1.一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置，其特征在于：所述的一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置包括机架、底板、加热装置、压印装置、涂胶装置一、涂胶装置二、热处理装置、放卷辊一、放卷辊二、收卷装置，其中机架通过螺钉连接在底板上，涂胶装置一和涂胶装置二均通过螺钉固定在机架上，压印装置通过轴承配合在机架上，加热装置通过螺钉固定于机架上，热处理装置通过螺钉固定于机架上，放卷辊一、放卷辊二和收卷装置均通过轴承配合在机架上。
2.根据权利要求1中所述的一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置，其特征在于：所述的加热装置包括加热辊一、加热辊二和加热辊三，其中加热辊一、加热辊二和加热辊三均通过螺钉固定在机架上，且都可以调节温度。
3.根据权利要求1中所述的一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置，其特征在于：所述的压印装置包括压印辊一、压印辊二、压印辊三、衬底一、衬底二、支撑辊、伺服电机一、伺服电机二、伺服电机三，其中压印辊一、压印辊二、压印辊三和支撑辊均通过轴承配合在机架上，衬底一由放卷辊一放出，衬底二由放卷辊二放出，伺服电机一通过螺钉固定在机架上，且伺服电机一与压印辊一连接，伺服电机二通过螺钉固定在机架上，且伺服电机二与压印辊二连接，伺服电机三通过螺钉固定在机架上，且伺服电机三与压印辊三连接。
4.根据权利要求3中所述的一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置，其特征在于：所述的压印辊一、压印辊二上分别有微纳结构不同的模板图案，其中压印辊一上的模板一为纵向光栅结构，压印辊二上的模板二为横向光栅结构。
5.根据权利要求1中所述的一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置，其特征在于：所述的涂胶装置一包括涂胶箱一和涂胶辊一，其中涂胶辊一通过轴承配合于涂胶箱一上，涂胶箱一与机架通过螺钉连接，涂胶箱一中有光刻胶。
6.根据权利要求1中所述的一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置，其特征在于：所述的涂胶装置二包括涂胶箱二和涂胶辊二，其中涂胶辊二通过轴承配合于涂胶箱二上，涂胶箱二与机架通过螺钉连接，涂胶箱二中有光刻胶。
7.根据权利要求1中所述的一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置，其特征在于：所述的热处理装置包括热处理装置一和热处理装置二，其中热处理装置一和热处理装置二均可以调节温度，热处理装置一和热处理装置二均通过螺钉固定于机架上。
8.根据权利要求1中所述的一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置，其特征在于：所述的收卷装置包括收卷辊一、收卷辊二、伺服电机四，伺服电机五，收卷辊一、收卷辊二通过轴承配合在机架上，伺服电机四通过螺钉固定在机架上，且伺服电机四与收卷辊一连接，伺服电机五通过螺钉固定在机架上，且伺服电机五与收卷辊二连接。
9.根据权利要求1-8所述的一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置的压印方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）首先收卷辊一卷收衬底一，带动放卷辊一放出衬底一，涂胶装置一将压印胶苄基硫醇钯均匀涂抹到衬底一表面，涂完胶之后衬底一移动到压印辊一正下方，压印辊一随着衬底一移动同步旋转，使压印辊一表面的图案转移到衬底一表面的压印胶上，随后衬底一通过热处理装置一并对衬底一进行250℃高温处理一小时，使苄基硫醇钯光栅转化为金属钯光栅；
（2）在衬底一开始运动的同时，同步放出衬底二，衬底二通过涂胶装置二，涂胶装置二将压印胶苄基硫醇钯均匀涂抹到衬底二表面，涂完胶之后衬底二移动到压印辊二正下方，压印辊二随着衬底二移动同步旋转，使压印辊二表面的图案转移到衬底二表面的压印胶上；
（3）衬底二经过压印辊三翻转后与衬底一上下交叠，加热辊三将衬底一与衬底二加热至130℃，压印辊三施加向下的25pa压力，对其进行压印，衬底二表面的苄基硫醇钯光栅脱离衬底二粘附到衬底一的光栅上，随后衬底一通过热处理装置二，热处理装置二对衬底一进行250℃高温处理一小时，使上层的苄基硫醇钯光栅也转化为金属钯光栅，得到超疏水微结构；
（4）伺服电机四带动收卷辊一将带有微结构的衬底一卷起，伺服电机五带动收卷辊二将衬底二卷起。