技术总结
本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。可以得到任意三维微纳形貌结构。可以得到任意三维微纳形貌结构。
技术研发人员：陈林森 浦东林 张瑾 朱鸣 朱鹏飞 乔文 朱昊枢 刘晓宁 邵仁锦 杨颖
受保护的技术使用者：苏州大学
技术研发日：2021.03.12
技术公布日：2021/4/20