1.一种石墨烯增强吸收的金属微纳结构,其特征在于:所述金属微纳结构是在基底层上从下到上依次设置有第一金属层、二氧化硅层、第二金属层和第一石墨烯薄膜层;所述基底层由硅或二氧化硅材料制成;
所述第一金属层和第二金属层由金或银材料制成。
2.由权利要求1所述的金属微纳结构,其特征在于:所述第一石墨烯薄膜层为1~3层石墨烯薄膜。
3.由权利要求2所述的金属微纳结构,其特征在于:所述第一金属层和第二金属层的厚度均为10~50nm,二氧化硅层的厚度为20~50nm。
4.由权利要求2和3所述任一金属微纳结构的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤1,准备基底并清洗干净,烘干待用;
步骤2,将步骤1中得到的基底,用双面胶粘在样品台上,用电子束蒸发镀膜的方法垂直蒸镀第一金属层;
步骤3,步骤2中第一金属层蒸镀完成后,置换靶材,继续使用电子束蒸发镀膜的方法垂直蒸镀二氧化硅层;
步骤4,步骤3中二氧化硅层蒸镀完成后,置换靶材,再次使用电子束蒸发镀膜的方法垂直蒸镀第二金属层;
步骤5,将步骤4中蒸镀完成后,在制备好的样品上平铺石墨烯薄膜;
步骤6,将步骤5得到的样品烘干,即制得石墨烯增强吸收的金属微纳结构。
5.由权利要求4所述的制备方法,其特征在于:步骤2中在进行电子束蒸发镀膜时,控制样品台倾斜86°,蒸镀速率为0.5a/s;
所述步骤3中在进行电子束蒸发镀膜时,控制样品台倾斜90°,蒸镀速率为0.5a/s;
所述步骤4中在进行电子束蒸发镀膜时,控制样品台倾斜86°,蒸镀速率为0.5a/s。
6.由权利要求2所述的金属微纳结构,其特征在于:所述第一石墨烯薄膜层上还设有二氧化钛薄膜层。
7.由权利要求1所述的金属微纳结构,其特征在于:所述基底层与第一金属层之间还设有一层第二石墨烯薄膜层。
8.由权利要求7所述的金属微纳结构,其特征在于:所述二氧化硅层上还设有一透明导电薄膜层,在透明导电薄膜层和第二金属层之间设有一介质层。
9.由权利要求8所述的金属微纳结构,其特征在于:所述第一金属层和第二金属层上分别设有触点,通过触点连接外电路;所述外电路电压可调。