯醌、氯醌、溴醌、蒽醌等醌系化合物；四氰基醌二甲烷系化合物；2,4,7-三硝基芴酮等芴酮化合物；呫吨酮系化合物；二苯甲酮系化合物；氰基乙烯基系化合物；乙烯系化合物等电子传输性化合物。作为电荷传输材料，也可列举：三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物、芳基烷烃系化合物、芳基取代乙烯系化合物、二苯乙烯系化合物、蒽系化合物、腙系化合物等空穴传输性化合物。这些电荷传输材料可单独使用一种或使用两种以上，但并不限定于这些。

作为电荷传输材料，就电荷迁移率的观点而言，优选下述通式(a-1)所表示的三芳基胺系电荷传输材料(以下也称为“三芳基胺系电荷传输材料(a-1)”)、作为三芳基胺系电荷传输材料的一例的下述通式(ct1)所表示的电荷传输材料(以下也称为“丁二烯系电荷传输材料(ct1)”)及下述通式(ct2)所表示的电荷传输材料(以下也称为“联苯胺系电荷传输材料(ct2)”)。

另外，作为电荷传输材料，也可并用丁二烯系电荷传输材料(ct1)与联苯胺系电荷传输材料(ct2)。

对三芳基胺系电荷传输材料(a-1)进行说明。

三芳基胺系电荷传输材料(a-1)为下述通式(a-1)所表示的电荷传输材料。

通式(a-1)中，ar^t1、ar^t2及ar^t3分别独立地表示经取代或未经取代的芳基、-c6h4-c(r^t4)＝c(r^t5)(r^t6)、或-c6h4-ch＝ch-ch＝c(r^t7)(r^t8)。r^t4、r^t5、r^t6、r^t7及r^t8分别独立地表示氢原子、经取代或未经取代的烷基、或者经取代或未经取代的芳基。

作为所述各基的取代基，可列举：卤素原子、碳数1以上且5以下的烷基、碳数1以上且5以下的烷氧基。另外，作为所述各基的取代基，也可列举经碳数1以上且3以下的烷基取代而成的取代氨基。

对丁二烯系电荷传输材料(ct1)进行说明。

丁二烯系电荷传输材料(ct1)为下述通式(ct1)所表示的电荷传输材料。

通式(ct1)中，r^c11、r^c12、r^c13、r^c14、r^c15及r^c16分别独立地表示氢原子、卤素原子、碳数1以上且20以下的烷基、碳数1以上且20以下的烷氧基或碳数6以上且30以下的芳基，邻接的两个取代基彼此可键结而形成烃环结构。

n及m分别独立地表示0、1或2。

在通式(ct1)中，作为r^c11、r^c12、r^c13、r^c14、r^c15及r^c16所表示的卤素原子，可列举：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。这些之中，作为卤素原子，优选氟原子、氯原子，更优选氯原子。

在通式(ct1)中，作为r^c11、r^c12、r^c13、r^c14、r^c15及r^c16所表示的烷基，可列举碳数1以上且20以下(优选1以上且6以下、更优选1以上且4以下)的直链状或分支状的烷基。

作为直链状的烷基，具体而言，可列举：甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基、正二十烷基等。

作为分支状的烷基，具体而言，可列举：异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、叔戊基、异己基、仲己基、叔己基、异庚基、仲庚基、叔庚基、异辛基、仲辛基、叔辛基、异壬基、仲壬基、叔壬基、异癸基、仲癸基、叔癸基、异十一烷基、仲十一烷基、叔十一烷基、新十一烷基、异十二烷基、仲十二烷基、叔十二烷基、新十二烷基、异十三烷基、仲十三烷基、叔十三烷基、新十三烷基、异十四烷基、仲十四烷基、叔十四烷基、新十四烷基、1-异丁基-4-乙基辛基、异十五烷基、仲十五烷基、叔十五烷基、新十五烷基、异十六烷基、仲十六烷基、叔十六烷基、新十六烷基、1-甲基十五烷基、异十七烷基、仲十七烷基、叔十七烷基、新十七烷基、异十八烷基、仲十八烷基、叔十八烷基、新十八烷基、异十九烷基、仲十九烷基、叔十九烷基、新十九烷基、1-甲基辛基、异二十烷基、仲二十烷基、叔二十烷基、新二十烷基等。

这些之中，作为烷基，优选甲基、乙基、异丙基等低级烷基。

在通式(ct1)中，作为r^c11、r^c12、r^c13、r^c14、r^c15及r^c16所表示的烷氧基，可列举碳数1以上且20以下(优选1以上且6以下、更优选1以上且4以下)的直链状或分支状的烷氧基。

作为直链状的烷氧基，具体而言，可列举：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正己氧基、正庚氧基、正辛氧基、正壬氧基、正癸氧基、正十一烷氧基、正十二烷氧基、正十三烷氧基、正十四烷氧基、正十五烷氧基、正十六烷氧基、正十七烷氧基、正十八烷氧基、正十九烷氧基、正二十烷氧基等。

作为分支状的烷氧基，具体而言，可列举：异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、异己氧基、仲己氧基、叔己氧基、异庚氧基、仲庚氧基、叔庚氧基、异辛氧基、仲辛氧基、叔辛氧基、异壬氧基、仲壬氧基、叔壬氧基、异癸氧基、仲癸氧基、叔癸氧基、异十一烷氧基、仲十一烷氧基、叔十一烷氧基、新十一烷氧基、异十二烷氧基、仲十二烷氧基、叔十二烷氧基、新十二烷氧基、异十三烷氧基、仲十三烷氧基、叔十三烷氧基、新十三烷氧基、异十四烷氧基、仲十四烷氧基、叔十四烷氧基、新十四烷氧基、1-异丁基-4-乙基辛氧基、异十五烷氧基、仲十五烷氧基、叔十五烷氧基、新十五烷氧基、异十六烷氧基、仲十六烷氧基、叔十六烷氧基、新十六烷氧基、1-甲基十五烷氧基、异十七烷氧基、仲十七烷氧基、叔十七烷氧基、新十七烷氧基、异十八烷氧基、仲十八烷氧基、叔十八烷氧基、新十八烷氧基、异十九烷氧基、仲十九烷氧基、叔十九烷氧基、新十九烷氧基、1-甲基辛氧基、异二十烷氧基、仲二十烷氧基、叔二十烷氧基、新二十烷氧基等。

这些之中，作为烷氧基，优选甲氧基。

在通式(ct1)中，作为r^c11、r^c12、r^c13、r^c14、r^c15及r^c16所表示的芳基，可列举碳数6以上且30以下(优选6以上且20以下、更优选6以上且16以下)的芳基。

作为芳基，具体而言，可列举：苯基、萘基、菲基、联苯基等。

这些之中，作为芳基，优选苯基、萘基。

再者，在通式(ct1)中，r^c11、r^c12、r^c13、r^c14、r^c15及r^c16所表示的所述各取代基也进而包含具有取代基的基。作为所述取代基，可列举所述例示的原子及基(例如，卤素原子、烷基、烷氧基、芳基等)。

在通式(ct1)中，作为连结r^c11、r^c12、r^c13、r^c14、r^c15及r^c16的邻接的两个取代基彼此(例如，r^c11及r^c12彼此、r^c13及r^c14彼此、r^c15及r^c16彼此)而成的烃环结构中的连结所述取代基彼此的基，可列举单键、2,2'-亚甲基、2,2'-亚乙基、2,2'-亚乙烯基等，这些之中，优选单键、2,2'-亚甲基。

这里，作为烃环结构，具体而言，可列举：环烷结构、环烯结构、环烷聚烯结构等。

在通式(ct1)中，n及m优选1。

在通式(ct1)中，就形成电荷传输能力高的感光层(电荷传输层)的方面而言，优选：r^c11、r^c12、r^c13、r^c14、r^c15及r^c16表示氢原子、碳数1以上且20以下的烷基或碳数1以上且20以下的烷氧基，m及n表示1或2，更优选：r^c11、r^c12、r^c13、r^c14、r^c15及r^c16表示氢原子，m及n表示1。

即，丁二烯系电荷传输材料(ct1)更优选下述结构式(ct1a)所表示的电荷传输材料(例示化合物(ct1-3))。

以下表1示出丁二烯系电荷传输材料(ct1)的具体例，但并不限定于此。

表1

再者，所述例示化合物中的简略记号表示以下的含义。另外，标注于取代基之前的编号表示相对于苯环的取代位置。

·ch3：甲基

·och3：甲氧基

丁二烯系电荷传输材料(ct1)可单独使用一种，也可并用两种以上。

对联苯胺系电荷传输材料(ct2)进行说明。

联苯胺系电荷传输材料(ct2)为下述通式(ct2)所表示的电荷传输材料。

通式(ct2)中，r^c21、r^c22及r^c23分别独立地表示氢原子、卤素原子、碳数1以上且10以下的烷基、碳数1以上且10以下的烷氧基或碳数6以上且10以下的芳基。

在通式(ct2)中，作为r^c21、r^c22及r^c23所表示的卤素原子，可列举：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。这些之中，作为卤素原子，优选氟原子、氯原子，更优选氯原子。

在通式(ct2)中，作为r^c21、r^c22及r^c23所表示的烷基，可列举碳数1以上且10以下(优选1以上且6以下、更优选1以上且4以下)的直链状或分支状的烷基。

作为直链状的烷基，具体而言，可列举：甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基等。

作为分支状的烷基，具体而言，可列举：异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、叔戊基、异己基、仲己基、叔己基、异庚基、仲庚基、叔庚基、异辛基、仲辛基、叔辛基、异壬基、仲壬基、叔壬基、异癸基、仲癸基、叔癸基等。

这些之中，作为烷基，优选甲基、乙基、异丙基等低级烷基。

在通式(ct2)中，作为r^c21、r^c22及r^c23所表示的烷氧基，可列举碳数1以上且10以下(优选1以上且6以下、更优选1以上且4以下)的直链状或分支状的烷氧基。

作为直链状的烷氧基，具体而言，可列举：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正己氧基、正庚氧基、正辛氧基、正壬氧基、正癸氧基等。

作为分支状的烷氧基，具体而言，可列举：异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、异己氧基、仲己氧基、叔己氧基、异庚氧基、仲庚氧基、叔庚氧基、异辛氧基、仲辛氧基、叔辛氧基、异壬氧基、仲壬氧基、叔壬氧基、异癸氧基、仲癸氧基、叔癸氧基等。

这些之中，作为烷氧基，优选甲氧基。

在通式(ct2)中，作为r^c21、r^c22及r^c23所表示的芳基，可列举碳数6以上且10以下(优选6以上且9以下、更优选6以上且8以下)的芳基。

作为芳基，具体而言，可列举苯基、萘基等。

这些之中，作为芳基，优选苯基。

再者，在通式(ct2)中，r^c21、r^c22及r^c23所表示的所述各取代基也进而包含具有取代基的基。作为所述取代基，可列举所述例示的原子及基(例如，卤素原子、烷基、烷氧基、芳基等)。

在通式(ct2)中，就形成电荷传输能力高的感光层(电荷传输层)的方面而言，优选：r^c21、r^c22及r^c23分别独立地表示氢原子或碳数1以上且10以下的烷基，更优选：r^c21及r^c23表示氢原子，r^c22表示碳数1以上且10以下的烷基(尤其是甲基)。

具体而言，联苯胺系电荷传输材料(ct2)尤其优选下述结构式(ct2a)所表示的电荷传输材料(例示化合物(ct2-2))。

以下表2示出联苯胺系电荷传输材料(ct2)的具体例，但并不限定于此。

表2

再者，所述例示化合物中的简略记号表示以下的含义。另外，标注于取代基之前的编号表示相对于苯环的取代位置。

·ch3：甲基

·c2h5：乙基

·och3：甲氧基

·oc2h5：乙氧基

联苯胺系电荷传输材料(ct2)可单独使用一种，也可并用两种以上。

作为高分子电荷传输材料，可使用聚-n-乙烯基咔唑、聚硅烷等具有电荷传输性的公知者。尤其优选聚酯系的高分子电荷传输材料。再者，高分子电荷传输材料可单独使用，但也可与粘结树脂并用。

用于电荷传输层的粘结树脂可列举：聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、硅酮树脂、硅酮醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-n-乙烯基咔唑、聚硅烷等。这些之中，作为粘结树脂，适宜为聚碳酸酯树脂或聚芳酯树脂。这些粘结树脂单独使用一种或使用两种以上。

再者，电荷传输材料与粘结树脂的调配比以质量比计优选10：1至1：5。

此外，在电荷传输层中也可包含众所周知的添加剂。

电荷传输层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分添加至溶剂中所得的电荷传输层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。

作为用于制备电荷传输层形成用涂布液的溶剂，可列举：苯、甲苯、二甲苯、氯苯等芳香族烃类；丙酮、2-丁酮等酮类；二氯甲烷、氯仿、二氯乙烷等卤化脂肪族烃类；四氢呋喃、乙醚等环状或直链状的醚类等通常的有机溶剂。这些溶剂单独使用或混合使用两种以上。

作为将电荷传输层形成用涂布液涂布于电荷产生层上时的涂布方法，可列举：刮板涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、浸渍涂布法、液滴涂布法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

电荷传输层的膜厚例如设定于优选5μm以上且50μm以下、更优选10μm以上且45μm以下、进而优选20μm以上且42μm以下的范围内。

(保护层)

保护层视需要而设置于感光层上。保护层例如是出于防止带电时的感光层的化学变化或进一步改善感光层的机械强度的目的而设置。

因此，保护层可应用包含硬化膜(交联膜)的层。作为这些层，例如可列举下述1)或2)所示的层。

1)包含含有在相同的分子内具有反应性基及电荷传输性骨架的含反应性基的电荷传输材料的组成物的硬化膜的层(即，包含所述含反应性基的电荷传输材料的聚合体或交联体的层)

2)包含含有非反应性的电荷传输材料、与不具有电荷传输性骨架而具有反应性基的含反应性基的非电荷传输材料的组成物的硬化膜的层(即，包含非反应性的电荷传输材料、与所述含反应性基的非电荷传输材料的聚合体或交联体的层)

作为含反应性基的电荷传输材料的反应性基，可列举：链聚合性基、环氧基、-oh、-or[其中，r表示烷基]、-nh2、-sh、-cooh、-sir^q13-qn(or^q2)qn[其中，r^q1表示氢原子、烷基或者取代或未经取代的芳基，r^q2表示氢原子、烷基、三烷基硅烷基；qn表示1～3的整数]等众所周知的反应性基。

作为链聚合性基，只要为可进行自由基聚合的官能基，则并无特别限定，例如为至少具有含有碳双键的基的官能基。具体而言，可列举含有选自乙烯基、乙烯基醚基、乙烯基硫醚基、乙烯基苯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及这些的衍生物中的至少一个的基等。其中，就其反应性优异的方面而言，作为链聚合性基，优选含有选自乙烯基、乙烯基苯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及这些的衍生物中的至少一个的基。

作为含反应性基的电荷传输材料的电荷传输性骨架，只要为电子照相感光体中的公知的结构，则并无特别限定，例如可列举源自三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物、腙系化合物等含氮的空穴传输性化合物的骨架且为与氮原子共轭的结构。这些之中，优选三芳基胺骨架。

这些具有反应性基及电荷传输性骨架的含反应性基的电荷传输材料、非反应性的电荷传输材料、含反应性基的非电荷传输材料可自众所周知的材料中选择。

此外，在保护层中也可包含众所周知的添加剂。

保护层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分添加至溶剂中所得的保护层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热等硬化处理。

作为用于制备保护层形成用涂布液的溶剂，可列举：甲苯、二甲苯等芳香族系溶剂；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；四氢呋喃、二噁烷等醚系溶剂；乙二醇单甲醚等溶纤剂系溶剂；异丙醇、丁醇等醇系溶剂等。这些溶剂可单独使用或混合使用两种以上。

再者，保护层形成用涂布液也可为无溶剂的涂布液。

作为将保护层形成用涂布液涂布于感光层(例如，电荷传输层)上的方法，可列举：浸渍涂布法、上推涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、刮板涂布法、刮刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

保护层的膜厚例如设定于优选1μm以上且20μm以下、更优选2μm以上且10μm以下的范围内。

[图像形成装置(及处理盒)]

本实施方式的图像形成装置包括：电子照相感光体；带电机构，使电子照相感光体的表面带电；静电潜像形成机构，在经带电的电子照相感光体的表面形成静电潜像；显影机构，利用包含色粉的显影剂，对形成于电子照相感光体的表面的静电潜像进行显影而形成色粉图像；及转印机构，将色粉图像转印至记录介质的表面。而且，作为电子照相感光体，可应用所述本实施方式的电子照相感光体。

本实施方式的图像形成装置可应用如下等众所周知的图像形成装置：包括定影机构的装置，所述定影机构将转印至记录介质的表面的色粉图像加以定影；将形成于电子照相感光体的表面的色粉图像直接转印至记录介质的直接转印方式的装置；将形成于电子照相感光体的表面的色粉图像一次转印至中间转印体的表面，并将转移至中间转印体的表面的色粉图像二次转印至记录介质的表面的中间转印方式的装置；包括清洁机构的装置，所述清洁机构在色粉图像的转印后，对带电前的电子照相感光体的表面进行清洁；包括除电机构的装置，所述除电机构在色粉图像的转印后且带电前，对电子照相感光体的表面照射除电光而进行除电；包括电子照相感光体加热构件的装置，所述电子照相感光体加热构件用于使电子照相感光体的温度上升并减低相对温度。

在中间转印方式的装置的情况下，转印机构例如可应用如下构成，所述构成包括：中间转印体，表面供色粉图像转印；一次转印机构，将形成于电子照相感光体的表面的色粉图像一次转印至中间转印体的表面；及二次转印机构，将转印至中间转印体的表面的色粉图像二次转印至记录介质的表面。

本实施方式的图像形成装置可为干式显影方式的图像形成装置、湿式显影方式(利用液体显影剂的显影方式)的图像形成装置的任一者。

再者，在本实施方式的图像形成装置中，例如，包括电子照相感光体的部分可为可相对于图像形成装置进行拆装的盒(cartridge)结构(处理盒)。作为处理盒，例如可适宜地使用包括本实施方式的电子照相感光体的处理盒。再者，除电子照相感光体以外，在处理盒中也可包括例如选自由带电机构、静电潜像形成机构、显影机构、转印机构所组成的群组中的至少一个。

以下示出本实施方式的图像形成装置的一例，但并不限定于此。再者，对图中所示的主要部分进行说明，其他部分省略其说明。

图2是表示本实施方式的图像形成装置的一例的概略构成图。

如图2所示，本实施方式的图像形成装置100包括具备电子照相感光体7的处理盒300、曝光装置9(静电潜像形成机构的一例)、转印装置40(一次转印装置)及中间转印体50。再者，在图像形成装置100中，曝光装置9配置于可自处理盒300的开口部对电子照相感光体7进行曝光的位置，转印装置40介隔中间转印体50而配置于与电子照相感光体7相对向的位置，中间转印体50是以其一部分与电子照相感光体7接触的方式配置。虽未图示，但也具有将转印至中间转印体50的色粉图像转印至记录介质(例如，纸张)的二次转印装置。再者，中间转印体50、转印装置40(一次转印装置)及二次转印装置(未图示)相当于转印机构的一例。

图2中的处理盒300在壳体内一体地支撑着电子照相感光体7、带电装置8(带电机构的一例)、显影装置11(显影机构的一例)及清洁装置13(清洁机构的一例)。清洁装置13具有清洁刮板(清洁构件的一例)131，清洁刮板131以与电子照相感光体7的表面接触的方式配置。再者，清洁构件并非清洁刮板131的形态，也可为导电性或绝缘性的纤维状构件，可单独使用纤维状构件，或也可与清洁刮板131并用。

再者，图2中，作为图像形成装置，示出有包括将润滑剂14供给至电子照相感光体7的表面的纤维状构件132(辊状)及辅助清洁的纤维状构件133(平刷状)的例子，这些可视需要而配置。

以下，对本实施方式的图像形成装置的各构成进行说明。

-带电装置-

作为带电装置8，例如可利用使用导电性或半导电性的带电辊、带电刷、带电膜、带电橡胶刮板、带电管等的接触型带电器。另外，也可使用非接触方式的辊带电器、利用电晕放电的有栅格电极式(scorotron)带电器或无栅格电极式(corotron)带电器等其自身公知的带电器等。

-曝光装置-

作为曝光装置9，例如可列举将半导体激光光、发光二极管(lightemittingdiode，led)光、液晶快门光等光如所规定的像那样对电子照相感光体7表面进行曝光的光学系统设备等。光源的波长设为电子照相感光体的分光感度区域内。作为半导体激光的波长，主流是在780nm附近具有振荡波长的近红外。但是，并不限定于所述波长，也可利用600nm左右的振荡波长激光或作为蓝色激光的在400nm以上且450nm以下具有振荡波长的激光。另外，为了形成彩色图像，可输出多波束的类型的面发光型的激光光源也有效。

-显影装置-

作为显影装置11，例如可列举使显影剂接触或非接触来进行显影的通常的显影装置。作为显影装置11，只要具有所述功能，则并无特别限制，可根据目的来选择。例如可列举具有如下功能的公知的显影器等：使用刷、辊等而使单组分系显影剂或双组分系显影剂附着于电子照相感光体7。其中，优选使用将显影剂保持于表面的显影辊者。

用于显影装置11中的显影剂可为单独色粉的单组分系显影剂，也可为包含色粉与载体的双组分系显影剂。另外，显影剂可为磁性，也可为非磁性。这些显影剂可应用众所周知者。

-清洁装置-

清洁装置13可使用包括清洁刮板131的清洁刮板方式的装置。

再者，除清洁刮板方式以外，也可采用毛刷清洁方式、显影同时清洁方式。

-转印装置-

作为转印装置40，例如可列举：使用带、辊、膜、橡胶刮板等的接触型转印带电器、利用电晕放电的有栅格电极式转印带电器或无栅格电极式转印带电器等其自身公知的转印带电器。

-中间转印体-

作为中间转印体50，可使用包含赋予有半导电性的聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、橡胶等的带状者(中间转印带)。另外，作为中间转印体的形态，除带状以外，也可使用滚筒状者。

图3是表示本实施方式的图像形成装置的另一例的概略构成图。

图3所示的图像形成装置120为搭载有四个处理盒300的串联(tandem)方式的多色图像形成装置。图像形成装置120成为如下构成：四个处理盒300分别并列配置于中间转印体50上，且针对一种颜色，使用一个电子照相感光体。再者，除为串联方式以外，图像形成装置120具有与图像形成装置100相同的构成。

[实施例]

以下，通过实施例来对本实施方式进行详细说明，但本实施方式丝毫不限定于这些实施例。再者，在以下的说明中，只要无特别说明，则“份”及“％”全部为质量基准。

＜实施例1＞

将100质量份的氧化锌(商品名：mz300，帝化(tayca)股份有限公司制造)、10质量份的作为硅烷偶联剂的n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷的10质量％的甲苯溶液及200质量份的甲苯加以混合，进行搅拌并进行2小时的回流。其后，在10mmhg下将甲苯减压馏去，并在135℃下进行2小时的焙烤表面处理。

将经表面处理的氧化锌：33质量份、封端化异氰酸酯(商品名：苏米都(sumidur)3175，住友拜耳聚氨酯(bayerurethane)公司制造)：6质量份、作为电子接受性化合物的下述结构式(ak-1)所表示的化合物：1质量份、甲基乙基酮：25质量份混合30分钟，其后，添加丁缩醛树脂(商品名：埃斯莱克(s-lec)bm-1，积水化学工业公司制造)：5质量份、硅酮球(商品名：托斯帕尔(tospearl)120，迈图高新材料(momentiveperformancematerials)公司制造)：3质量份、作为流平剂的硅油(商品名：sh29pa，东丽道康宁硅酮公司制造)：0.01质量份，利用砂磨机进行3小时的分散，从而获得底涂层形成用涂布液。

进而，利用浸渍涂布法将底涂层形成用涂布液涂布于直径30mm、长度365mm、壁厚1mm的铝基材上，在180℃下进行30分钟的干燥硬化，从而获得厚度25μm的底涂层。

继而，将包含作为电荷产生材料的羟基镓酞菁颜料(hogapc)、作为粘结树脂的氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸共聚物(下述式(4)所表示的共聚物，式(4)中的l、m及n表示表1中所示的各构成单元的比例(摩尔％))及丙酮的混合物与1mmφ玻璃珠(填充率50％)一起放入至容量100ml玻璃瓶中，使用涂料搅拌器(paintshaker)分散处理2.5小时，从而获得电荷产生层形成用涂布液。

这里，相对于电荷产生层形成用涂布液中所含的羟基镓酞菁颜料与氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸共聚物的合计，将羟基镓酞菁颜料的含有率设为55.0体积％，将分散液(即，电荷产生层形成用涂布液)的固体成分浓度设为6.0质量％。

再者，所述羟基镓酞菁颜料为在使用cukα特性x射线的x射线衍射光谱的布拉格角度(2θ±0.2°)至少为7.3°、16.0°、24.9°、28.0°的位置具有衍射峰值的v型的羟基镓酞菁颜料(600nm以上且900nm以下的波长域下的分光吸收光谱中的最大峰值波长＝820nm，平均粒径＝0.12μm、最大粒径＝0.2μm、比表面积值＝60m²/g)。

将所获得的电荷产生层形成用涂布液浸渍涂布于底涂层上，并在150℃下干燥5分钟，从而形成膜厚0.14μm的电荷产生层。

继而，将12质量份的下述结构式(ct1a)所表示的电荷传输材料、28质量份的下述结构式(ct2a)所表示的电荷传输材料及60质量份的双酚z型聚碳酸酯树脂(分子量4万)添加至340质量份的四氢呋喃中并加以溶解，从而获得电荷传输层形成用涂布液。

将所获得的电荷传输层形成用涂布液浸渍涂布于电荷产生层上，并在150℃下进行40分钟的干燥，由此形成膜厚40μm的电荷传输层。

经过以上的工序而获得实施例1的电子照相感光体。

＜实施例2～实施例5＞

除如表1所示般变更用于制备电荷产生层形成用涂布液的氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸共聚物(式(4)所表示的共聚物)中的各构成单元的比例以外，与实施例1同样地获得电子照相感光体。

＜实施例6～实施例10＞

除将用于制备电荷产生层形成用涂布液的电荷产生材料的种类变更为氯镓酞菁颜料(clgapc)以外，分别与实施例1～实施例5同样地获得电子照相感光体。

＜实施例11～实施例15＞

除将用于制备电荷产生层形成用涂布液的电荷产生材料的种类变更为氧钛酞菁颜料(tiopc)以外，分别与实施例1～实施例5同样地获得电子照相感光体。

＜实施例16～实施例17＞

除如表1所示般变更用于制备电荷产生层形成用涂布液的氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸共聚物(式(4)所表示的共聚物)中的各构成单元的比例以外，与实施例1同样地获得电子照相感光体。

＜比较例1～比较例4＞

除如表1所示般变更用于制备电荷产生层形成用涂布液的氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸共聚物(式(4)所表示的共聚物)中的各构成单元的比例以外，与实施例1同样地获得电子照相感光体。

＜比较例5～比较例8＞

除将用于制备电荷产生层形成用涂布液的电荷产生材料的种类变更为氯镓酞菁颜料(clgapc)以外，分别与比较例1～比较例4同样地获得电子照相感光体。

＜比较例9～比较例12＞

除将用于制备电荷产生层形成用涂布液的电荷产生材料的种类变更为氧钛酞菁颜料(tiopc)以外，分别与比较例1～比较例4同样地获得电子照相感光体。

＜比较例13～比较例17＞

除如表1所示般变更用于制备电荷产生层形成用涂布液的氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸共聚物(式(4)所表示的共聚物)中的各构成单元的比例以外，与实施例1同样地获得电子照相感光体。

＜评价＞

将各例中所获得的电子照相感光体搭载于电子照相方式的图像形成装置(富士施乐(fujixerox)公司制造：艾配欧斯波特(apeosport)-vc7776)上，相对于a3尺寸的纸张，将1cm见方的正方形100％黑图像输出至相当于第1循环的区域(自纸张前端起至147mm处)后，对距纸张前端147mm以后的相当于第2循环的区域输出一枚图像浓度20％的全面半色调(halftone)图像(青(cyan)色的全面半色调图像)。

然后，对所输出的全面半色调图像进行观察，针对1cm见方的正方形与周围的浓度差(正象重影)，通过目视来实施官能评价(等级判定)。等级判定是在g0～g5内以1g为单位进行，g的数字越小，表示浓度差越小，从而不产生正象重影。正象重影的容许等级为g3以下。

再者，图像输出全部在10℃、15％rh的环境下实施。将结果示于表3中。

表3

根据所述结果可知，本实施例的电子照相感光体与比较例的电子照相感光体相比，由正象重影引起的图像缺陷得到了抑制。