技术总结
本发明涉及一种真空系统及使用该真空系统的浸没式光刻机。本发明包括气液分离罐，气液两相流在气液分离罐内分离为气相和液相流体，并分别沿两条流路流动；输送气体和液体的两条流路汇合连通后再由真空源统一抽排，在输送气体或者液体的流路上设置控制阀，根据气液分离罐或者附属流路内的压力进行反馈调节，保证向抽排端口输出的真空压力稳定；本发明解决了高精度真空调节器不宜接触液体的技术问题，能够使用较少的流控器件实现真空压力的高精度控制，降低了系统的复杂度和成本，尤其适用于对含液量较少的气液两相流的抽排。于对含液量较少的气液两相流的抽排。于对含液量较少的气液两相流的抽排。
技术研发人员：嵇佳 李元 杜亮 张颖 徐宁 付婧媛 付新
受保护的技术使用者：浙江启尔机电技术有限公司
技术研发日：2020.12.30
技术公布日：2021/4/20